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等離子體(plasma)又叫做電漿,它通過(guò)給氣體施加足夠的能量(通常為氣體放電)而電離形成,是由部分電子被剝奪后的原子及原子團(tuán)被電離后產(chǎn)生的正負(fù)離子組成的離子化氣體狀物質(zhì),廣存在于宇宙中,常被視為是物質(zhì)的第四態(tài)。雖然等離子體作為高度電離的氣體由大量的正負(fù)帶電離子和中性粒子組成,但等離子體整體表現(xiàn)為電中性。等離子體根據(jù)粒子溫度和整體能量狀態(tài)可分為高溫等離子體和低溫等離子體,其中低溫等離子體又能細(xì)分為冷等離子體和熱等離子體。詳見(jiàn)表1.1。主要應(yīng)用于固廢和危廢處理的是熱等離子體。生活中的等離子體有哪些分類?江蘇低功耗熱等離子體矩系統(tǒng)
熱等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(TPCVD):可形成致密的陶瓷膜?;瘜W(xué)氣相沉積(CVD)是一種較好的生產(chǎn)硬質(zhì)膜的方法,廣泛應(yīng)用于切削刀具,并且能對(duì)具有復(fù)雜形狀的工件進(jìn)行鍍膜。應(yīng)用這種方法時(shí)需要很高的基體溫度,限制了CVD的應(yīng)用。與CVD方法比較,PVD方法的主要優(yōu)點(diǎn)是成膜溫度低,一般在500 0C以下,而且不需要后續(xù)熱處理,但是PVD法很難在復(fù)雜形狀的工具上得到均勻的膜。將CVD和PVD兩者相結(jié)合導(dǎo)致了等離子體增強(qiáng)CVD方法的產(chǎn)生。迭加在CVD成膜系統(tǒng)中的等離子體在降低成膜溫度的同時(shí)也減少了成膜的方向性。利用CO2激光輔助等離子體激勵(lì)式化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)在硅基片上沉積出非晶型含氫較低的氮化硅薄膜,這些薄膜的致密性及平整度良好,其抗腐蝕性亦明顯提高。上海小型化熱等離子體矩設(shè)備熱等離子體矩價(jià)位。歡迎咨詢江蘇先競(jìng)等離子體技術(shù)研究院有限公司。
等離子體放電燒結(jié)技術(shù)(SPS)是一種新型的陶瓷燒結(jié)方法,融等離子體活化、熱壓及電阻加熱為一體,具有燒結(jié)時(shí)間短、燒結(jié)樣品晶粒均勻、致密度高等優(yōu)點(diǎn)。離子體燒結(jié)的關(guān)鍵在于利用粉末顆粒間的間隙所產(chǎn)生的微放電現(xiàn)象,由放電所產(chǎn)生的氣體離子及電子等高能粒子撞擊粉末顆粒間的接觸部分,能使接觸部位的物質(zhì)產(chǎn)生蒸發(fā)作用而起到凈化及活化的目的。當(dāng)所施加的脈沖電壓達(dá)到一定值時(shí),電極與粉末以及粉末粒子之間的接觸面所形成的絕緣層被擊穿而放電。由放電而產(chǎn)生的撞擊壓力,可在粒子上賦予形變,易產(chǎn)生塑性變形,并且助長(zhǎng)了原子的擴(kuò)散速度,達(dá)到了良好的燒結(jié)效果。在等離子體燒結(jié)過(guò)程中,粉末中不必添加任何粘結(jié)劑,也無(wú)須預(yù)先進(jìn)行壓片處理。粉末可直接裝入燒結(jié)模具,然后對(duì)粉末施加單軸向壓力,并用脈沖電壓產(chǎn)生等離子體活化顆粒表面,同時(shí)用直流電進(jìn)行加熱。
熔融固化體 vitrified slag:危險(xiǎn)廢物中的無(wú)機(jī)物經(jīng)高溫熔融,冷卻后形成的玻璃態(tài)物質(zhì)。熔融富集物 smelting enrichment:含有價(jià)金屬危險(xiǎn)廢物在熔融過(guò)程中富集的有價(jià)金屬物質(zhì)。設(shè)施設(shè)備利用率指標(biāo) equipment utilization ratio indicators:反映等離子體處理裝備運(yùn)行過(guò)程中的設(shè)備、主要構(gòu)筑物利用率的評(píng)價(jià)指標(biāo)。環(huán)境效益指標(biāo) environmental benefit indicators:等離子體處理裝備運(yùn)行過(guò)程中的環(huán)境影響(包括廢氣、固廢、噪聲等)的評(píng)價(jià)指標(biāo)。資源能源消耗指標(biāo) consumption of resource and energy indicators:等離子體處理裝備運(yùn)行過(guò)程中反映水、電、燃料、助劑(空氣、氧氣等)等消耗水平的評(píng)價(jià)指標(biāo)。熱等離子體矩設(shè)備哪家強(qiáng)?推薦咨詢江蘇先競(jìng)等離子體技術(shù)研究院有限公司。
等離子噴涂是一種材料表面強(qiáng)化和表面改性的技術(shù),可以使基體表面具有耐磨、耐蝕、耐高溫氧化、電絕緣、隔熱、防輻射、減磨和密封等性能。 等離子涂技術(shù)是采用由直流電驅(qū)動(dòng)的等離子電弧作為熱源,將陶瓷、合金、金屬等材料加熱到熔融或半熔融狀態(tài),并以高速噴向經(jīng)過(guò)預(yù)處理的工件表面而形成附著牢固的表面層的方法。 等離子噴涂(1)可以獲得各項(xiàng)性能的涂層。由于等離子噴涂火焰溫度極高、速度極快,幾乎可以熔化并噴涂任何材料,形成的涂層具有結(jié)合強(qiáng)度較高、孔隙率低且噴涂效率高、使用范圍廣等優(yōu)點(diǎn),故在航空、冶金、機(jī)械、機(jī)車車輛等方面得到廣的應(yīng)用,在熱噴涂技術(shù)中等離子噴涂占據(jù)著很重要的地位。(2)涂層平整光滑,可精確控制厚度(3)涂層孔隙率低,結(jié)合度高,涂層孔隙率可控制在1%~10%,結(jié)合強(qiáng)度可達(dá)60~70MPa。(4)涂層氧化物和雜質(zhì)含量少,與電鍍、電刷、滲碳、滲氮相比,等離子噴涂層更厚、更硬、更具防腐效果。(5)噴涂過(guò)程對(duì)基體的熱影響小,基體組織不會(huì)發(fā)生變化。工件受熱溫度可控制低于250℃,因此也可在塑料、油漆、玻璃、石棉布等非金屬材料上噴涂。熱等離子體矩廠家,歡迎咨詢江蘇先競(jìng)等離子體技術(shù)研究院有限公司。湖北熱等離子體矩方法
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危廢完成熱分解氣化后,因供給的氧氣量不足,還剩有未燃燒的殘?zhí)?,繼續(xù)升溫加熱,供入空氣使得在高溫熔融區(qū)域氣化后的可燃?xì)怏w和殘?zhí)祭^續(xù)燃燒,該燃燒區(qū)域的溫度穩(wěn)定保持在1300℃,該區(qū)域?yàn)槲U氣化與熱解提供大量的熱量。燃燒后的無(wú)機(jī)不燃物降落到高溫燃燒熔融區(qū)域,危廢中的揮發(fā)分氣化揮發(fā),隨煙氣流動(dòng)干燥濕垃圾。等離子體熔融玻璃化(plasma vitrification)熔融玻璃化是指在熱等離子體的高溫作用下,廢物與加入的適當(dāng)添加劑等物質(zhì)混合熔融形成的一種穩(wěn)定的玻璃態(tài)物質(zhì)。原廢物中的有害金屬被包封在固體中,并阻止其遷移到水和大氣中,可達(dá)到穩(wěn)定化、減量化及資源化的目的。一般其反應(yīng)機(jī)制是利用SiO2網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)形成難溶物質(zhì)。江蘇低功耗熱等離子體矩系統(tǒng)
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