江蘇超高速3D打印工藝

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明。微納3D打印和“傳統(tǒng)”3D打印的主要區(qū)別在于，微納3D打印能達到“傳統(tǒng)”3D打印無法達到的高精度。江蘇超高速3D打印工藝

我們的3D打印技術采用了先進的增材制造方法，能夠將數字模型轉化為實體產品。相比傳統(tǒng)的制造方法，這項技術具有許多優(yōu)勢。首先，它能夠實現高度定制化，根據客戶的需求精確打印出復雜的結構和形狀。其次，由于材料的精確控制和優(yōu)化設計，產品的質量和性能得到了明顯提升。此外，這項技術還能夠減少廢料和能源的浪費，對環(huán)境友好。我們的3D打印技術廣泛應用于各個行業(yè)，包括航空航天、汽車制造、醫(yī)療器械等。在航空航天領域，我們的技術可以制造出輕量化的零部件，提高飛機的燃油效率和性能。在汽車制造領域，我們的技術可以生產出復雜的汽車零部件，提高汽車的安全性和舒適性。在醫(yī)療器械領域，我們的技術可以制造出個性化的假肢和植入物，提高患者的生活質量。我們公司一直致力于技術創(chuàng)新和產品質量的提升。通過引入這項**的3D打印技術，我們將進一步鞏固我們在行業(yè)中的**地位。我們相信，這項技術的推出將為我們的客戶帶來更多的商機和競爭優(yōu)勢。如果您對我們的3D打印技術感興趣或有任何疑問，請隨時與我們聯(lián)系。我們的團隊將竭誠為您提供專業(yè)的解答和支持。讓我們一起開創(chuàng)未來，共同推動行業(yè)的發(fā)展！河北Nanoscribe3D打印三維光刻超高分辨率微觀3D打印技術讓電子產品越來越小。

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內的直徑只為mm。歡迎咨詢

這種集成復雜3D結構于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩(wěn)健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調整SMF的模式場，以匹配光子芯片上光波導模式場。Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。在工業(yè)制造領域，3D打印技術用于制造復雜的機械部件和定制的工業(yè)設備。

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統(tǒng)基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。能打印出組裝好的產品，因此降低了組裝成本，甚至可以挑戰(zhàn)大規(guī)模生產方式。上海高精度3D打印激光直寫

不需要集中的、固定的制造車間，具有分布式生產的特點。江蘇超高速3D打印工藝

Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進行直寫，而是在孔型支架內。通過調整直寫激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時，對折射率的調節(jié)范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件，例如已經提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中，成像中的熒光強度和折射率高度相關，同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化江蘇超高速3D打印工藝