東莞菲涅爾透鏡的作用

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-01-10

可以確定在***多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)和第二多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)之間的孔徑寬度的大小,使得從發(fā)射的輻射生成任意數(shù)目的不同橫向激光模式和斑點(diǎn)模式。通過從具有不同孔徑寬度的vcsel結(jié)構(gòu)發(fā)射輻射,可以降低斑點(diǎn)噪聲。在使用具有兩個(gè)不同孔徑寬度的兩組vcsel結(jié)構(gòu)的示例中,斑點(diǎn)噪聲降低大約可以使用附加的vcsel結(jié)構(gòu)陣列,其中每個(gè)陣列具有不同的孔徑寬度,以將斑點(diǎn)噪聲降低因數(shù)其中n是不同vcsel陣列的數(shù)目。接著,在操作1106,在由***和第二vscel結(jié)構(gòu)發(fā)射的輻射被從物體反射出來之后,在檢測器處接收該輻射。所接收的輻射可被用來定義物體的數(shù)字3d圖像。當(dāng)然,在一些實(shí)施例中,如先前結(jié)合系統(tǒng)所描述的,可以執(zhí)行附加操作。具體地,輻射可以從與***和第二多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)布置在相同襯底上的第三多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)發(fā)射。第三多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)中的每個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)包括不同于***和第二多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)的孔徑寬度的孔徑寬度,使得從第三多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)發(fā)射的輻射產(chǎn)生了不同于***和第二斑點(diǎn)圖案的第三斑點(diǎn)圖案。除非一其他方式明確聲明,否則可以明白的是,諸如“處理”、“計(jì)算”、“運(yùn)算”、“確定”之類的術(shù)語指的是計(jì)算機(jī)或計(jì)算系統(tǒng)或類似電子計(jì)算設(shè)備的動(dòng)作和/或處理。菲涅爾透鏡光學(xué)助降系統(tǒng)怎么樣?東莞菲涅爾透鏡的作用

典型的太陽能菲涅爾透鏡就是將齒型朝向電池片,這和之前談到的準(zhǔn)直應(yīng)用中齒型朝向長共軛方向剛好相反。齒型朝內(nèi)的另外潛在好處的減少太陽輻射對(duì)干擾角的沖擊,也能夠避免結(jié)構(gòu)面里堆積灰塵和沙礫。這種類型菲涅爾透鏡通??醋魇欠浅上裢哥R,因?yàn)榇┻^透鏡的有效區(qū)域焦距是固定的。其主要的作用是比較大限度增加太陽輻射到電池片上,用于轉(zhuǎn)化成電力,因而無須考慮降低圖象球面誤差??蒲邢到y(tǒng)中也經(jīng)常用到菲涅爾透鏡,透鏡與水平面成45±5?夾角。如果兩道不同波長的光線平行穿過透鏡,就能夠聚焦在直徑2mm光斑上;它也可以用于視景系統(tǒng)模擬與仿真。汕頭菲涅爾透鏡 聚焦球面菲涅爾透鏡常見問題有哪些?

示例39包括示例33至38中任一項(xiàng)的主題,其中,芯材和殼材具有大約λ/2的厚度,其中,λ是光源的峰值輸出波長。示例40包括示例33至39中任一項(xiàng)的主題,其中,殼材包括硅。示例41包括示例33至40中任一項(xiàng)的主題,其中,芯材具有基部和頂部,并且基部比頂部寬。示例42包括示例33至40中任一項(xiàng)的主題,其中,芯材具有基部和頂部,并且基部比頂部窄。本文采用的術(shù)語和表述被用作描述性術(shù)語而非限制性術(shù)語,并且使用這些術(shù)語和表述不意在排除所示出和描述的特征(或其部分)的任意等同,并且應(yīng)認(rèn)識(shí)到在權(quán)利要求范圍內(nèi)的各種修改是可能的。因此,權(quán)利要求用于覆蓋所有這些等同。本文已經(jīng)描述了各種特征、方面、和實(shí)施例。根據(jù)本公開將理解的是,這些特征、方面、和實(shí)施例易于相互組合以及做出變形和修改。因此,應(yīng)該認(rèn)為本公開涵蓋這些組合、變形、和修改。期望本公開的范圍不受限于具體實(shí)施方式,而是由所附權(quán)利要求來限定。要求本申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)的未來遞交的申請(qǐng)可以通過不同方式請(qǐng)求保護(hù)保護(hù)所公開的主題,并且一般可以包括這里的各種公開或者以其他方式表達(dá)的一個(gè)或多個(gè)元素的任意**。

亞波長結(jié)構(gòu)包括用作諧振光學(xué)天線的比光波長更小的表面結(jié)構(gòu)的密集布置。光表面結(jié)構(gòu)交互的諧振性質(zhì)提供了操縱光學(xué)波振面的能力。根據(jù)另一實(shí)施例,激光源包括襯底、vcsel結(jié)構(gòu)、以及多個(gè)亞波長結(jié)構(gòu)。vcsel結(jié)構(gòu)被布置在襯底的表面上,并且在襯底的表面上方延伸。多個(gè)亞波長結(jié)構(gòu)被布置在vcsel結(jié)構(gòu)的頂層。多個(gè)亞波長結(jié)構(gòu)中的一個(gè)或多個(gè)亞波長結(jié)構(gòu)包括芯材和放置在芯材的一個(gè)或多個(gè)表面上的殼材。注意,如根據(jù)本公開將明白的,亞波長結(jié)構(gòu)可以結(jié)合本文中根據(jù)一些實(shí)施例提供的vcsel結(jié)構(gòu)或者根據(jù)其他實(shí)施例的任何其他vcsel結(jié)構(gòu)使用。vcsel陣列架構(gòu)圖1示出了根據(jù)本公開的實(shí)施例的用于創(chuàng)建物體104的3d圖像的示例光投影儀系統(tǒng)102。物體104可以是放置在與光投影儀系統(tǒng)102相距給定距離處的任意尺寸或形狀的物體。光投影儀系統(tǒng)102被設(shè)計(jì)為向物體104發(fā)射輻射106并接收反射輻射108,以生成物體104的3d圖像或模型。將參考圖2進(jìn)一步詳細(xì)論述光投影儀系統(tǒng)102的示例組件。發(fā)射的輻射106在物體104的一個(gè)或多個(gè)表面上形成光圖案110。光圖案110可以是網(wǎng)格(如圖1所示)或者可以具有任何其他預(yù)定圖案。來自光圖案110的反射輻射108被用來確定橫跨物體104的各個(gè)點(diǎn)的深度。菲涅爾透鏡紅外材料模板有哪些?

d4)的多個(gè)vcsel的第四區(qū)域608??讖綄挾萪1-d4中的每個(gè)孔徑寬度可以彼此相差相同的數(shù)量。例如,孔徑寬度d1-d4中的每個(gè)孔徑寬度可以相差500nm、1μm、2μm、或3μm。在另一示例中,孔徑寬度d1-d4可以是給定范圍(例如,1μm到10μm)內(nèi)的任意值。在所示出的具有不同孔徑寬度的vcsel陣列的四個(gè)區(qū)域的示例中(產(chǎn)生四個(gè)不同的斑點(diǎn)圖案),總斑點(diǎn)噪聲降低大約50%盡管圖6示出了*四個(gè)區(qū)域,但是襯底302的表面上可包括分別具有給定孔徑寬度的vcsel陣列的任意數(shù)目的區(qū)域。另外,每個(gè)區(qū)域可以具有任何形狀或大小。在一些實(shí)施例中,任意區(qū)域可以部分或完全地與任何其他區(qū)域重疊。亞波長結(jié)構(gòu)集成與幾何光學(xué)相比,亞波長結(jié)構(gòu)(sws)提供了在更小的尺度上實(shí)現(xiàn)幾乎平坦的無相差光學(xué)的可能。sws可以由操縱光的波陣面、極化、或強(qiáng)度的亞波長散射器陣列構(gòu)成。像大多數(shù)基于衍射的光學(xué)設(shè)備一樣,sws通常被設(shè)計(jì)為比較好在一個(gè)波長或窄波長范圍內(nèi)操作。sws的一個(gè)示例包括電介質(zhì)傳輸陣列,該電介質(zhì)傳輸陣列提供偏振和相位的亞波長空間控制和高發(fā)射。這些設(shè)備基于制造在平面襯底上的具有不同幾何形狀的高折射率介電納米諧振器(散射器)的亞波長陣列。具有各種幾何形狀的散射器向所發(fā)送的光賦予不同的相位。菲涅爾透鏡和凸透鏡結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。汕頭球面菲涅爾透鏡

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因此使用詞語“頂”并不將該層限制到任何具體的空間或幾何關(guān)系。本文描述的任意vcsel結(jié)構(gòu)可以包括用于操控光輸出的一個(gè)或多個(gè)元原子800。應(yīng)該理解的是,為了清楚起見*示出了單個(gè)元原子,但是任意數(shù)目的元原子可以被圖案化在頂層802上。盡管在本實(shí)施例中示出了圓柱形狀,但是任意形狀可以用于元原子800。元原子800可以具有基于來自vcsel的發(fā)射光的峰值波長的直徑。例如,元原子800可以具有范圍在λ/10到λ/5之間的總直徑。類似地,元原子800的總厚度取決于來自vcsel的發(fā)射光的峰值波長。例如,元原子800可以具有大約λ/2的厚度。芯材804可以是具有相對(duì)較低的折射率但是高沉積速率的材料,因此提高了制造元原子800時(shí)的吞吐量。例如,芯材804可以是氮化硅(si3n4),并且可以使用化學(xué)氣相沉積(cvd)或物***相沉積(pvd)技術(shù)沉積。隨后可以使用標(biāo)準(zhǔn)等離子體蝕刻工藝對(duì)所沉積的氮化硅層進(jìn)行蝕刻,以形成每個(gè)元原子800的芯材804。殼材806可以是具有相對(duì)較高的折射率(或者至少比芯材804的折射率高)的材料。例如,諸如氧化鈦(tio2)或硅之類的材料可被用于殼材806,并且可以通過使用原子層沉積(ald)技術(shù)來非常薄地沉積。ald允許殼材806以非常薄的厚度共形地覆蓋芯材804的外表面上。例如。東莞菲涅爾透鏡的作用

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