海南微納光刻N(yùn)anoscribe無掩膜激光直寫

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-02-10

作為基于雙光子聚合技術(shù)( 2PP) 的微細(xì)加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者,Nanoscribe 在全球 30 多個(gè)國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體。 “我們?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進(jìn)的 2PP 技術(shù)而感到自豪,憑借我們的技術(shù)支持,我們的客戶實(shí)現(xiàn)了一個(gè)又一個(gè)突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司,與客戶保持良好密切的合作關(guān)系是我們保持優(yōu)于市場地位的關(guān)鍵” Nanoscribe 聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官 Martin Hermatschweiler 表示?;?PP 微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí),Nanoscribe為前列科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持,并推動(dòng)生物打印、微流體、微納光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展。 “我們非常期待加入 CELLINK 集團(tuán),共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來所帶來的更大機(jī)遇”Martin Hermatschweiler 說道。更多有關(guān)3D雙光子無掩模光刻技術(shù)和產(chǎn)品咨詢,歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司-納糯三維。海南微納光刻N(yùn)anoscribe無掩膜激光直寫

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Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡潔性,以及比較廣的材料-基板選擇。因此,它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國家的前沿研究中,超過1,000個(gè)開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力特別好的證明。海南微納光刻N(yùn)anoscribe無掩膜激光直寫使用Nanoscribe的3D微加工技術(shù)并配合其新型研發(fā)的IP-Visio光刻膠,可以打印極其復(fù)雜的3D微支架。

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Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。Quantum X shape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義??偠灾?,該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個(gè)科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性(如生命科學(xué)、材料工程、微流體、微納光學(xué)、微機(jī)械和微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)等)。

QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,同時(shí)保持高精度的形狀控制。QuantumXshape不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、微光學(xué)、MEMS、微流道、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具,同時(shí)也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實(shí)用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進(jìn)行打印文件的遠(yuǎn)程監(jiān)控及多用戶的使用配置,實(shí)現(xiàn)推動(dòng)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)。Nanoscribe專注于微納米3D打印設(shè)備的額研發(fā)和應(yīng)用。

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作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn),同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件(如衍射和折射光學(xué)器件)的整體制造時(shí)間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?;陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學(xué)元件,并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)?。更多有關(guān)3D打印的技術(shù)和產(chǎn)品咨詢 ,歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司。浙江進(jìn)口Nanoscribe微流道

科學(xué)家們使用德國Nanoscribe 的3D打印設(shè)備制造了復(fù)雜的微孔膜結(jié)構(gòu)。海南微納光刻N(yùn)anoscribe無掩膜激光直寫

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),微流體,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng),非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。海南微納光刻N(yùn)anoscribe無掩膜激光直寫

納糯三維科技(上海)有限公司致力于儀器儀表,以科技創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)***管理的追求。納糯三維擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團(tuán)隊(duì),以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)。納糯三維始終以本分踏實(shí)的精神和必勝的信念,影響并帶動(dòng)團(tuán)隊(duì)取得成功。納糯三維始終關(guān)注自身,在風(fēng)云變化的時(shí)代,對自身的建設(shè)毫不懈怠,高度的專注與執(zhí)著使納糯三維在行業(yè)的從容而自信。