2. 制備方法a. 粉末冶金法 這是制備鎢靶材**傳統(tǒng)也**常用的方法。首先將鎢粉進行壓制成型,然后在氫氣氛圍中高溫?zé)Y(jié)。這個過程可以產(chǎn)生高純度、高密度的鎢靶材,但其制品往往需要后續(xù)的加工以滿足特定的尺寸和形狀要求。b. 濺射靶材制備 濺射是一種在真空中利用離子轟擊的方法,將鎢材料沉積到一個基底上形成薄膜。這種方法對于制備高純度、精細(xì)結(jié)構(gòu)的鎢薄膜靶材特別有效。適用于需要非常平整和均勻表面的應(yīng)用,如半導(dǎo)體制造。c. 熱等靜壓技術(shù) 熱等靜壓(HIP)技術(shù)通過同時施加高溫和高壓來對鎢材料進行致密化處理。此方法能夠消除粉末冶金過程中可能產(chǎn)生的氣孔和缺陷,從而生產(chǎn)出密度更高、均勻性更好的鎢靶材。d. 熔融法 使用高溫將鎢完全熔化,然后通過鑄造或其他成型工藝制成靶材。雖然這種方法可以生產(chǎn)出尺寸較大的鎢靶材,但控制其純度和微觀結(jié)構(gòu)比較困難。e. 化學(xué)氣相沉積(CVD) CVD是一種在高溫下將氣態(tài)前驅(qū)體分解,將鎢沉積在基材上的方法。此技術(shù)主要用于制備特定微觀結(jié)構(gòu)和純度要求高的薄膜材料。靶材由“靶坯”和“背板”組成。上海氧化物靶材價錢
一、靶材的定義靶材是指用于產(chǎn)生粒子束并進行實驗分析的材料,在物理、化學(xué)、材料學(xué)等領(lǐng)域中廣泛應(yīng)用。粒子束包括各種粒子,如電子、中子、質(zhì)子、離子等。靶材通常需要具有適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)組成和物理性質(zhì),以便在特定的實驗條件下產(chǎn)生粒子束。二、靶材的種類靶材種類繁多,根據(jù)不同的粒子束和實驗?zāi)康男枰饕梢苑譃橐韵聨最悾?.離子束靶材:用于離子束實驗的靶材,主要有金屬、合金、半導(dǎo)體、陶瓷等。它們可以產(chǎn)生大量次級粒子,如X射線、熒光光譜等。2.中子束靶材:中子束實驗靶材通常為化合物或者金屬,如聚乙烯、水、鋰等,可用于裂變、散裂、反應(yīng)等中子實驗。3.電子束靶材:電子束靶材在電子顯微鏡、電子探針等研究中廣泛應(yīng)用,主要有金屬、合金、氧化物、半導(dǎo)體等。云南智能玻璃靶材推薦廠家復(fù)合材料靶材結(jié)合了多種材料的優(yōu)勢。
三、靶材的制備方法靶材的制備方法有多種,包括物***相沉積、濺射、電子束蒸發(fā)、化學(xué)氣相沉積、磁控濺射等。通常需要根據(jù)實驗的需要,選擇合適的制備方法和材料。四、靶材的應(yīng)用領(lǐng)域靶材在各個領(lǐng)域中都有重要應(yīng)用,以下是其中的幾個方面:1.物理學(xué)和核物理學(xué):靶材在核物理學(xué)實驗中廣泛應(yīng)用,如離子束慢化、中子束散裂等。2.醫(yī)學(xué):靶材和放射性同位素結(jié)合應(yīng)用于放射***和放射性示蹤。3.電子學(xué):靶材在電子顯微技術(shù)、集成電路和光電子器件制備中應(yīng)用***。4.材料科學(xué)和工程學(xué):靶材在材料表征、薄膜制備、涂層技術(shù)等方面有廣泛應(yīng)用??傊?,靶材作為產(chǎn)生粒子束的重要材料,在各個研究領(lǐng)域中都有廣泛的應(yīng)用前景。
它們通過不同的制備工藝,如蒸發(fā)磁控濺射、多弧離子鍍等,被加熱至高溫后原子從表面蒸發(fā)并沉積在襯底上,形成所需的薄膜。靶材的純度和制備工藝對其質(zhì)量有著至關(guān)重要的影響,高純度的靶材材料能夠保證制備出的薄膜成分純度更高,從而得到性能更穩(wěn)定、更可靠的器件。此外,靶材的應(yīng)用領(lǐng)域***,不僅限于半導(dǎo)體工業(yè),還應(yīng)用于顯示屏、?筆記本電腦裝飾層、?電池封裝等多個方面,展示了其多樣性和重要性。純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。如今開發(fā)出來的磁光盤,具有TbFeCo/Ta和TbFeCo/Al的層復(fù)合膜結(jié)構(gòu)。
研究直流磁控反應(yīng)濺射ITO膜過程中ITO靶材的毒化現(xiàn)象,用XRD、EPMA、LECO測氧儀等手段對毒化發(fā)生的機理進行分析,并對若干誘導(dǎo)因素進行討論,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3。主相分解為In2O造成的,靶材性能及濺射工藝缺陷都可能誘導(dǎo)毒化發(fā)生.ITO薄膜作為一種重要的透明導(dǎo)電氧化物半導(dǎo)體材料,因具有良好的導(dǎo)電性能及光透射率廣泛應(yīng)用于液晶顯示、太陽能電池、靜電屏蔽、電致發(fā)光等技術(shù)中,用氧化銦+氧化錫燒結(jié)體作為靶材,直流磁控反應(yīng)濺射法制備ITO薄膜與用銦錫合金靶相比,具有沉積速度快,膜質(zhì)優(yōu)良,工藝易控等優(yōu)點成為目前的主流?但是,此法成膜過程中會經(jīng)常發(fā)生??靶材表面黑色化,生成黑色不規(guī)則球狀節(jié)瘤,本文稱此現(xiàn)象為??靶材毒化,毒化使濺射速率下降,膜質(zhì)劣化,迫使停機清理靶材表面后才能繼續(xù)正常濺射,嚴(yán)重影響了鍍膜效率。高純度靶材具有極低的雜質(zhì)含量,確保了在敏感的科學(xué)實驗和高精度工業(yè)應(yīng)用中的高性能。甘肅光伏行業(yè)靶材廠家
鎢鈦合金靶材在微電子制造中用于沉積防腐蝕和導(dǎo)電層。上海氧化物靶材價錢
溶膠-凝膠法:合成溶膠:選取合適的銦鹽和錫鹽作為原料,通過化學(xué)反應(yīng)在溶劑中形成溶膠,控制反應(yīng)條件可以獲得高均勻性的溶膠。老化:將形成的溶膠進行老化處理,以提高其穩(wěn)定性,防止在后續(xù)的熱處理過程中發(fā)生不均勻沉淀。干燥與熱解:經(jīng)過老化的溶膠經(jīng)過干燥,去除大部分溶劑后,通過熱解除去有機物質(zhì),得到ITO前驅(qū)體粉末。燒結(jié):與粉末冶金法類似,將熱解后的粉末進行高溫?zé)Y(jié),得到致密的ITO靶材。冷壓燒結(jié)工藝:冷壓成型:在室溫下將ITO粉末放入模具中,通過機械壓力將粉末壓制成型。這個過程中沒有熱量的參與,因此稱為冷壓。去除結(jié)合劑:如果在冷壓過程中使用了結(jié)合劑,需要在燒結(jié)前去除結(jié)合劑,通常是通過一系列熱處理步驟完成。燒結(jié):將冷壓成型后的ITO坯體放入燒結(jié)爐中,在高溫下進行燒結(jié)。冷壓燒結(jié)可以減少材料在高溫狀態(tài)下的時間,從而降低晶粒長大速率,有利于控制材料的微觀結(jié)構(gòu)。上海氧化物靶材價錢