北京真空鍍膜的原理

真空鍍膜工藝流程：1、表面處理：通常，鍍膜之前，應(yīng)對(duì)基材(鍍件)進(jìn)行除油、除塵等預(yù)處理，以保證鍍件的整潔、干燥，避免底涂層出現(xiàn)麻點(diǎn)、附著力差等缺點(diǎn)。對(duì)于特殊材料，如PE(聚乙烯)料等，還應(yīng)對(duì)其進(jìn)行改性，以達(dá)到鍍膜的預(yù)期效果。2、底涂：底涂施工時(shí)，可以采用噴涂，也可采用浸涂，具體應(yīng)視鍍件大小、形狀、結(jié)構(gòu)及用戶設(shè)備等具體情況及客戶的質(zhì)量要求而定。采用噴涂方法，可采用鍍膜油；采用浸涂方法，具體應(yīng)視鍍件材料而定。3、底涂烘干：鍍膜油系列均為自干型漆，烘干的目的是為了提高生產(chǎn)效率。通常烘干的溫度為60-70oC，時(shí)間約2小時(shí)。烘干完成的要求是漆膜完全干燥。4、鍍膜：鍍膜時(shí)，應(yīng)保證鍍膜機(jī)的真空度達(dá)到要求后，再加熱鎢絲，并嚴(yán)格控制加熱時(shí)間。同時(shí)應(yīng)掌握好鍍膜用金屬(如鋁線)的量，太少可能導(dǎo)致金屬膜遮蓋不住底材，太多則除了浪費(fèi)外，還會(huì)影響鎢絲壽命和鍍膜質(zhì)量。真空電鍍是真空鍍膜工藝的一項(xiàng)新發(fā)展。北京真空鍍膜的原理

真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動(dòng)能量超過(guò)表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)的作用下的高速運(yùn)動(dòng)轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來(lái)而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點(diǎn)是加熱源的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，造價(jià)低廉，操作方便；缺點(diǎn)是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點(diǎn)。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對(duì)被轟擊材料加熱，電子束的動(dòng)能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價(jià)很高，目前只能在少數(shù)研究性實(shí)驗(yàn)室中使用。北京真空鍍膜的原理真空鍍膜對(duì)鋼材的摩擦系數(shù)在0.01～0.6之間。

真空鍍膜材料技術(shù)與濕式鍍膜材料技術(shù)相比具有明顯優(yōu)點(diǎn)：1、膜材和基體選材廣，膜的厚度可以進(jìn)行控制以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。2、真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，膜不易受到污染，因此，可獲得致密性好、純度高、膜層均勻的膜。3、與基體附著強(qiáng)度好，膜層牢固。4、真空鍍膜無(wú)環(huán)境污染。真空鍍膜技術(shù)在電子學(xué)等方面主要用來(lái)制造電阻和電容元件。用真空鍍膜代替電久工藝，不但能節(jié)省大量的膜材和降低能耗，而且還會(huì)消除濕法鍍膜中所產(chǎn)生的污染。因此，在國(guó)內(nèi)外已大量使用真空鍍代替電鍍?yōu)殇撹F零件涂要防腐層和保護(hù)膜，冶金工業(yè)也用來(lái)為鋼板和帶鋼加鍍鋁防護(hù)層。

真空蒸發(fā)，濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理的氣相沉積法，是基本的薄膜制備技術(shù)。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以，真空技術(shù)是薄膜制作技術(shù)的基礎(chǔ)，獲得并保持所需的真空環(huán)境，是鍍膜的必要條件。真空系統(tǒng)的種類繁多。在實(shí)際工作中，必須根據(jù)自己的工作重點(diǎn)進(jìn)行選擇。典型的真空系統(tǒng)包括：獲得真空的設(shè)備（真空泵），待抽空的容器（真空室），測(cè)量真空的器具（真空計(jì)）以及必要的管道，閥門(mén)和其它附屬設(shè)備。真空蒸發(fā)鍍膜法是在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入射到固體（稱為襯底或基片）表面，凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。真空鍍膜具有耐高溫特性，可密封漆面，隔絕空氣紫外線等的氧化變色問(wèn)題。

真空鍍膜工藝基材表面的清潔和處理非常重要，基材表面污染來(lái)自各種灰塵、拋光膏、油、汗?jié)n等附著在零件加工、傳輸、包裝過(guò)程中的物品、濕空氣中產(chǎn)生的氧化膜、吸收和吸附的氣體。這些污垢基本上可以通過(guò)去除油或化學(xué)清洗來(lái)去除。真空鍍膜工藝對(duì)基材潔凈度的要求：所謂的常規(guī)真空I藝是指沒(méi)有特殊要求的真空工藝過(guò)程，它們都不能有堆積的污染源。1.真空環(huán)境中的所有部件都要求無(wú)灰塵、鐵屑、銹蝕；2.真空電鍍過(guò)程中基材外觀應(yīng)光滑，無(wú)軟組織、氣孔、內(nèi)焊等影響真空環(huán)境的缺陷；3.真空室內(nèi)運(yùn)動(dòng)部件不得使用機(jī)油作為潤(rùn)滑劑，真空設(shè)備應(yīng)使用飽和蒸氣壓低的擴(kuò)散泵油和硅油作為潤(rùn)滑劑；4.真空室內(nèi)相對(duì)濕度不高于清潔空氣循環(huán)環(huán)境的70%。真空鍍膜工藝可使塑料表面具有金屬質(zhì)感，并賦予一定的導(dǎo)電性能。呼和浩特五金真空鍍膜廠

真空鍍膜可以使原料具有許多新的、高質(zhì)量的物理和分析化學(xué)特征。北京真空鍍膜的原理

真空鍍膜的定義：在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)(或?yàn)R射)，使其沉積在被涂覆的物體(稱基片、基板或基體)上的方法稱為真空鍍膜法。真空蒸鍍簡(jiǎn)稱蒸鍍，是在真空條件下，用一定的方法加熱鍍膜材料(簡(jiǎn)稱膜料)使之氣化，并沉積在工件表面形成固態(tài)薄膜。以動(dòng)量傳遞的方法，用荷能粒子轟擊材料表面，使其表面原子獲得足夠的能量而飛逸出來(lái)的過(guò)程稱為濺射。磁控濺射是一一種高濺射速率、低基片加熱的濺射技術(shù)，稱為高速低溫濺射技術(shù)。離子鍍膜技術(shù)簡(jiǎn)稱離子鍍，離子鍍是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí)把蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在基片上。北京真空鍍膜的原理

蘇州方昇光電股份有限公司是以有機(jī)-金屬真空熱蒸鍍儀，真空鍍膜設(shè)備，蒸鍍機(jī)，鍍膜機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)為一體的設(shè)計(jì)、研發(fā)、生產(chǎn)、銷售：光電工藝設(shè)備、光電實(shí)驗(yàn)設(shè)備及其零配件和治具、有機(jī)發(fā)光半導(dǎo)體照明器具、新型平板顯示器件、太陽(yáng)能電池及相關(guān)產(chǎn)品、照明燈具、微納米材料、涂層材料、光電原材料、軟件、計(jì)算機(jī)、系統(tǒng)集成產(chǎn)品，并提供相關(guān)技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)咨詢及技術(shù)服務(wù)；從事上述商品和技術(shù)的進(jìn)出口；企業(yè)管理及咨詢、會(huì)務(wù)服務(wù)；機(jī)械、辦公設(shè)備租賃；房屋維修、機(jī)械設(shè)備上門(mén)維修、儀器儀表上門(mén)維修。企業(yè)，公司成立于2008-10-24，地址在蘇州金雞湖大道99號(hào)蘇州納米城中23幢214室。至創(chuàng)始至今，公司已經(jīng)頗有規(guī)模。公司主要產(chǎn)品有有機(jī)-金屬真空熱蒸鍍儀，真空鍍膜設(shè)備，蒸鍍機(jī)，鍍膜機(jī)等，公司工程技術(shù)人員、行政管理人員、產(chǎn)品制造及售后服務(wù)人員均有多年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。并與上下游企業(yè)保持密切的合作關(guān)系。方昇光電以符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的產(chǎn)品質(zhì)量為目標(biāo)，并始終如一地堅(jiān)守這一原則，正是這種高標(biāo)準(zhǔn)的自我要求，產(chǎn)品獲得市場(chǎng)及消費(fèi)者的高度認(rèn)可。蘇州方昇光電股份有限公司通過(guò)多年的深耕細(xì)作，企業(yè)已通過(guò)機(jī)械及行業(yè)設(shè)備質(zhì)量體系認(rèn)證，確保公司各類產(chǎn)品以高技術(shù)、高性能、高精密度服務(wù)于廣大客戶。歡迎各界朋友蒞臨參觀、 指導(dǎo)和業(yè)務(wù)洽談。