湖北雙光子灰度光刻微納光刻

Quantum X 新型超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業(yè)生產上的加工模具。而且Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您詳細講解灰度光刻技術。湖北雙光子灰度光刻微納光刻

雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE)，并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件(DOEs)，可以直接作為衍射光學元件(DOEs)，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產母版工具。.結合用戶友好的工作流程和自動匹配校準程序，只需幾個步驟就能實現完:美的具有亞微米形狀精度的結構打印，適用于廣泛的應用場景和公共平臺用戶的理想選擇浙江進口灰度光刻微納加工系統(tǒng)雙光子灰度光刻技術將灰度光刻的高性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合。

這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產品，名為3D無掩模光刻。無論您是進行科學研究還是制作工業(yè)手板，這款產品都能滿足您的需求。它不僅高效，而且精度非常高，能夠適用于多種尺度和多種應用領域，極大地節(jié)省了加工時間。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型，無論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進行制作。如果您想要在科學研究或工業(yè)生產中得到更好的效果，3D無掩模光刻是您的比較好選擇。它能夠為您節(jié)省時間和精力，讓您專注于更重要的事情。立即購買，體驗高效、高精度的3D無掩模光刻吧！

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結構，對于雙光子聚合的微結構，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續(xù)的復制工作，并通過納米壓印技術進行復制?；叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構（如下圖4所示，八邊金字塔結構）。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)實現對光刻膠表面深度的精確控制，從而制備出更加復雜和精細的微納結構。

這種設計策略不僅可用于改進現有的傳感器，該項目還旨在展示具有動態(tài)移動部件的新型傳感器概念的可行性。在第二種設計中，研究人員在一根光纖的端面3D打印了一個微型轉子。從轉子上反射出的光脈沖可以被讀取，因此該傳感器可以被用于分析流速。

FabryPérot傳感器進行溫度和折射率感應的測試裝置圖。圖片：資料來源見本文下方。通過動態(tài)可旋轉的3D微納加工概念，研究人員展示了智能設計如何改進現有的傳感器，并為整個新的微型化傳感器概念鋪平道路的能力。 灰度光刻技術可以應用于微電子、光電子、生物醫(yī)學等多個領域。廣東超高速灰度光刻3D打印

該技術還可以與雙光子聚合技術結合，實現高速打印高設計自由度和超高精度的特點,進一步擴展了其應用范圍。湖北雙光子灰度光刻微納光刻

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業(yè)批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。湖北雙光子灰度光刻微納光刻