烏魯木齊濺射鍍膜機(jī)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-11-14

真空鍍膜的離子鍍,蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面,稱為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖],將基片臺(tái)作為陰極,外殼作陽極,充入惰性氣體(如氬)以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時(shí)發(fā)生電離。正離子被基片臺(tái)負(fù)電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子(約占蒸發(fā)料的95%)也沉積在基片或真空室壁表面。電場(chǎng)對(duì)離化的蒸氣分子的加速作用(離子能量約幾百~幾千電子伏)和氬離子對(duì)基片的濺射清洗作用,使膜層附著強(qiáng)度提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附著力)工藝的特點(diǎn),并有很好的繞射性,可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。PVD鍍膜與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜相似,它們都是一種材料以某種方式被另一種材料覆蓋的表面處理方式。烏魯木齊濺射鍍膜機(jī)

隨著人們生活水平的不斷提高,對(duì)各種工藝品、建材、家具、電子產(chǎn)品、汽車、玩具、燈具等的表面裝飾提出了越來越高的要求。對(duì)非金屬物件表面金屬化或金屬物件表面美觀化,傳統(tǒng)上通常采用電鍍的方法。但由于傳統(tǒng)電鍍毒性大,三廢污染特別嚴(yán)重,在人們環(huán)保意識(shí)逐步加強(qiáng)的現(xiàn)在,它的發(fā)展,已受到了各方各面的制約。真空鍍膜技術(shù)是近年發(fā)展起來的一項(xiàng)新技術(shù)。它的原理是金屬固體(如鋁線等)在高真空狀態(tài)下受熱氣化,再以分子或原子形態(tài)沉積在基材表面,從而在鍍件表面形成一層薄薄的金屬膜。由于金屬氣化后均勻地分布于鍍膜機(jī)腔體內(nèi),所以,通常情況下,鍍件表面形成的金屬膜七分均勻。真空鍍膜的蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜。磁控多弧鍍膜機(jī)廠家常見的真空室多是單門開啟,蒸發(fā)器仍在鍍膜室內(nèi)。

真空鍍膜過程簡(jiǎn)單來說就是電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。但在實(shí)際放電直流濺射系統(tǒng)中,自持放電很難在低于1.3Pa的條件下維持,這是因?yàn)樵谶@種條件下沒有足夠的離化碰撞。因此在低于1.3~2.7Pa壓強(qiáng)下運(yùn)行的濺射系統(tǒng)提高離化碰撞就顯得尤為重要。提高離化碰撞的方法要么靠額外的電子源來提供,而不是靠陰極發(fā)射出來的二次電子;要么就是利用高頻放電裝置或者施加磁場(chǎng)的方式提高已有電子的離化效率。

鍍膜技術(shù)在裝飾品方面的應(yīng)用有:隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展和生活水平的提高,人們喜歡將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室內(nèi)外裝飾件、五金箱包、手機(jī)殼、手機(jī)視屏、衛(wèi)生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五彩繽紛。鍍膜技術(shù)在刀具、模具等金屬切削加工工具方面的應(yīng)用:在生活中我們會(huì)看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等,這些就是經(jīng)過鍍膜技術(shù)加工后的涂層工具。金黃色的是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN涂層。TiN是第1代應(yīng)用普遍的硬質(zhì)層材料。黑色的是在切削工具上涂了TiC、CrN涂層。鈷銅色的是在刀具上鍍涂了TiALN涂層。鍍膜技術(shù)在建筑玻璃和汽車玻璃上的應(yīng)用:建筑玻璃有透光和隔熱兩個(gè)基本功能。

真空鍍膜機(jī)的常見污染:油脂:加工、裝配、操作時(shí)沾染上的潤(rùn)滑劑、切削液、真空油脂等;酸、堿、鹽類物質(zhì):清洗時(shí)的殘余物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等;表面氧化物:材料長(zhǎng)期放置在空氣中或放置在潮濕空氣中所形成的表面氧化物;水基類:操作時(shí)的手汗、吹氣時(shí)的水汽、唾液等;拋光殘?jiān)嗏c、包裝中的膠、環(huán)境空氣中的塵埃和其它有機(jī)物等。前期到位的清洗工作可以減少許多麻煩,避免許多小問題的發(fā)生,對(duì)工作效率、真空鍍膜機(jī)鍍膜質(zhì)量都具有十分積極的作用。可提高真空系統(tǒng)中所有器壁和其它組件表面在各工作條件下的工作穩(wěn)定性。清洗這些污染物的目的是為了改進(jìn)真空鍍膜機(jī)的工作穩(wěn)定性,使工作能夠更加順利的進(jìn)行。真空鍍膜屬干式鍍膜,沒有有害液體、氣體的產(chǎn)生。pvd一體式鍍膜機(jī)哪里有賣

鍍膜機(jī)在電子產(chǎn)品領(lǐng)域的應(yīng)用:液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示、手機(jī)顯示、數(shù)碼相機(jī)和掌聲電腦等。烏魯木齊濺射鍍膜機(jī)

真空鍍膜系統(tǒng)用于真空鍍膜產(chǎn)品,在現(xiàn)有的真空鍍膜系統(tǒng)中,由于鍍膜材料濃度上升緩慢,低濃度霧化鍍膜材料的鍍膜效率低,導(dǎo)致鍍膜時(shí)間長(zhǎng),而高濃度霧化鍍膜材料的鍍膜時(shí)間短,但會(huì)造成大量浪費(fèi)。涂層本身用于改變工件的表面特性。為了使工件表面獲得多種不同的性能,往往需要對(duì)鍍膜機(jī)工件進(jìn)行多次涂覆。對(duì)于真空鍍膜機(jī),可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶,將表面組炸成原子團(tuán)或離子形式,沉積在基板表面,經(jīng)過薄膜形成過程,形成薄膜。爐體可以選擇不銹鋼、碳鋼或它們組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。烏魯木齊濺射鍍膜機(jī)

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