真空鍍膜價(jià)格

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-01-10

真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外,其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn):1、蒸發(fā)或?yàn)R射出來的制膜材料,在與待鍍的工件生成薄膜的過程中,對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較精確的測量和控制,從而保證膜厚的均勻性。每種薄膜都可以通過微調(diào)閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分?jǐn)?shù),從而防止蒸鍍材料的氧化,把氧的質(zhì)量分?jǐn)?shù)降低到較小的程度,還可以充入惰性氣體等,這對(duì)于濕式鍍膜而言是無法實(shí)現(xiàn)的。2、由于鍍膜設(shè)備的不斷改進(jìn),鍍膜過程可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)化,從而提高產(chǎn)品的產(chǎn)量,而且在生產(chǎn)過程中對(duì)環(huán)境無污染。3、由于在真空條件下制膜,所以薄膜的純度高、密實(shí)性好、表面光亮不需要再加工,這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。真空鍍膜過程中,鍍膜質(zhì)量的好壞很大程度上取決于底涂層的質(zhì)量。真空鍍膜價(jià)格

真空鍍膜技術(shù)在塑料制品的應(yīng)用上非常廣。塑料具有易成型,成本低,質(zhì)量輕,不腐蝕等特點(diǎn),塑料制品應(yīng)用范圍廣,但因其缺點(diǎn)制約了擴(kuò)大應(yīng)用,如不美觀、易老化、機(jī)械性能差、耐熱差、吸水率高等。通過真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用,使塑料表面金屬化,將有機(jī)材料和無機(jī)材料結(jié)合起來,提高了它的物理、化學(xué)性能。其優(yōu)點(diǎn)主要表現(xiàn)在改善美觀,表面光滑,金屬光澤彩色化,裝飾性提高;改善表面硬度,原塑膠表面比金屬軟而易受損害,通過真空鍍膜,硬度及耐磨性增加;提高耐候性,一般塑料在室外老化很快,主要原因是紫外線照射所致,而鍍鋁后,鋁對(duì)紫外線反射較強(qiáng),因此,耐候性提高;減少吸水率,鍍膜次數(shù)愈多,孔愈少,吸水率降低,使得制品不易變形,提高耐熱性;使塑料表面有導(dǎo)電性:容易清洗,不吸塵。西藏鋁材真空鍍膜真空鍍膜過程簡單來說就是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞。

真空鍍膜是由專門的真空鍍膜機(jī)完成的,其工作流程及原理為:基片通過鍍膜機(jī)的機(jī)械手的搬運(yùn),進(jìn)入到鍍膜機(jī)的真空腔體里,經(jīng)過高壓電離的氬離子在強(qiáng)電場及強(qiáng)磁場的作用下,產(chǎn)生高速運(yùn)動(dòng),轟擊靶材表面,激發(fā)出的金屬離子附著在基片表面,形成一層反射膜?;A(chǔ)的真空鍍膜知識(shí):1.真空:用真空泵抽掉容器中的氣體,使空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓的氣體狀態(tài),也就是該空間的氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。2.真空中殘存氣體的稀薄程度,就是真空程度的高低,即真空度。通常用壓力表示單位(Pa)。3.1Pa就是1m2面積上作用1N的壓力。1大氣壓=1.03×105Pa。4.壓升率:單位時(shí)間內(nèi),真空度降低的速率。單位:Pa/h。5.真空泵的抽氣簡稱抽速)(單位:L/S):當(dāng)泵裝有標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)罩并按規(guī)定條件工作時(shí),從試驗(yàn)罩流過的氣體流量與在試驗(yàn)罩上指定位置測得的平衡壓力之比。6.極限真空度:(單位:Pa):在規(guī)定條件工作,在不引入氣體正常工作的情況下,趨向平穩(wěn)的較低的壓強(qiáng)。

真空鍍膜的離子鍍,蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面,稱為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖],將基片臺(tái)作為陰極,外殼作陽極,充入惰性氣體(如氬)以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時(shí)發(fā)生電離。正離子被基片臺(tái)負(fù)電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子(約占蒸發(fā)料的95%)也沉積在基片或真空室壁表面。電場對(duì)離化的蒸氣分子的加速作用(離子能量約幾百~幾千電子伏)和氬離子對(duì)基片的濺射清洗作用,使膜層附著強(qiáng)度提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附著力)工藝的特點(diǎn),并有很好的繞射性,可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。真空鍍膜設(shè)備每完成200個(gè)鍍膜程序以上,應(yīng)清潔工作室一次。

真空鍍膜的用途:制造工具,薄膜涂層是制造工具的理想選擇,因?yàn)樗鼈兛梢猿惺軜O其惡劣的條件,而不會(huì)使工具超出公差范圍。請(qǐng)記住,涂層被設(shè)計(jì)成了部分的工具。它不是裝飾品,這意味著它不會(huì)隨著時(shí)間的流逝而磨損或使關(guān)鍵部分失去耐受性。這對(duì)制造業(yè)至關(guān)重要。如果工具超出容差范圍,則會(huì)造成瓶頸和連鎖反應(yīng),對(duì)整個(gè)組織產(chǎn)生負(fù)面影響。航天,如果零件要以每小時(shí)600英里以上的速度飛過天空,盡量是耐磨的。真空涂層是航空航天部件的關(guān)鍵部件,可承受高溫、摩擦和惡劣環(huán)境。汽車,刺耳的剎車聲、腐蝕、生銹、橡膠與金屬的粘合問題以及發(fā)動(dòng)機(jī)部件過熱……這些都是強(qiáng)大的真空涂層可以幫助解決汽車零件的一些問題。您可以涂覆轉(zhuǎn)向柱組件、排氣墊圈、制動(dòng)夾和許多其他部件。真空鍍膜技術(shù)是在真空條件下采用物理或化學(xué)方法,使物體表面獲得所需的涂層。西藏鋁材真空鍍膜

真空鍍膜主要分類有兩個(gè)大種類:蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜。真空鍍膜價(jià)格

真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項(xiàng)技術(shù)用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片,如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片等。后延伸到其他功能薄膜,唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。如手表外殼鍍仿金色,機(jī)械刀具鍍膜,改變加工紅硬性。在真空中制備膜層,包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜價(jià)格

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