高精度Nanoscribe微流道

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-08-25

多年來(lái),Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項(xiàng)目,包括等離子體技術(shù)、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項(xiàng)目。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機(jī)構(gòu)一起開(kāi)發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團(tuán)隊(duì)的項(xiàng)目為期三年,名為Miliquant,由德國(guó)聯(lián)邦教育和研究部(簡(jiǎn)稱BMBF)提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,將用于量子技術(shù)創(chuàng)新,并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷、自動(dòng)駕駛和細(xì)胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團(tuán)隊(duì)將開(kāi)展多項(xiàng)實(shí)驗(yàn),開(kāi)發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng),這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作,還需要開(kāi)發(fā)可靠的組件,以及組裝和制造的新方法。


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高精度Nanoscribe微流道,Nanoscribe

基于雙光子聚合(2PP)原理的雙光子灰度光刻(2GL®)是Nanoscribe技術(shù),具備體素動(dòng)態(tài)控制能力。在掃描激光焦點(diǎn)橫跨掃描平面時(shí),調(diào)制曝光劑量會(huì)改變光敏樹(shù)脂內(nèi)的體素大小,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)聚合體素尺寸的精細(xì)可控變化。這是激光功率調(diào)制和高速振鏡掃描與精確的橫向載物臺(tái)運(yùn)動(dòng)同步的結(jié)果。為此,將灰度圖像轉(zhuǎn)換為曝光級(jí)別的空間變化,從而在一個(gè)平面上打印不同的體素高度。 2GL有什么優(yōu)勢(shì)? 雙光子灰度光刻 技術(shù)(2GL®)使用激光束調(diào)制和高速振鏡的高頻同步進(jìn)行單體素調(diào)節(jié),從而實(shí)現(xiàn)光學(xué)質(zhì)量表面結(jié)構(gòu)。通過(guò)高精度定位單元和自校準(zhǔn)程序,可在拼接相鄰打印區(qū)域時(shí)以出色準(zhǔn)確性進(jìn)行打印,以制造大型結(jié)構(gòu)。2GL動(dòng)態(tài)調(diào)整打印場(chǎng)邊界處的激光劑量,以補(bǔ)償光敏聚合物的化學(xué)誘導(dǎo)收縮和定位缺陷。通過(guò)這種功能組合,可以在幾平方厘米的區(qū)域內(nèi)打印出真正的無(wú)縫結(jié)構(gòu),消除所有拼接痕跡。北京超高速Nanoscribe無(wú)掩膜激光直寫(xiě)德國(guó)Nanoscribe公司于2018年底推出了全新的微納3D打印系統(tǒng)- Photonic Professional GT2 (PPGT2)。

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Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復(fù)合物,或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件(DOE),并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻,刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝,衍射光學(xué)元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高。  

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。Quantum X shape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。總而言之,該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個(gè)科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性(如生命科學(xué)、材料工程、微流體、微納光學(xué)、微機(jī)械和微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)等)  Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維邀您一起探討增材制造的現(xiàn)狀和未來(lái)。

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   Nanoscribe設(shè)備專注于納米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計(jì)用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過(guò)程中,激光固化部分流體光敏材料,逐層固化。使用雙光子聚合,分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米。另一方面,GT2現(xiàn)在可以在短時(shí)間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體,通常為160納米至毫米范圍。此外,使用GT2,用戶可以選擇針對(duì)其應(yīng)用定制的多組物鏡,基板,材料和自動(dòng)化流程。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,用于制作單個(gè)元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,滿足智能手機(jī)行業(yè)中微透鏡或細(xì)胞生物學(xué)中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求Nanoscribe的雙光子微納3D打印設(shè)備具有極大設(shè)計(jì)自由度的特點(diǎn)。重慶進(jìn)口NanoscribeQuantum X

專注于微納米3D打印設(shè)備的額研發(fā)和應(yīng)用。高精度Nanoscribe微流道

作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者,Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域,諸如力學(xué)超材料,微納機(jī)器人,再生醫(yī)學(xué)工程,微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國(guó)子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強(qiáng)了全球銷售活動(dòng),并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺(jué)效果上更清晰,結(jié)構(gòu)分類上更明確。首頁(yè)導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息,產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫(kù),公司資訊和技術(shù)支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對(duì)信息的了解和需求。 高精度Nanoscribe微流道