湖南工業(yè)級(jí)灰度光刻3D打印

QuantumXbio是具有高分辨率的多功能生物打印系統(tǒng)。該系統(tǒng)擁有的**技術(shù)是以雙光子聚合（2PP）為關(guān)鍵，以出色的工程設(shè)計(jì)為基礎(chǔ)，通過(guò)生物學(xué)家的想法定制并且重新設(shè)計(jì)的。作為2019年推出的First臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，該生物打印系統(tǒng)具有精確的溫度控制、無(wú)菌的工作環(huán)境和功能化的生物材料等特點(diǎn)，可讓生物打印達(dá)到一個(gè)新的高度，并有效加速組織工程、細(xì)胞生物學(xué)和方方面面生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用等關(guān)鍵應(yīng)用的創(chuàng)新。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解目前灰度光刻的發(fā)展。湖南工業(yè)級(jí)灰度光刻3D打印

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。浙江Nanoscribe灰度光刻三維光刻灰度光刻技術(shù)可以應(yīng)用于微電子、光電子、生物醫(yī)學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域。

   QuantumX新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有專項(xiàng)的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)在于：這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到精細(xì)同步，這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。

Quantum X shape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑，同時(shí)保持高精度的形狀控制。它不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、微光學(xué)、MEMS、微流道、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具，同時(shí)也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡(jiǎn)易工具。通過(guò)系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來(lái)很大程度提高實(shí)用性。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術(shù)的運(yùn)用。

Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及非常廣的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無(wú)掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中，超過(guò)1,000個(gè)開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您探討灰度光刻技術(shù)的用途和特點(diǎn)。浙江Nanoscribe灰度光刻三維光刻

灰度光刻技術(shù)還可以與其他先進(jìn)技術(shù)相結(jié)合，如直接激光寫入（Direct Laser Writing）等。湖南工業(yè)級(jí)灰度光刻3D打印

超高速灰度光刻技術(shù)的應(yīng)用不僅局限于傳統(tǒng)領(lǐng)域，還可以拓展到新興領(lǐng)域。例如，在新能源領(lǐng)域，它可以用于制造高效的太陽(yáng)能電池板；在人工智能領(lǐng)域，它可以用于制造更快、更強(qiáng)大的計(jì)算芯片。這些應(yīng)用將進(jìn)一步推動(dòng)科技的發(fā)展，為人類創(chuàng)造更美好的未來(lái)。超高速灰度光刻技術(shù)的發(fā)展離不開科研人員的不懈努力和創(chuàng)新精神。他們通過(guò)不斷突破科技邊界，攻克了一個(gè)又一個(gè)難題，從而實(shí)現(xiàn)了這一技術(shù)的突破。他們的付出為我們帶來(lái)了更多的機(jī)遇和挑戰(zhàn)，也為科技進(jìn)步做出了巨大貢獻(xiàn)。超高速灰度光刻技術(shù)的問(wèn)世，標(biāo)志著科技進(jìn)步的新里程碑。我們相信，在這項(xiàng)技術(shù)的推動(dòng)下，未來(lái)將會(huì)有更多的創(chuàng)新和突破。讓我們共同期待超高速灰度光刻技術(shù)帶來(lái)的美好未來(lái)！湖南工業(yè)級(jí)灰度光刻3D打印