江蘇Nanoscribe灰度光刻設(shè)備

QuantumXbio是具有高分辨率的多功能生物打印系統(tǒng)。該系統(tǒng)擁有的**技術(shù)是以雙光子聚合（2PP）為關(guān)鍵，以出色的工程設(shè)計為基礎(chǔ)，通過生物學家的想法定制并且重新設(shè)計的。作為2019年推出的First臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，該生物打印系統(tǒng)具有精確的溫度控制、無菌的工作環(huán)境和功能化的生物材料等特點，可讓生物打印達到一個新的高度，并有效加速組織工程、細胞生物學和方方面面生物醫(yī)學應用等關(guān)鍵應用的創(chuàng)新?；叶裙饪碳夹g(shù)的精度受到灰度值的影響。江蘇Nanoscribe灰度光刻設(shè)備

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案廣東高分辨率灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您解析雙光子灰度光刻技術(shù)。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學質(zhì)量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創(chuàng)新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。另外，QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作

   Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領(lǐng)者，推動著諸如力學超材料，微納機器人，再生醫(yī)學工程，微光學等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設(shè)計自由的同時，一步制造具有光學質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得。PhotonicProfessionalGT2是全球精度排名頭一位的3D微納打印機?；叶裙饪碳夹g(shù)可降低成本和提高生產(chǎn)效率。

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司成本低：無掩膜光刻技術(shù)無需制作昂貴的掩膜版，因此可以降低光刻成本。廣東高分辨率灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

與傳統(tǒng)的光刻技術(shù)相比，灰度光刻在制造復雜芯片時具有明顯的優(yōu)勢。江蘇Nanoscribe灰度光刻設(shè)備

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù)。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX，并榮獲創(chuàng)新獎。該系統(tǒng)是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL?）的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應用于折射和衍射微光學。江蘇Nanoscribe灰度光刻設(shè)備