浙江高效電鍍銅產(chǎn)線

電鍍銅導電性與發(fā)電效率雙重提升金屬柵線電極與透明導電膜之間形成一個非整流的接觸——歐姆接觸，歐姆接觸效果決定電池導電性與發(fā)電效率能否達到適合。影響歐姆接觸效果的因素有接觸面緊密結合度、柵線材料電阻率，電阻率越大，電池片對電子或載流子的負荷越高，電子或載流子的通過率越差。銅柵線導電性強于銀漿。銅的導電性與銀相近，但銀漿屬于混合物膠體，銅柵線是純銅，因此銅柵線的電阻率更低，銅柵線電阻率是1.7Ω/m，銀漿的電阻率大約為5-10Ω/m。電鍍銅可以用于各種形狀和大小的金屬表面，包括復雜的三維表面，具有廣泛的應用范圍。浙江高效電鍍銅產(chǎn)線

銀漿成本高有四大降本路徑，兩大方向。一是減少高價低溫銀漿用量 二是減少銀粉的用量，使用賤金屬替代部分銀粉，例如銀包銅、電鍍銅。銅電鍍是一種非接觸式的電極金屬化技術，在基體金屬表面通過電解方法沉積金屬銅制作銅柵線，收集光伏效應產(chǎn)生的載流子。為解決電鍍銅與透明導電薄膜（TCO）之間的接觸與附著性問題，需先使用PVD設備鍍一層極薄的銅種子層（100nm），銜接前序的TCO和后序的電鍍銅，種子層制備后還需對其進行快速燒結處理，以進一步強化附著力。同時，銅種子層作為后續(xù)電鍍銅的勢壘層，可防止銅向硅內部擴散。無錫釜川電鍍銅設備制造商電鍍銅為HJT的降本方式。

光伏電鍍銅基本可以分為水平電鍍銅、VCP垂直電鍍銅、龍門線電鍍銅，電鍍銅后采用的表面處理方式業(yè)界存在多種路線。主要工藝流程控制和添加劑在線路板行業(yè)使用時間久遠技術已經(jīng)成熟。電鍍銅+電鍍錫、電鍍銅+化學沉錫、電鍍銅+化學沉銀幾種路線。釜川（無錫）智能科技有限公司，以半導體生產(chǎn)設備、太陽能電池生產(chǎn)設備為主要產(chǎn)品，打造光伏設備一體化服務。擁有強大的科研團隊，憑借技術競爭力，在清洗制絨設備、PECVD設備、PVD設備、電鍍銅設備等方面都有獨特優(yōu)勢；以高效加工制造、快速終端交付的能力，為客戶提供整線工藝設備的交付服務。

光伏電池電鍍銅工序包括種子層制備、圖形化、電鍍三大環(huán)節(jié)，涌現(xiàn)多種設備方案。電鍍銅 工藝尚未定型，各環(huán)節(jié)技術方案包括（1）種子層：設備主要采用 PVD，主要技術分歧 在于是否制備種子層、制備整面/局部種子層和種子層金屬選用；（2）圖形化：感光材料 分為干膜和油墨，主要技術分歧在于曝光顯影環(huán)節(jié)選用掩膜類光刻/LDI 激光直寫/激光 開槽；（3）電鍍：主要技術分歧在于水平鍍/垂直鍍/光誘導電鍍。釜川（無錫）智能科技有限公司，以半導體生產(chǎn)設備、太陽能電池生產(chǎn)設備為主要產(chǎn)品，打造光伏設備一體化服務。擁有強大的科研團隊，憑借技術競爭力，在清洗制絨設備、PECVD設備、PVD設備、電鍍銅設備等方面都有獨特優(yōu)勢；以高效加工制造、快速終端交付的能力，為客戶提供整線工藝設備的交付服務。光伏電鍍銅設備，主要用于光伏電池硅片鍍銅代替銀漿絲網(wǎng)印刷。

光伏電鍍銅設備工藝銅柵線更細，線寬線距尺寸小，發(fā)電效率更高。柵線細、線寬線距小意味著柵線密度更大，更多的柵線可以更好地將光照產(chǎn)生的內部載流子通過電流形式導出電池片，從而提高發(fā)電效率，銅電鍍技術電池轉化效率比絲網(wǎng)印刷高0.3%~0.5%。①低溫銀漿較為粘稠，印刷寬度更寬。高溫銀漿印刷線寬可達到20μm，但是低溫銀漿印刷的線寬大約為40μm。②銅電鍍銅離子沉積只有電子交換，柵線寬度更小。銅電鍍的線寬大約為20μm，采用類半導體的光刻技術可低于20μm。光伏電鍍銅使用的為高速電鍍藥水。成都光伏電鍍銅設備制造商

電鍍銅助力HJT降本增效，產(chǎn)業(yè)化進程進入加速期。浙江高效電鍍銅產(chǎn)線

銅電鍍工藝流程：種子層沉積—圖形化—電鍍—后處理，光伏電鍍銅工藝流程主要包括種子層沉積、圖形化、電鍍及后處理四大環(huán)節(jié)，目前各環(huán)節(jié)技術路線不一，多種組合工藝方案并行，需要綜合性能、成本來選擇合適的工藝路線。（1）種子層沉積：異質結電池表面沉積有透明導電薄膜（TCO）作為導電層、減反射層，由于銅在TCO層上的附著性較差，兩者間為物理接觸，附著力主要為范德華力，電極容易脫落，一般需要在電鍍前在TCO層上先行使用PVD設備沉積種子層（100nm），改善電極接觸與附著性問題。（2）圖形化：由于在TCO上鍍銅是非選擇性的，需要形成圖形化的掩膜以顯現(xiàn)待鍍銅區(qū)域的線路圖形，劃分導電與非導電部分。圖形化過程中，將感光膠層覆蓋于HJT電池表面，通過選擇性光照，使得不需要鍍銅的位置感光材料發(fā)生改性反應，而需要鍍銅的位置感光材料不變；在顯影步驟時，待鍍銅區(qū)域內未發(fā)生改性反應的感光材料會被去除，形成圖形化的掩膜，后續(xù)電鍍時銅將沉積于該線路圖形區(qū)域內露出的種子層上并發(fā)生導電，而其他位置不會發(fā)生銅沉積，實現(xiàn)選擇性電鍍。浙江高效電鍍銅產(chǎn)線