黑龍江多模硅光芯片耦合測試系統(tǒng)廠家

在光芯片領域，芯片耦合封裝問題是硅光芯片實用化過程中的關鍵問題，芯片性能的測試也是尤其重要的一個步驟，現(xiàn)有的硅光芯片耦合測試系統(tǒng)是將光芯片的輸入輸出端光纖置于顯微鏡下靠人工手工移動微調架轉軸進行調光，并依靠對輸出光的光功率進行監(jiān)控，再反饋到微調架端進行調試。芯片測試則是將測試設備按照一定的方式串聯(lián)連接在一起，形成一個測試站。具體的，所有的測試設備通過光纖，設備連接線等連接成一個測試站。例如將VOA光芯片的發(fā)射端通過光纖連接到光功率計，就可以測試光芯片的發(fā)端光功率。將光芯片的發(fā)射端通過光線連接到光譜儀，就可以測試光芯片的光譜等。硅光芯片耦合測試系統(tǒng)硅光芯片的好處：處理的應用領域廣。黑龍江多模硅光芯片耦合測試系統(tǒng)廠家

硅光芯片耦合測試系統(tǒng)中硅光芯片與激光器的封裝結構,封裝結構包括基座,基座設置與硅光芯片連接的基座貼合面,與激光器芯片和一體化反射鏡透鏡連接的基座上表面;基座設置通孔,通孔頂部開口與一體化反射鏡透鏡的出光面連接,通孔底部開口與硅光芯片的光柵耦合器表面連接;激光器芯片靠近一體化反射鏡透鏡的入光面的一端設置高斯光束出口;激光器芯片的高斯光束方向水平射入一體化反射鏡透鏡的入光面,經(jīng)一體化反射鏡透鏡的反射面折射到一體化反射鏡透鏡的出光面,穿過通孔聚焦到光柵耦合器表面;基座貼合面與基座上表面延伸面的夾角為a1。通過對基座的底部進行加工形成斜角,角度的設計滿足耦合光柵的較佳入射角。云南分路器硅光芯片耦合測試系統(tǒng)公司利用硅的高折射率差和成熟的制造工藝,硅光子學被認為是實現(xiàn)高集成度光子芯片的較佳選擇。

硅光芯片耦合測試系統(tǒng)中的硅光與芯片的耦合方法及其硅光芯片,方法包括以下步驟:將硅光芯片粘貼固定在基板上,硅光芯片的端面耦合波導為懸臂梁結構,具有模斑變換器;通過圖像系統(tǒng),微調架將光纖端面與耦合波導的模斑變換器耦合對準,固定塊從側面緊挨光纖并固定在基板上;硅光芯片的輸入端和輸出端分別粘貼墊塊并支撐光纖未剝除涂覆層的部分;使用微調架將光纖端面與模斑變換器區(qū)域精確對準,調節(jié)至合適耦合間距后采用紫外膠將光纖分別與固定塊和墊塊粘接固定;本發(fā)明方案簡易可靠,工藝復雜度低,通用性好,適用于批量制作。

硅光芯片耦合測試系統(tǒng)是一種應用雙波長的微波光子頻率測量設備,以及一種微波光子頻率測量設備的校正方法和基于此設備的微波頻率測量方法。在微波光子頻率測量設備中,本發(fā)明采用獨特的雙環(huán)耦合硅基光子芯片結構,可以形成兩個不同深度的透射譜線。該系統(tǒng)采用一定的校準方法,預先得到微波頻率和兩個電光探測器光功率比值的函數(shù),測量過程中,得到兩個電光探測器光功率比值后,直接采用查表法得到微波頻率。該系統(tǒng)將多個光學器件集成在硅基光學芯片上,從整體上減小了設備的體積,提高系統(tǒng)的整體可靠性。硅光芯片耦合測試系統(tǒng)硅光芯片的好處：程序和數(shù)據(jù)空間分開，可以同時訪問指令和數(shù)據(jù)。

硅光芯片耦合測試系統(tǒng)系統(tǒng)的測試設備主要是包括可調激光器、偏振控制器和多通道光功率計，通過光矩陣的光路切換，每一時刻在程序控制下都可以形成一個單獨的測試環(huán)路。光源出光包含兩個設備，調光過程使用ASE寬光源，以保證光路通過光芯片后總是出光，ASE光源輸出端接入1*N路耦合器；測試過程使用可調激光器，以掃描特定功率及特定波長，激光器出光后連接偏振控制器輸入端，以得到特定偏振態(tài)下光信號；偏振控制器輸出端接入1個N*1路光開光；切光過程通過輸入端光矩陣，包含N個2*1光開關，以得到特定光源。輸入光進入光芯片后由芯片輸出端輸出進入輸出端光矩陣，包含N個2*1路光開關，用于切換輸出到多通道光功率計或者PD光電二極管，分別對應測試過程與耦合過程。硅光芯片耦合測試系統(tǒng)硅光芯片的好處：具有在單周期內操作的多個硬件地址產(chǎn)生器。遼寧單模硅光芯片耦合測試系統(tǒng)加工廠家

硅光芯片耦合測試系統(tǒng)保證產(chǎn)品質量一致性，節(jié)約了人力成本，降低對人工的依賴。黑龍江多模硅光芯片耦合測試系統(tǒng)廠家

經(jīng)過多年發(fā)展,硅光芯片耦合測試系統(tǒng)如今已經(jīng)成為受到普遍關注的熱點研究領域。利用硅的高折射率差和成熟的制造工藝,硅光子學被認為是實現(xiàn)高集成度光子芯片的較佳選擇。但是,硅光子學也有其固有的缺點,比如缺乏高效的硅基有源器件,極低的光纖-波導耦合效率以及硅基波導明顯的偏振相關性等都制約著硅光子學的進一步發(fā)展。針對這些問題,試圖通過新的嘗試給出一些全新的解決方案。首先我們回顧了一些光波導的數(shù)值算法,并在此基礎上開發(fā)了一個基于柱坐標系的有限差分模式分析器,它非常適合于分析彎曲波導的本征模場。對于復雜光子器件結構的分析,我們主要利用時域有限差分以及波束傳播法等數(shù)值工具。接著我們回顧了硅基光子器件各項主要的制造工藝和測試技術。重點介紹了幾種基于超凈室設備的關鍵工藝,如等離子增強化學氣相沉積,電子束光刻以及等離子體干法刻蝕。為了同時獲得較高的耦合效率以及較大的對準容差,本論文主要利用垂直耦合系統(tǒng)作為光子器件的主要測試方法。黑龍江多模硅光芯片耦合測試系統(tǒng)廠家