行業(yè)通用清潔度要求
與許多其他質(zhì)量驗(yàn)收要求一樣，IPC規(guī)定由用戶和供應(yīng)商協(xié)商確定清潔度要求。下面將重點(diǎn)介紹IPC-A-610H和J-STD-001 H標(biāo)準(zhǔn)中的一些要點(diǎn)。
"除非設(shè)計(jì)或用戶另有規(guī)定，殘留物狀況的可接受性應(yīng)該在應(yīng)用三防漆之前的制造過程中確定，如果沒有應(yīng)用三防漆，則在終裝配上確定。"
由于制造材料或工藝參數(shù)的變化更可能對終產(chǎn)品殘留物狀況和產(chǎn)品可靠性產(chǎn)生影響，從而導(dǎo)致需要重新認(rèn)證，因此清潔度要求取決于工藝控制參數(shù)。制造材料、工藝變更分為兩類：重大變更或輕微變更，重大變更需要驗(yàn)證，輕微變更需要客觀證據(jù)的支持。
認(rèn)證測試通常更普遍。通常有證據(jù)支持的輕微變更較簡單，包括持續(xù)時(shí)間較短的SIR測試或重點(diǎn)關(guān)注化學(xué)特性的測試。
同樣，該標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定由制造商和用戶確定工藝變更的程度及相關(guān)要求的變更通知。但I(xiàn)PC提供了一些實(shí)用的指南： 市面上常見清洗劑價(jià)格大全。廣東基板清洗劑咨詢
清潔程度要求電子制造商面臨著對生產(chǎn)可靠的硬件所需的清潔等級程度難以抉擇?！岸喔蓛舨潘阕銐蚋蓛簟边@個(gè)問題給越來越窄的導(dǎo)線和線路帶來更多的挑戰(zhàn)。在工業(yè)中某一領(lǐng)域可接受的潔凈度（如一個(gè)玩具進(jìn)行了SMT波峰焊后），對于另外的領(lǐng)域或許就是不可接受（例如倒裝芯片封裝）。很多的工藝**們可能對清潔度并不十分了解，挑戰(zhàn)仍然存在于與殘留相關(guān)的某個(gè)或者某些長期可靠性方面的問題，或者是決定殘留對硬件的功能性影響有多大。需要考慮的有如下幾方面的因素：⑴終端使用環(huán)境（航天、醫(yī)療、、汽車、信息科技等）⑵產(chǎn)品的設(shè)計(jì)/服役周期（90天、3年、20年、50年、保質(zhì)期+1天）⑶涉及的技術(shù)（高頻、高阻抗、電源）⑷失效現(xiàn)象與標(biāo)準(zhǔn)所定義的終端產(chǎn)品1、2、3級相對應(yīng)的產(chǎn)品（例如：移動(dòng)電話、心率調(diào)整器）。 湖南mi led清洗劑使用步驟生產(chǎn)清洗劑要用到哪些機(jī)器？
清洗效果通過潔凈度指標(biāo)來評估
潔凈度等級標(biāo)準(zhǔn)
按中華人民共和國電子行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)SJ20896-2003有關(guān)規(guī)定，根據(jù)電子產(chǎn)品可靠性及工作性能要求，將電子產(chǎn)品潔凈度分為三個(gè)等級。
在實(shí)際工作中，根除污染實(shí)際上幾乎是不可能的，一個(gè)折中的辦法就是確定產(chǎn)品的污染可以和不可以接受的程度。如在PCB和PCBA行業(yè)，按照IPC-J-STD-001標(biāo)準(zhǔn)助焊劑殘留三級標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定＜40ug/cm2，離子污染物含量三級標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定≤1.5（Nacl)ug/cm2，萃取電阻率＞2×106Ω.cm。另外隨著PCBA的微型化，幾乎可以肯定這個(gè)含量還是太高了達(dá)不到產(chǎn)品真正的性能需求，現(xiàn)在常用的離子污染物要求大約≤0.2（Nacl)ug/cm2。
根據(jù)電子制造業(yè)長期以來的品質(zhì)管控?cái)?shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)結(jié)果來看，整個(gè)生產(chǎn)制造過程中，約有50%~70%的品質(zhì)不良，都是由產(chǎn)品被污染所致。早在上世紀(jì)七十年代，電子制造業(yè)就有了專門針對金屬及其離子污染的“ROSE——電阻率的溶劑萃取法”檢測標(biāo)準(zhǔn)。清洗作業(yè)是目前去除產(chǎn)品污染有效方式，因此從半導(dǎo)體芯片制造、封裝，到后面的PCAB封裝環(huán)節(jié)，幾乎每完成一道加工工序，都緊接著會有一道清洗作業(yè)。如清洗步驟數(shù)量是芯片制造工藝步驟占比比較大的工序，約占所有芯片制造工序步驟的30%以上。伴隨半導(dǎo)體制造技術(shù)節(jié)點(diǎn)的進(jìn)步，清洗工序的數(shù)量和重要性將繼續(xù)提高。在半導(dǎo)體芯片工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)進(jìn)入28nm、14nm以及更先進(jìn)等級后，工藝流程的延長且越趨復(fù)雜，產(chǎn)線成品率也會隨之下降。造成這種現(xiàn)象的一個(gè)原因就是先進(jìn)制程對雜質(zhì)污染物的敏感度更高，小尺寸污染物的高效清洗更困難。解決的方法主要是增加清洗步驟，以及采用清洗效率更高的水基型清洗技術(shù)。每個(gè)晶片在整個(gè)制造過程中需要甚至超過200道清洗步驟，晶圓清洗變得更加復(fù)雜、重要及富有挑戰(zhàn)性。 IGBT清洗劑生產(chǎn)廠家推薦。
在電子產(chǎn)品生產(chǎn)制程中，幾乎所有參與產(chǎn)品制造的金屬元素，都會釋入出各種金屬顆粒和金屬化合物，形成銨（Amonium）、鈣（Calcium）、鋰（Lithium）、鎂（Magnesium）、鉀（Potassium）、鈉（Sodium）等陽離子，另外還殘留有大量的“酸性離子”，如氯離子(Chloride)、溴離子（Bromide）、弱有機(jī)酸離子（WOA）、硫酸鹽離子（Sulfate）、Flux（助焊劑）等各式酸性負(fù)離子，這些由陽離子和負(fù)離子組成的污染物都屬于極性污染物。其中金屬顆粒物和陽離子里面的金屬離子超標(biāo)，很容易造成電子元器件絕緣降低，電容值飄移和電信號干擾，甚至造成電子線路直接短路，此外，活性較強(qiáng)的金屬顆粒物和金屬陽離子，還會置換掉一些組成電子電路導(dǎo)電物質(zhì)里活性較低的貴金屬給置換出來，造成電子電路的性能下降。 半導(dǎo)體清洗劑生產(chǎn)廠家。山西半導(dǎo)體封裝清洗劑咨詢
水基型清洗劑怎么樣？廣東基板清洗劑咨詢
顆粒物污染的分類：顆粒污染物指在產(chǎn)品設(shè)計(jì)開發(fā)時(shí)沒有將其列入產(chǎn)品的一部分卻實(shí)際含有了的任何物質(zhì)，甚至包括產(chǎn)品生產(chǎn)時(shí)所需要的原物料本身。舉例如下：金屬、玻璃、石頭、頭發(fā)、塑料，甚至原料本身所附有的物質(zhì)，產(chǎn)品加工生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的原材料本體顆粒、加工刃具上剝離下來的顆粒。一般來講，除了原材料本體附著、包裝物附著和操作人員皮膚與著裝附著的顆粒物是從外部帶入的外，潔凈室的顆粒物污染大部分是從內(nèi)部產(chǎn)生?？諝庵械念w粒物主要由設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)、生產(chǎn)過程、人員因素產(chǎn)生，這3種途徑共計(jì)產(chǎn)生了85%的顆粒物。潔凈室關(guān)于顆粒物污染治理的原則包括4條:不將顆粒物帶入，不讓顆粒物產(chǎn)生，不讓顆粒物堆積，迅速排除顆粒物，因此潔凈室內(nèi)，除了對作業(yè)人員的潔凈服裝，對帶入的工具、材料等，對于設(shè)備的清理和通風(fēng)都要嚴(yán)格的要求外，先進(jìn)的顆粒物污染清洗工藝研究，也是現(xiàn)代電子工業(yè)重點(diǎn)關(guān)注的領(lǐng)域之一。 廣東基板清洗劑咨詢
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