浙江實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe無(wú)掩膜激光直寫(xiě)

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件，從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期，包括仿生表面，微光學(xué)元件，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm。更多有關(guān)增材制造的咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維。浙江實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe無(wú)掩膜激光直寫(xiě)

雙光子聚合（2PP）是一種可實(shí)現(xiàn)比較高精度和完全設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法。而作為同類(lèi)比較好的3D微加工系統(tǒng)QuantumXshape具有下列優(yōu)異性能：首先，在所有空間方向上低至100納米的特征尺寸控制，適用于納米和微米級(jí)打印；其次制作高達(dá)50毫米的目標(biāo)結(jié)構(gòu)，適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時(shí)還離不開(kāi)工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度，并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率重慶微納光刻N(yùn)anoscribe工藝Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域，諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人等等。

**是全世界一個(gè)主要死亡原因，2020年有近1000萬(wàn)人死于**[1]。而其中膠質(zhì)母細(xì)胞瘤是一種極具破壞性的腦**，其*細(xì)胞增殖非?？烨揖哂?*性。為了研究、***和破壞腦腫瘤細(xì)胞，研究人員正在研究使用質(zhì)子放射***，該***手段已被證明在不同**類(lèi)型中比x射線放射***更有效和微創(chuàng)的技術(shù)。然而，質(zhì)子放射***的成本很高，這使得在動(dòng)物和人類(lèi)身上進(jìn)行的試驗(yàn)也變得非常昂貴，幾乎無(wú)法進(jìn)行。質(zhì)子放射***的高成本也導(dǎo)致缺乏從細(xì)胞水平了解質(zhì)子對(duì)膠質(zhì)母細(xì)胞瘤影響的臨床研究。體外模型為評(píng)估*細(xì)胞對(duì)藥物和輻射的反應(yīng)提供了一個(gè)平臺(tái)。然而，由于無(wú)法模擬體內(nèi)自然發(fā)生的3D環(huán)境，傳統(tǒng)2D單層細(xì)胞培養(yǎng)存在很大局限性。為了尋找更真實(shí)的模擬環(huán)境，代爾夫特理工大學(xué)（DelftUniversityofTechnology）的科學(xué)家們利用Nanoscribe的3D微納加工系統(tǒng)制作了3D工程細(xì)胞微環(huán)境，并且***次在質(zhì)子束放射實(shí)驗(yàn)中研究了所培養(yǎng)的膠質(zhì)母細(xì)胞瘤細(xì)胞3D打印支架，以探究其對(duì)輻射的反應(yīng)。令人印象深刻的是，該實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示，與2D單層細(xì)胞相比，3D工程細(xì)胞培養(yǎng)中的DNA損傷得到了***降低。

全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細(xì)加工。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級(jí)衍射光學(xué)元件的傳統(tǒng)制作工藝。全球頭一個(gè)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動(dòng)的雙光子聚合技術(shù)結(jié)合起來(lái)。QuantumX提供了完全的設(shè)計(jì)自由度、高速的打印效率、以及增材制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度。快速、準(zhǔn)確的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計(jì)迭代周期，實(shí)現(xiàn)了低成本的微納加工。憑借著獨(dú)有的產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)Nanoscribe新發(fā)布的QuantumX在2019慕尼黑光博會(huì)展（LASERWorldofPhotonics2019）榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng)。目前Nanoscribe微納米3D打印已經(jīng)全方面進(jìn)入中國(guó)市場(chǎng)。

借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù)，您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像，適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來(lái)研究細(xì)胞生長(zhǎng)、遷移和干細(xì)胞分化。此外，3D微納加工技術(shù)還可以應(yīng)用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學(xué)儀器，包括植入物，微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說(shuō)，在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。江蘇實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe激光直寫(xiě)

高效能能源器件，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。浙江實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe無(wú)掩膜激光直寫(xiě)

Nanoscribe稱(chēng)，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專(zhuān)利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹(shù)脂分配器。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。浙江實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe無(wú)掩膜激光直寫(xiě)