菲涅爾透鏡的應(yīng)用菲涅爾透鏡是透鏡的一個(gè)分支，由于它同其他的透鏡相比，具有體積小，重量輕，結(jié)構(gòu)緊湊的優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)它擁有不遜于其它透鏡的良好聚光性和成像性能，因此在**、航空、空間、工業(yè)生產(chǎn)和民用等各個(gè)領(lǐng)域獲得***的應(yīng)用。菲涅爾透鏡應(yīng)用在投影系統(tǒng)中的優(yōu)勢就是，通過聚焦或調(diào)整光線準(zhǔn)直從而增加增體顯示亮度，如果取消準(zhǔn)直鏡，光線在穿過面板時(shí)會大量損失，顯示中會出現(xiàn)明顯的熱斑效應(yīng)，降低顯示屏幕四周亮度。同樣，在LCD屏幕的另一面，我們也必須將光線從面板上集中到投影透鏡中。在觀看屏幕前使用菲涅爾透鏡所增加的亮度，在下圖中看光線分布。比較常用的是以下幾個(gè)方面的應(yīng)用：菲涅爾透鏡被證明比較好應(yīng)用就是在投影系統(tǒng)中，其作用就是準(zhǔn)直光線和聚焦光線。菲涅爾透鏡將光源發(fā)出的束光源調(diào)整為平行光，顯著提高顯示面板四周亮度，消除了太陽斑效應(yīng)，從而提高整體顯示亮度均勻性。通常菲涅爾透鏡與其他顯示元件（如柱面鏡）一起使用。菲涅爾透鏡應(yīng)用在投影系統(tǒng)中的優(yōu)勢就是，通過聚焦或調(diào)整光線準(zhǔn)直從而增加增體顯示亮度，如果取消準(zhǔn)直鏡，光線在穿過面板時(shí)會大量損失，顯示中會出現(xiàn)明顯的熱斑效應(yīng)，降低顯示屏幕四周亮度。菲涅爾透鏡組生產(chǎn)廠家電話多少？廣州菲涅爾透鏡 焦距
深度確定電路208被配置為從檢測器206接收圖像獲取數(shù)據(jù)，并且基于參考平面確定橫跨物體表面上的多個(gè)點(diǎn)的一個(gè)或多個(gè)空間測量結(jié)果?？梢曰谕渡涞轿矬w上的光圖案的扭曲計(jì)算得出這些測量結(jié)果。這種圖像處理可以使用本行業(yè)的公知技術(shù)，例如，標(biāo)準(zhǔn)測距或三角測量方法。在一些實(shí)施例中，光驅(qū)動器電路210被包括在光投影儀系統(tǒng)102中并且被配置為控制光源202的操作。因此，光驅(qū)動器電路210可以被配置為向光源202提供功率，更具體地控制應(yīng)用于光源202的功率的占空比。在一些實(shí)施例中，深度確定電路208可以向源驅(qū)動器電路210提供信號，以改變光源202的操作方式。例如，如果深度確定電路208發(fā)現(xiàn)接收圖像太模糊而無法做出有意義的確定，則其可以向源驅(qū)動器電路210提供信號以增大光源202的功率輸出或占空比?？梢蕴峁┨幚砥?12以執(zhí)行數(shù)字重建3d物體所需要的任何附加計(jì)算。處理器212可以是任何通用處理設(shè)備或微控制器，如根據(jù)本公開將明白的。在一些實(shí)施例中，處理器212被配置為將數(shù)字重建的3d物體存儲在存儲器(未示出)中。所存儲的數(shù)字3d物體可以用類型、位置、尺寸、或任何其他符合條件的因素進(jìn)行索引。所存儲的3d數(shù)字物體可以被諸如圖像識別軟件之類的各種應(yīng)用使用。東莞菲涅爾透鏡 成像平面菲涅爾透鏡材料模板有哪些？
d4)的多個(gè)vcsel的第四區(qū)域608?？讖綄挾萪1-d4中的每個(gè)孔徑寬度可以彼此相差相同的數(shù)量。例如，孔徑寬度d1-d4中的每個(gè)孔徑寬度可以相差500nm、1μm、2μm、或3μm。在另一示例中，孔徑寬度d1-d4可以是給定范圍(例如，1μm到10μm)內(nèi)的任意值。在所示出的具有不同孔徑寬度的vcsel陣列的四個(gè)區(qū)域的示例中(產(chǎn)生四個(gè)不同的斑點(diǎn)圖案)，總斑點(diǎn)噪聲降低大約50％盡管圖6示出了*四個(gè)區(qū)域，但是襯底302的表面上可包括分別具有給定孔徑寬度的vcsel陣列的任意數(shù)目的區(qū)域。另外，每個(gè)區(qū)域可以具有任何形狀或大小。在一些實(shí)施例中，任意區(qū)域可以部分或完全地與任何其他區(qū)域重疊。亞波長結(jié)構(gòu)集成與幾何光學(xué)相比，亞波長結(jié)構(gòu)(sws)提供了在更小的尺度上實(shí)現(xiàn)幾乎平坦的無相差光學(xué)的可能。sws可以由操縱光的波陣面、極化、或強(qiáng)度的亞波長散射器陣列構(gòu)成。像大多數(shù)基于衍射的光學(xué)設(shè)備一樣，sws通常被設(shè)計(jì)為比較好在一個(gè)波長或窄波長范圍內(nèi)操作。sws的一個(gè)示例包括電介質(zhì)傳輸陣列，該電介質(zhì)傳輸陣列提供偏振和相位的亞波長空間控制和高發(fā)射。這些設(shè)備基于制造在平面襯底上的具有不同幾何形狀的高折射率介電納米諧振器(散射器)的亞波長陣列。具有各種幾何形狀的散射器向所發(fā)送的光賦予不同的相位。
面部識別、從圖像的特征提取等)、以及改善機(jī)器人及其環(huán)境之間的交互的機(jī)器人學(xué)在內(nèi)的很多領(lǐng)域有用。但是，仍然有很多與sli相關(guān)聯(lián)的未解決的問題。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本申請一方面提供了一種激光源。該激光源包括：襯底；一個(gè)或多個(gè)***垂直腔面發(fā)射激光器(vcsel)結(jié)構(gòu)，一個(gè)或多個(gè)***vcsel結(jié)構(gòu)在襯底的表面上，其中每個(gè)***vcsel結(jié)構(gòu)具有***孔徑寬度，并且每個(gè)***vcsel結(jié)構(gòu)單獨(dú)地在襯底的表面上方延伸；以及一個(gè)或多個(gè)第二vcsel結(jié)構(gòu)，一個(gè)或多個(gè)第二vcsel結(jié)構(gòu)在襯底的表面上，其中每個(gè)第二vcsel結(jié)構(gòu)具有不同于***孔徑寬度的第二孔徑寬度，并且每個(gè)第二vcsel結(jié)構(gòu)單獨(dú)地在襯底的表面上方延伸。本申請另一方面提供了一種光投影儀系統(tǒng)。該光投影儀系統(tǒng)包括：激光源，被配置為生成向物體發(fā)送的輻射，以及圖像傳感器，被配置為接收從物體反射的輻射。該激光源包括：襯底，一個(gè)或多個(gè)***vcsel結(jié)構(gòu)，一個(gè)或多個(gè)***vcsel結(jié)構(gòu)在襯底的表面上，其中每個(gè)***vcsel結(jié)構(gòu)具有***孔徑寬度，并且每個(gè)***vcsel結(jié)構(gòu)單獨(dú)地在襯底的表面上方延伸，以及一個(gè)或多個(gè)第二vcsel結(jié)構(gòu)，一個(gè)或多個(gè)第二vcsel結(jié)構(gòu)在襯底的表面上，其中每個(gè)第二vcsel結(jié)構(gòu)具有不同于***孔徑寬度的第二孔徑寬度。菲涅爾透鏡厚度檢測技術(shù)。
圖3示出了根據(jù)實(shí)施例的光源202或者光源202的至少一部分的自頂向下的視圖。光源202包括襯底302，該襯底具有布置在襯底302的表面上的多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)304。在一些實(shí)施例中，襯底302可以是：包括第iv族半導(dǎo)體材料(例如，si、ge、sige)、第iii-v族半導(dǎo)體材料(例如，gaas、gaassb、gaasin)、和/或根據(jù)本公開將明白的任何一種或多種其他適當(dāng)材料的大塊襯底；絕緣體上的x(xoi)結(jié)構(gòu)，其中，x是前述材料(例如，第iv和/或iii-v族半導(dǎo)體材料)之一，絕緣體材料是氧化物材料或介電材料或者一些其他電絕緣材料，從而xoi結(jié)構(gòu)包括兩個(gè)半導(dǎo)體層之間的電絕緣材料層；或者一些其他適當(dāng)?shù)亩鄬咏Y(jié)構(gòu)，其中，頂層包括前述半導(dǎo)體材料(例如，第iv和/或iii-v族半導(dǎo)體材料)之一。這里使用的“第iv族半導(dǎo)體材料”(或“第iv族材料”或統(tǒng)稱“iv”)在包括至少一種第iv族元素(例如，硅、鍺、碳、錫)，例如，硅(si)、鍺(ge)、硅鍺(sige)等。這里使用的“第iii-v族半導(dǎo)體材料”(或“第iii-v族材料”或統(tǒng)稱“ii-v”)包括至少一種第iii族元素(例如，鋁、鎵、銦)和至少一種第v族元素(例如，氮、磷、砷、銻、鉍)，例如，砷化鎵(gaas)、砷化鎵銦(ingaas)、砷化鋁銦(inalas)、磷化鎵(gap)、銻化鎵(gasb)、磷化銦。菲涅爾透鏡自制投影儀廠家直銷。自動化菲涅爾透鏡二手價(jià)格
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并且可以被用來重建物體104的3d表示。發(fā)射的輻射106和接收的輻射108可以是具有在大約400nm到大約700nm的范圍中的波長的可見光。在另一示例中，發(fā)射的輻射106和接收的輻射108包括具有在大約700nm到大約1400nm的范圍中的波長的近紅外輻射。在一個(gè)示例中，發(fā)射的輻射106和接收的輻射108均包括在大約935nm到大約945nm范圍中的波長。圖2示出了根據(jù)實(shí)施例的光投影儀系統(tǒng)102的各種組件。光投影儀系統(tǒng)102包括光源202、透鏡204、檢測器206、深度確定電路208、源驅(qū)動器電路210、以及處理器212。光源202可以被設(shè)計(jì)為生成輻射106并向物體發(fā)射輻射106。光源202可以是用于生成輻射106的包括一個(gè)或多個(gè)激光二極管或激光腔的激光源。根據(jù)實(shí)施例，激光源202包括用于生成輻射106的多個(gè)vcsel。多個(gè)vcsel可以被布置在諸如硅或其他半導(dǎo)體襯底之類的襯底上，如將參考圖3更詳細(xì)地描述的。透鏡204可以表示用于收集接收輻射108并且向檢測器206引導(dǎo)接收的輻射的任意數(shù)目的透鏡元件，如根據(jù)本公開將明白的。檢測器206接收輻射108，并且將接收的輻射轉(zhuǎn)換為發(fā)送給深度確定電路208的電信號。檢測器206可以是電荷耦合裝置(ccd)或者可以使用互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(cmos)陣列來收集輻射。廣州菲涅爾透鏡 焦距
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