真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得極廣的應(yīng)用.真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物理的氣相沉積工藝.因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化.廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜.在所有被鍍材料中，以塑料更為常見，其次，為紙張鍍膜。相對于金屬、陶瓷、木材等材料，塑料具有來源充足、性能易于調(diào)控、加工方便等優(yōu)勢，因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料，大量應(yīng)用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領(lǐng)域。相對于傳統(tǒng)鍍膜方式，真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜。昆明pvd真空鍍膜廠
真空鍍膜機的安全操作注意事項：1、設(shè)備中途停氣時，應(yīng)立即關(guān)閉擴散泵、粗抽泵、羅茨泵，讓維持泵繼續(xù)運行；2、設(shè)備中途停電時，應(yīng)立即關(guān)總電源，后關(guān)擴散泵、粗抽泵、維持泵；3、擴散泵加熱時，避免身體接觸擴散泵加熱爐、以免燙傷；4、工件旋轉(zhuǎn)時，禁止一切作業(yè)；應(yīng)待工件完全停止轉(zhuǎn)動后，才可進(jìn)行上下滾筒作業(yè)；5、電鍍作業(yè)完成后，需要打開門時，應(yīng)有作業(yè)人員扶住拉手，緩慢的將門打開，并將插銷插入固定孔中；6、真空電鍍機操作人員必須嚴(yán)格按設(shè)備操作指導(dǎo)書和安全操作規(guī)程進(jìn)行作業(yè)，注意設(shè)備本身及設(shè)備運行中的安全，特別要重視安全裝置的檢查與使用。昆明pvd真空鍍膜廠真空鍍膜技術(shù)中所采用的鍍膜方法主要有：真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、及分子束外延和化學(xué)汽相沉積鍍等多種。
真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點：1、蒸發(fā)或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進(jìn)行比較精確的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。每種薄膜都可以通過微調(diào)閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分?jǐn)?shù)，從而防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質(zhì)量分?jǐn)?shù)降低到較小的程度，還可以充入惰性氣體等，這對于濕式鍍膜而言是無法實現(xiàn)的。2、由于鍍膜設(shè)備的不斷改進(jìn)，鍍膜過程可以實現(xiàn)連續(xù)化，從而提高產(chǎn)品的產(chǎn)量，而且在生產(chǎn)過程中對環(huán)境無污染。3、由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。
真空鍍膜和光學(xué)鍍膜有什么區(qū)別？概念的區(qū)別：1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。2、光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。原理的區(qū)別：1、真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或濺射，使其在涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。2、光的干涉在薄膜光學(xué)中有較廣的應(yīng)用。光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為增透膜或減反射膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。
真空鍍膜中二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該電子的運動路徑很長，在運動過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠(yuǎn)離靶材，沉積在基片上。真空鍍膜就是以磁場束縛而延長電子的運動路徑，改變電子的運動方向，提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不只是基片，真空室內(nèi)壁及靶源陽極也是電子歸宿，因為一般基片與真空室及陽極在同一電勢。磁場與電場的交互作用(EXBdrift)使單個電子軌跡呈三維螺旋狀，而不是只在靶面圓周運動。真空鍍膜較為常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點是加熱源的結(jié)構(gòu)簡單，造價低廉，操作方便。遼寧間電真空鍍膜
真空鍍膜過程中，鍍膜質(zhì)量的好壞很大程度上取決于底涂層的質(zhì)量。昆明pvd真空鍍膜廠
真空鍍膜技術(shù)是近年發(fā)展起來的一項新技術(shù)。它的原理是金屬固體(如鋁線等)在高真空狀態(tài)下受熱氣化，再以分子或原子形態(tài)沉積在基材表面，從而在鍍件表面形成一層薄薄的金屬膜。由于金屬氣化后均勻地分布于鍍膜機腔體內(nèi)，所以，通常情況下，鍍件表面形成的金屬膜七分均勻。真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展與真空鍍膜油的開發(fā)成功是密不可分的。從某種意義上，我們甚至可以說，沒有真空鍍膜油就沒有真空鍍膜。這是由真空鍍膜油的作用所決定的。在真空鍍膜的過程中，鍍膜油起著牢固粘結(jié)鍍件與金屬膜的作用(即作為鍍件的底涂層)；真空鍍膜后，須在鍍件表面涂上一層鍍膜油，這時該油又起著保護(hù)金屬膜、染色等作用(即作為鍍件的面涂層)。大部份材料在進(jìn)行鍍膜之前，都必須在鍍件表面涂上一層薄薄的鍍膜油，徹底干燥之后再行鍍膜，否則，鍍上的金屬膜極易脫落，輕輕用手即可擦掉。真空鍍膜過程中，鍍膜質(zhì)量的好壞很大程度上取決于底涂層的質(zhì)量。昆明pvd真空鍍膜廠
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