掃描電鏡基本知識：在材料領域中，掃描電鏡技術發(fā)揮著極其重要的作用，被普遍應用于各種材料的形態(tài)結構、界面狀況、損傷機制及材料性能預測等方面的研究。利用掃描電鏡可以直接研究晶體缺陷及其產生過程，可以觀察金屬材料內部原子的集結方式和它們的真實邊界，也可以觀察在不同條件下邊界移動的方式，還可以檢查晶體在表面機械加工中引起的損傷和輻射損傷等。掃描電鏡可粗略分為鏡體和電源電路系統(tǒng)兩部分。鏡體部分由電子光學系統(tǒng)、信號收集和顯示系統(tǒng)以及真空抽氣系統(tǒng)組成。掃描電鏡在觀察形貌的同時,可以進行微區(qū)的成分分析。安順蔡司掃描電鏡
真空系統(tǒng)：真空系統(tǒng)主要包括真空泵和真空柱兩部分。真空柱是一個密封的柱形容器。真空泵用來在真空柱內產生真空。有機械泵、油擴散泵以及渦輪分子泵三大類，機械泵加油擴散泵的組合可以滿足配置鎢燈絲長筒械具的掃描電鏡的真空要求，但對于裝置了場致發(fā)射長筒械具或六硼化鑭及六硼化鈰長筒械具的掃描電鏡,則需要機械泵加渦輪分子泵的組合。成象系統(tǒng)和電子束系統(tǒng)均內置在真空柱中。真空柱底端即為右圖所示的樣品室，用于放置樣品。需要真空的原因包括：一是電子束系統(tǒng)中的燈絲在普通大氣中會迅速氧化而失效，所以需要抽真空。二是為了增大電子的平均自由程，從而使得用于成象的電子更多。安順蔡司掃描電鏡掃描電鏡普遍應用于工業(yè)生產。
肖特基發(fā)射式掃描電鏡的操作溫度為1800K，它是在鎢(100)單晶上鍍ZrO覆蓋層，ZrO將功函數從純鎢的4.5eV降至2.8eV，而外加高電場更使電位障壁變窄變低，使得電子很容易以熱能的方式跳過能障(并非穿隧效應)，逃出針尖表面，所需真空度約10-8~10-9torr。其發(fā)射電流穩(wěn)定度佳，而且發(fā)射的總電流也大。而其電子能量散布很小，但稍遜于冷場發(fā)射式電子長筒械具。其電子源直徑比冷式大，所以影像分辨率也比冷場發(fā)射式稍差一點。由于ZrO一直是覆在燈絲上的，因此肖特基的束流非常穩(wěn)定，但較終ZrO耗盡時，燈絲的壽命也就到了，一般在2-3年。
電磁透鏡：熱發(fā)射電子需要電磁透鏡來成束，所以在用熱發(fā)射電子長筒械具的掃描電鏡上，電磁透鏡必不可少。通常會裝配兩組：匯聚透鏡和物鏡，匯聚透鏡但但用于匯聚電子束，與成象會焦無關;物鏡負責將電子束的焦點匯聚到樣品表面。掃描線圈的作用是使電子束偏轉，并在樣品表面作有規(guī)則的掃動，電子束在樣品上的掃描動作和顯像管上的掃描動作保持嚴格同步，因為它們是由同一掃描發(fā)生器控制的。樣品室內除放置樣品外，還安置信號探測器。信號探測處理和顯示系統(tǒng)：電子經過一系列電磁透鏡成束后，打到樣品上與樣品相互作用，會產生二次電子、背散射電子、俄歇電子以及X射線等一系列信號。所以需要不同的探測器譬如二次電子探測器、X射線能譜分析儀等來區(qū)分這些信號以獲得所需要的信息。雖然X射線信號不能用于成象，但習慣上，仍然將X射線分析系統(tǒng)劃分到成象系統(tǒng)中。掃描電鏡是一種用于高分辨率微區(qū)形貌分析的大型精密儀器。
掃描電鏡(SEM)利用的技術是一種介于透射掃描電鏡和光學顯微鏡之間的一種觀察手段，其使用聚焦的很窄的高能電子束來掃描樣品,通過光束與物質間的相互作用,來激發(fā)各種物理信息,對這些信息收集、放大、再成像以達到對物質微觀形貌表征的目的。新式的掃描電鏡的分辨率可以達到1nm；放大倍數可以達到30萬倍及以上連續(xù)可調；并且景深大,視野大,成像立體效果好。此外,掃描電鏡和其他分析儀器相結合,可以做到觀察微觀形貌的同時進行物質微區(qū)成分分析。掃描電鏡在巖土、石墨、陶瓷及納米材料等的研究上有普遍應用，在科學研究領域具有重大作用。掃描電鏡普遍應用于沉積學領域的研究。安順蔡司掃描電鏡
掃描電鏡可以觀察試樣的各個區(qū)域的細節(jié)。安順蔡司掃描電鏡
掃描電鏡：掃描電鏡的制造是依據電子與物質的相互作用。當一束高能的入射電子轟擊物質表面時，被激發(fā)的區(qū)域將產生二次電子、俄歇電子、特征x射線和連續(xù)譜X射線、背散射電子、透射電子，以及在可見、紫外、紅外光區(qū)域產生的電磁輻射。同時，也可產生電子-空穴對、晶格振動（聲子）、電子振蕩（等離子體）。原則上講，利用電子和物質的相互作用，可以獲取被測樣品本身的各種物理、化學性質的信息，如形貌、組成、晶體結構、電子結構和內部電場或磁場等等。掃描電鏡正是根據上述不同信息產生的機理，采用不同的信息檢測器，使選擇檢測得以實現。如對二次電子、背散射電子的采集，可得到有關物質微觀形貌的信息；對X射線的采集，可得到物質化學成分的信息。安順蔡司掃描電鏡
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