湖北微納米雙光子聚合無(wú)掩光刻

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-08-13

QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要:快速原型制作,高精度,高設(shè)計(jì)自由度,簡(jiǎn)易明了的工程流程;工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級(jí)批量生產(chǎn);200個(gè)標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量;通用及專門使用的打印材料;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維邀您一起探討國(guó)內(nèi)在雙光子聚合技術(shù)領(lǐng)域的未來(lái)發(fā)展。湖北微納米雙光子聚合無(wú)掩光刻

湖北微納米雙光子聚合無(wú)掩光刻,雙光子聚合

   雙光子聚合技術(shù)(2PP)是一種“納米光學(xué)”3D打印方法,類似于光固化快速成型技術(shù),未來(lái)學(xué)家ChristopherBarnatt認(rèn)為這種技術(shù)未來(lái)可能會(huì)成為主流3D打印形式。國(guó)際上,維也納科技大學(xué)的科學(xué)家們一致致力于提高感光性樹脂性能和成像技術(shù)。而英國(guó)帝國(guó)理工學(xué)院還通過(guò)德國(guó)的Nanoscribe設(shè)備打印出只有100微米長(zhǎng)的中國(guó)長(zhǎng)城模型贈(zèng)送給我們國(guó)家。NanoScribe這樣的雙光子聚合技術(shù)潛在的應(yīng)用范圍和影響力是很特殊的。其應(yīng)用領(lǐng)域包括:光子學(xué)(Photonics):光子晶體、超穎材料、激光分布回饋術(shù)(DFBLasers)光子共振環(huán)、繞射光學(xué)微光子學(xué)(MicroOptics):微光學(xué)器件、整合型光學(xué)微流道技術(shù)(MicroFluidics):生醫(yī)芯片系統(tǒng)、物質(zhì)研究開發(fā)與分析、三維基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)與微流道通路生命科學(xué)(LifeSciences):細(xì)胞外數(shù)組結(jié)構(gòu)、干細(xì)胞分離術(shù)、細(xì)胞成長(zhǎng)研究、細(xì)胞遷移研究、組織工程納米與微米工藝(Nano-andMicrotechnology):超細(xì)分辨率光學(xué)掩膜、壁虎與蓮花效應(yīng)分析天津高精度雙光子聚合3D打印Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維為您揭秘什么是飛秒激光雙光子聚合納米光刻。

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QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要:快速原型制作,高精度,高設(shè)計(jì)自由度,簡(jiǎn)易明了的工程流程;工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級(jí)批量生產(chǎn);200個(gè)標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量;通用及專門使用的打印材料;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義

事實(shí)上,雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時(shí)這個(gè)實(shí)驗(yàn)室在nature上發(fā)表的一篇工作,也就是傳說(shuō)中的納米牛引起了極大的轟動(dòng):《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices:Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,這篇文獻(xiàn)中還進(jìn)行了另外一個(gè)更厲害的工作,這兩位教授做出了當(dāng)時(shí)世界上特別小的彈簧振子,其加工分辨率達(dá)到了120nm,超越了衍射極限,同時(shí)還沒有使用諸如近場(chǎng)加工之類的解決方案,而是單純的利用了材料的性質(zhì)。來(lái)自不來(lái)梅大學(xué)微型傳感器、致動(dòng)器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學(xué)家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式,使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng),利用雙光子聚合原理(2PP)結(jié)合光刻技術(shù),將自由形式3D微流控混合元件集成到預(yù)制的晶圓級(jí)二維微流道中NanoScribe的雙光子聚合技術(shù)在光子學(xué)領(lǐng)域運(yùn)用特別廣。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復(fù)合物,或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件(DOE),并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻,刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝,衍射光學(xué)元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高。雙光子聚合技術(shù)運(yùn)用在哪些地方你了解嗎?歡迎咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。湖南新型雙光子聚合三維光刻

Nanoscribe公司的Photonic Professional GT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程。湖北微納米雙光子聚合無(wú)掩光刻

加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領(lǐng)域的先驅(qū)和市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)我們是您在微加工系統(tǒng)、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴。我們成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工分離出來(lái)的單獨(dú)子公司,是一個(gè)充滿活力、屢獲殊榮的公司,并于2021年6月成為BICO集團(tuán)的一部分。憑借成熟穩(wěn)定的系統(tǒng)、直觀的一步加工工作流程和一體化解決方案,我們的3000多名系統(tǒng)用戶正在致力于研究改變未來(lái)的應(yīng)用。Nanoscribe的用戶群體中,有科學(xué)研究和工業(yè)的創(chuàng)新者,包括生命科學(xué)、微光學(xué)、光子學(xué)、材料工程、微流體、微力學(xué)和MEMS。他們優(yōu)越的創(chuàng)新現(xiàn)已發(fā)表在1300多份同行評(píng)議期刊上。湖北微納米雙光子聚合無(wú)掩光刻