天津MEMS增材制造激光直寫

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-12-03

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,以達(dá)到比較高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量。作為一款真正意義上的全能機(jī)型,該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。總而言之,該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個(gè)科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性(如生命科學(xué)、材料工程、微流體、微納光學(xué)、微機(jī)械和微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)等)。Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解金屬材料增材制造技術(shù)。天津MEMS增材制造激光直寫

天津MEMS增材制造激光直寫,增材制造

Nanoscribe在2021年6月30日推出了頭一個(gè)用于熔融石英玻璃微結(jié)構(gòu)的3D微加工商用高精度增材制造工藝和材料——GlassPrintingExplorerSet。新型光樹脂GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心,與Glassomer聯(lián)合研究開發(fā)。據(jù)說(shuō)這是目前只有一種用于熔融石英玻璃微細(xì)加工的光樹脂,因?yàn)楦吖鈱W(xué)透明度以及出色的熱、機(jī)械和化學(xué)性能脫穎而出,為探索生命科學(xué)、微流體、微光學(xué)、材料工程和其他微技術(shù)領(lǐng)域的新應(yīng)用開辟了機(jī)會(huì)。GlassPrintingExplorerSet能夠高精度3D打印,并且具有耐高溫性、機(jī)械和化學(xué)穩(wěn)定性以及光學(xué)透明度。熔融石英玻璃的雙光子聚合(2PP)技術(shù)展現(xiàn)了玻璃產(chǎn)品的出色性能,推動(dòng)了對(duì)生命科學(xué)、微流體、微光學(xué)和其他領(lǐng)域的探索。瑞士弗里堡工程與建筑學(xué)院助理教授兼圖形打印系主任NicolasMuller稱,GP-Silica研究制造復(fù)雜微流體系統(tǒng)方面具有巨大潛力,盡管所需的熱后處理要求很高。海南生物工程增材制造系統(tǒng)增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別你知道嗎?想要了解請(qǐng)咨詢Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維。

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隨著各行各業(yè)的發(fā)展及科技的進(jìn)步,人們可以用3D打印創(chuàng)建在人體內(nèi)傳導(dǎo)藥物的載體,可以用3D打印來(lái)建造房子。人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設(shè)計(jì),甚至可以用這項(xiàng)技術(shù)做出巨大的藝術(shù)雕塑。Nanoscribe公司專注于微觀3D打印技術(shù),通過(guò)該用戶可以得到尺寸微小的高質(zhì)量產(chǎn)品。全新推出的QuantumX平臺(tái)新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)。該技術(shù)將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時(shí)具備高速打印,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了**復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。

Nanoscribe設(shè)備專注于納米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計(jì)用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過(guò)程中,激光固化部分液態(tài)光敏材料,逐層固化。使用雙光子聚合,分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米。另一方面,GT2現(xiàn)在可以在短時(shí)間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體,通常為160納米至毫米范圍。此外,使用GT2,用戶可以選擇針對(duì)其應(yīng)用定制的多組物鏡,基板,材料和自動(dòng)化流程。Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解增材制造的工藝過(guò)程前處理。

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QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實(shí)現(xiàn)通過(guò)簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量??偠灾?,工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝,適用于晶圓級(jí)批量加工。作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn),同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件(如衍射和折射光學(xué)器件)的整體制造時(shí)間。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。增材制造技術(shù),行業(yè)創(chuàng)新。山東微機(jī)械增材制造無(wú)掩膜光刻

Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技(上海)有限公司為您講解增材制造的基本原理、優(yōu)缺點(diǎn)及具體方法。天津MEMS增材制造激光直寫

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。光學(xué)和光電組件的小型化對(duì)于實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要。通過(guò)傳統(tǒng)的微納3D打印來(lái)制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計(jì)會(huì)有分辨率不足和光學(xué)質(zhì)量表面不達(dá)標(biāo)的缺陷,但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問(wèn)題。該技術(shù)不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件,還可以直接在預(yù)先設(shè)計(jì)的圖案和拓?fù)渖暇_地直接打印復(fù)雜結(jié)構(gòu),包括光子集成電路,光纖頂端和預(yù)制晶片等。世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制,自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn)天津MEMS增材制造激光直寫