湖南微納米Nanoscribe微光學

來源: 發(fā)布時間:2024-07-08

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業(yè)激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。Quantum X shape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產領域應用有著重大意義??偠灾撓到y拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業(yè)行業(yè)應用的更多可能性(如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統(MEMS)等)  使用Nanoscribe的Photonic Professional系列打印系統制作的微流控元件可以完全嵌入進預制的二維微流道系統。湖南微納米Nanoscribe微光學

湖南微納米Nanoscribe微光學,Nanoscribe

作為微納加工和3D打印領域的帶領者,Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,諸如力學超材料,微納機器人,再生醫(yī)學工程,微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強了全球銷售活動,并完善了亞太地區(qū)客戶服務范圍。此次推出的中文版官網在視覺效果上更清晰,結構分類上更明確。首頁導航欄包括了產品信息,產品應用數據庫,公司資訊和技術支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。 四川Nanoscribe技術使用Nanoscribe的3D微加工技術并配合其新型研發(fā)的IP-Visio光刻膠,可以打印極其復雜的3D微支架。

湖南微納米Nanoscribe微光學,Nanoscribe

3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實現具有特定光子,機械,生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結構上,可以直接生產用于工業(yè)批量生產的聚合物母版。


多年來,Nanoscribe在微觀和納米領域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項目,包括等離子體技術、微光學等工業(yè)微加工相關項目。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學和帕德博恩大學在內的其他行業(yè)帶領機構一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年,名為Miliquant,由德國聯邦教育和研究部(簡稱BMBF)提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,將用于量子技術創(chuàng)新,并可以應用在醫(yī)療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團隊將開展多項實驗,開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統,這就需要復雜的研發(fā)工作,還需要開發(fā)可靠的組件,以及組裝和制造的新方法。


更多有關微納3D打印產品和技術咨詢,歡迎聯系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司。

湖南微納米Nanoscribe微光學,Nanoscribe

Nanoscribe稱,Quantum X是世界上基于雙光子灰度光刻技術(two-photon grayscale lithography,2GL)的工業(yè)系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作Nanoscribe是一家**的增材制造技術公司,專注于高精度的微納米級3D打印技術。北京2PPNanoscribe上海

Nanoscribe致力于不斷推動增材制造技術的發(fā)展,為客戶提供高質量、高效率的解決方案。湖南微納米Nanoscribe微光學

Nanoscribe雙光子光刻技術實現在光子芯表面進行打印 。光子芯片上的光學元件的精確對準,例如作為光子封裝的光學互連,是通過共聚焦單元提供的高分辨率3D拓撲映射實現的。在nanoPrintX軟件中,您可以將芯片布局和對準標記添加到打印作業(yè)中,打印系統會檢測標記并將其與打印作業(yè)進行匹配,以確定光子芯片波導的確切位置和方向。這確保了基于原理的2PP微納加工系統能實現微光學元件和光學互連具有比較好的光學性能的同時擁有**小耦合損耗,通過自由空間微光學耦合(FSMOC)實現高效的光耦合,成為光子封裝的強大解決方案。湖南微納米Nanoscribe微光學