蘇州自動(dòng)化異質(zhì)結(jié)薄膜

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-02-27

高效異質(zhì)結(jié)電池生產(chǎn)流程中使用的設(shè)備,PECVD 1.等離子化學(xué)氣相沉積(PlasmaEnhancedCVD,PECVD)是指利用輝光放電的物理作用來(lái)化學(xué)氣相沉積反應(yīng)的CVD技術(shù);2.異質(zhì)結(jié)非晶硅薄膜沉積是采用RPECVD技術(shù),射頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(RFPlasma-EnhancedChemicalVaporDeposition,RPECVD),是PECVD的另外一種技術(shù)。它是利用射頻能量使反應(yīng)氣體等離子化。優(yōu)點(diǎn):低溫成膜(300-350℃),對(duì)基片影響小,避免了高溫帶來(lái)的膜層晶粒粗大;l低壓下形成薄膜厚度及成分較均勻、膜層致密、內(nèi)應(yīng)力小,不易產(chǎn)生裂紋;l擴(kuò)大CVD應(yīng)用范圍,特別是在不同基片上制備金屬薄膜、非晶態(tài)無(wú)機(jī)薄膜等,薄膜的附著力大于普通CVD。高效異質(zhì)結(jié)電池PECVD設(shè)備是制備微晶硅的中心設(shè)備,其工藝機(jī)理復(fù)雜,影響因素眾多,需要專(zhuān)業(yè)公司制備。蘇州自動(dòng)化異質(zhì)結(jié)薄膜

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光伏異質(zhì)結(jié)是一種將光能轉(zhuǎn)化為電能的器件,其輸出電壓和電流特性與光照強(qiáng)度和溫度有關(guān)。當(dāng)光照強(qiáng)度增加時(shí),光伏異質(zhì)結(jié)的輸出電流也會(huì)隨之增加,但輸出電壓會(huì)保持不變或略微下降。這是因?yàn)楣庹諒?qiáng)度增加會(huì)導(dǎo)致光生載流子的增加,從而增加了輸出電流。但同時(shí)也會(huì)導(dǎo)致電子和空穴的復(fù)合速率增加,從而降低了輸出電壓。另外,光伏異質(zhì)結(jié)的輸出電壓和電流特性還受到溫度的影響。當(dāng)溫度升高時(shí),光伏異質(zhì)結(jié)的輸出電流會(huì)隨之下降,而輸出電壓則會(huì)略微上升。這是因?yàn)闇囟壬邥?huì)導(dǎo)致載流子的復(fù)合速率增加,從而降低了輸出電流。但同時(shí)也會(huì)導(dǎo)致載流子的擴(kuò)散速率增加,從而提高了輸出電壓。總之,光伏異質(zhì)結(jié)的輸出電壓和電流特性是與光照強(qiáng)度和溫度密切相關(guān)的,需要在實(shí)際應(yīng)用中根據(jù)具體情況進(jìn)行調(diào)整和優(yōu)化。南京HJT異質(zhì)結(jié)薄膜異質(zhì)結(jié)電池主工藝有4道:制絨、非晶硅沉積、TCO沉積、金屬化。

高效異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池使用晶體硅片進(jìn)行載流子傳輸和吸收,并使用非晶/或微晶薄硅層進(jìn)行鈍化和結(jié)的形成。頂部電極由透明導(dǎo)電氧化物(TCO)層和金屬網(wǎng)格組成。異質(zhì)結(jié)硅太陽(yáng)能電池已經(jīng)吸引了很多人的注意,因?yàn)樗鼈兛梢赃_(dá)到很高的轉(zhuǎn)換效率,可達(dá)26.3%,相關(guān)團(tuán)隊(duì)對(duì)HJT極限效率進(jìn)行更新為28.5%,同時(shí)使用低溫度加工,通常整個(gè)過(guò)程低于200℃。低加工溫度允許處理厚度小于100微米的硅晶圓,同時(shí)保持高產(chǎn)量。異質(zhì)結(jié)電池具備光電轉(zhuǎn)化效率提升潛力高、更大的降成本空間、更高的雙面率、可有效降低熱損失、更低的光致衰減、制備工藝簡(jiǎn)單等特點(diǎn),為光伏領(lǐng)域帶來(lái)了新的希望。

異質(zhì)結(jié)HJT電池生產(chǎn)設(shè)備,制絨清洗的主要目的。1去除硅片表面的污染和損傷層;2利用KOH腐蝕液對(duì)n型硅片進(jìn)行各項(xiàng)異性腐蝕,將Si(100)晶面腐蝕為Si(111)晶面的四方椎體結(jié)構(gòu)(“金字塔結(jié)構(gòu)”),即在硅片表面形成絨面,可將硅片表面反射率降低至12.5%以下,從而產(chǎn)生更多的光生載流子;3形成潔凈硅片表面,由于HJT電池中硅片襯底表面直接為異質(zhì)結(jié)界面的一部分,避免不潔凈引進(jìn)的缺陷和雜質(zhì)而帶來(lái)的結(jié)界面處載流子的復(fù)合。堿溶液濃度較低時(shí),單晶硅的(100)與(111)晶面的腐蝕速度差別比較明顯,速度的比值被稱(chēng)為各向異性因子(anisotropicfactorAF);因此改變堿溶液的濃度及溫度,可以有效地改變AF,使得在不同方向上的速度不同,在硅片表面形成密集分布的“金字塔”結(jié)構(gòu)的減反射絨面;在制絨工序,絨面大小為主要指標(biāo),一般可通過(guò)添加劑的選擇、工藝配比的變化、工藝溫度及工藝時(shí)間等來(lái)進(jìn)行調(diào)節(jié)控制。 光伏異質(zhì)結(jié)的制造工藝包括薄膜沉積、熱處理、光刻等步驟,具有靈活性高、可定制化的優(yōu)點(diǎn)。

高效異質(zhì)結(jié)電池整線裝備,物理的氣相沉積,PVD優(yōu)點(diǎn)沉積速度快、基材溫升低;所獲得的薄膜純度高、致密性好、成膜均勻性好;濺射工藝可重復(fù)性好,精確控制厚度;膜層粒子的散射能力強(qiáng),繞鍍性好;不同的金屬、合金、氧化物能夠進(jìn)行混合,同時(shí)濺射于基材上;缺點(diǎn):常規(guī)平面磁控濺射技術(shù)靶材利用率不高,一般低于40%;在輝光放電中進(jìn)行,金屬離化率較低。反應(yīng)等離子體沉,RPD優(yōu)點(diǎn):對(duì)襯底的轟擊損傷??;鍍層附著性能好,膜層不易脫落;源材料利用率高,沉積速率高;易于化合物膜層的形成,增加活性;鍍膜所使用的基體材料和膜材范圍廣。缺點(diǎn):薄膜中的缺陷密度較高,薄膜與基片的過(guò)渡區(qū)較寬,應(yīng)用中受到限制(特別是電子器件和IC);薄膜中含有氣體量較高。異質(zhì)結(jié)電池主工藝之一:制絨清洗設(shè)備。無(wú)錫國(guó)產(chǎn)異質(zhì)結(jié)電池

光伏異質(zhì)結(jié)技術(shù)能夠降低電池的光衰減,提高電池的長(zhǎng)期穩(wěn)定性,延長(zhǎng)電池的使用壽命。蘇州自動(dòng)化異質(zhì)結(jié)薄膜

高效異質(zhì)結(jié)電池整線設(shè)備,HWCVD 1、熱絲化學(xué)氣相沉積(HotWireCVD,HWCVD)是利用高溫?zé)峤z催化作用使SiH4分解來(lái)制備非晶硅薄膜,對(duì)襯底無(wú)損傷,且成膜質(zhì)量非常好,但鍍膜均勻性較差,且熱絲作為耗材,成本較高;2、HWCVD一般分為三個(gè)階段,是反應(yīng)氣體在熱絲處的分解反應(yīng),二是基元向襯底運(yùn)輸過(guò)程中的氣相反應(yīng),第三是生長(zhǎng)薄膜的表面反應(yīng)。PECVD鍍膜均勻性較高,工藝窗口寬,對(duì)襯底損傷較大。HWCVD是利用高溫?zé)峤z催化作用使SiH4分解來(lái)成膜,對(duì)襯底無(wú)損傷,且成膜質(zhì)量好,但鍍膜均勻性較差且成本較高。蘇州自動(dòng)化異質(zhì)結(jié)薄膜