上海進(jìn)口無(wú)掩膜光刻設(shè)備

借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過(guò)創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級(jí)分辨率和靈活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達(dá)到上限的微納3D打印機(jī)。該設(shè)備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點(diǎn)與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合，適合用于納米、微米、中尺度以及厘米級(jí)別的快速成型。無(wú)掩膜光刻認(rèn)準(zhǔn)納糯三維科技（上海）有限公司。上海進(jìn)口無(wú)掩膜光刻設(shè)備

加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領(lǐng)域的先驅(qū)和市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)我們是您在微加工系統(tǒng)、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴。我們成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工分離出來(lái)的單獨(dú)子公司，是一個(gè)充滿活力、屢獲殊榮的公司，并于2021年6月成為BICO集團(tuán)的一部分。憑借成熟穩(wěn)定的系統(tǒng)、直觀的一步加工工作流程和一體化解決方案，我們的3000多名系統(tǒng)用戶正在致力于研究改變未來(lái)的應(yīng)用。Nanoscribe的用戶群體中，有科學(xué)研究和工業(yè)的創(chuàng)新者，包括生命科學(xué)、微光學(xué)、光子學(xué)、材料工程、微流體、微力學(xué)和MEMS。他們優(yōu)越的創(chuàng)新現(xiàn)已發(fā)表在1300多份同行評(píng)議期刊上。湖北Nanoscribe無(wú)掩膜光刻3D打印無(wú)掩膜光刻技術(shù)可大幅提高芯片制造效率。

Nanoscribe公司推出針對(duì)微光學(xué)元件（如微透鏡、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件）具有特殊性能的新型打印材料，IP-n162光刻膠。全新光敏樹(shù)脂材料具有高折射率，高色散和低阿貝數(shù)的特性，這些特性對(duì)于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計(jì)尤為重要，尤其是在沒(méi)有旋轉(zhuǎn)對(duì)稱性和復(fù)合三維光學(xué)系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高，因此光敏樹(shù)脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先，同時(shí)也是光通訊、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當(dāng)好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實(shí)現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學(xué)設(shè)計(jì)，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個(gè)新的高度。由于其光學(xué)特性，高折射率聚合物可促進(jìn)許多運(yùn)用突破性技術(shù)的各種應(yīng)用，例如光電應(yīng)用中，他們可以增加顯示設(shè)備、相機(jī)或投影儀鏡頭的視覺(jué)特性。此外，這些材料在3D微納加工技術(shù)應(yīng)用下可制作更高階更復(fù)雜更小尺寸的3D微光學(xué)元件。例如圖示中可應(yīng)用于微型成像系統(tǒng)，內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測(cè)的微透鏡。

作為基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的微細(xì)加工領(lǐng)域市場(chǎng)帶領(lǐng)者，Nanoscribe在全球30多個(gè)國(guó)家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體?！拔覀?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進(jìn)的2PP技術(shù)而感到自豪，憑借我們的技術(shù)支持，我們的客戶實(shí)現(xiàn)了一個(gè)又一個(gè)突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司，與客戶保持良好密切的合作關(guān)系是我們保持優(yōu)于市場(chǎng)地位的關(guān)鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官M(fèi)artinHermatschweiler表示?；?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)，Nanoscribe為前列科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持，并推動(dòng)生物打印、微流體、微納光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展?！拔覀兎浅Ｆ诖尤隒ELLINK集團(tuán)，共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來(lái)所帶來(lái)的更大機(jī)遇”MartinHermatschweiler說(shuō)道。無(wú)掩膜光刻技術(shù)還具有靈活性和可擴(kuò)展性。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司它可以根據(jù)不同需求進(jìn)行快速的圖案設(shè)計(jì)和修改，無(wú)需制作復(fù)雜的掩膜板，提高了加工的靈活性和效率。湖北無(wú)掩膜光刻3D打印

無(wú)掩膜光刻技術(shù)助力創(chuàng)新。上海進(jìn)口無(wú)掩膜光刻設(shè)備

Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商，擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù)，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務(wù)。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商，擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù)，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務(wù)。它的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)，結(jié)合具備生物兼容特點(diǎn)的光敏樹(shù)脂和生物材料，開(kāi)發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu)，適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用，如設(shè)計(jì)和定制微型生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的原型制作。借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù)，您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像，適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來(lái)研究細(xì)胞生長(zhǎng)、遷移和干細(xì)胞分化。此外，3D微納加工技術(shù)還可以應(yīng)用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學(xué)儀器，包括植入物，微針和微孔膜等制作。上海進(jìn)口無(wú)掩膜光刻設(shè)備