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來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-01-13

菲涅爾透鏡的特點(diǎn)是比普通透鏡亮度高且表面平整,輻射面積也大。一般普通凹凸透鏡它的直徑很有限,而菲涅爾在放大鏡這塊領(lǐng)域上起了很好的作用,達(dá)到了一般普通透鏡所不能達(dá)到的效果。而且現(xiàn)在做出來(lái)的菲涅爾放大鏡厚度只有便攜帶,其實(shí)主要作用就是減輕傳統(tǒng)放大鏡制造出的普通有機(jī)玻璃、玻璃放大鏡的重量和體積。通常,菲涅爾透鏡是球型表面形狀切割而成,為了比較大限度降低成像時(shí)圖象光學(xué)象差。透鏡能夠較好地將理想的點(diǎn)光源校準(zhǔn)成平行光源。在現(xiàn)實(shí)生活中,沒(méi)有光源是真正的點(diǎn)光源,然而固體態(tài)發(fā)光器如LED就非常小,因此只要透鏡和LED之間的距離適當(dāng),就可以當(dāng)成點(diǎn)光源。因此菲涅爾透鏡能夠校準(zhǔn)LED輸出光線為平行光。而傳統(tǒng)的白熾光源產(chǎn)生大量輻射熱量,從而限制了塑料光學(xué)材料在非常接近光源處的應(yīng)用。由于LED產(chǎn)生的大部分熱是可傳導(dǎo)的,就可以比較容易應(yīng)用塑料光學(xué)透鏡。當(dāng)需要將LED發(fā)光體的束光源校準(zhǔn)為更寬廣的角度范圍時(shí)候,相對(duì)常見(jiàn)的做法就是使用反射鏡與菲涅爾透鏡相結(jié)合從而減少光學(xué)部件使用量。菲涅爾透鏡投影儀生產(chǎn)廠家訂制價(jià)格。汕頭菲涅爾透鏡 zemax

b)為高斯聲波經(jīng)過(guò)聚焦透鏡的聲壓場(chǎng)測(cè)試結(jié)果,(c)為高斯聲波經(jīng)過(guò)發(fā)散透鏡的聲壓場(chǎng)測(cè)試結(jié)果,(d)為高斯聲波經(jīng)過(guò)偏折透鏡的聲壓場(chǎng)測(cè)試結(jié)果,(e)為高斯聲波經(jīng)過(guò)高透射透鏡的聲壓場(chǎng)測(cè)試結(jié)果;圖9是本實(shí)用新型實(shí)施例中旋轉(zhuǎn)可調(diào)的多功能二維聲學(xué)超材料透鏡在4000hz下的實(shí)驗(yàn)結(jié)果,(a)為高斯聲波在空氣中的聲壓場(chǎng)測(cè)試結(jié)果,(b)為高斯聲波經(jīng)過(guò)聚焦透鏡的聲壓場(chǎng)測(cè)試結(jié)果,(c)為高斯聲波經(jīng)過(guò)發(fā)散透鏡的聲壓場(chǎng)測(cè)試結(jié)果,(d)為高斯聲波經(jīng)過(guò)偏折透鏡的聲壓場(chǎng)測(cè)試結(jié)果,(e)為高斯聲波經(jīng)過(guò)高透射透鏡的聲壓場(chǎng)測(cè)試結(jié)果;圖10是本實(shí)用新型實(shí)施例中旋轉(zhuǎn)可調(diào)的多功能二維聲學(xué)超材料透鏡在9000hz下的實(shí)驗(yàn)結(jié)果,(a)為高斯聲波在空氣中的聲壓場(chǎng)測(cè)試結(jié)果,(b)為高斯聲波經(jīng)過(guò)聚焦透鏡的聲壓場(chǎng)測(cè)試結(jié)果,(c)為高斯聲波經(jīng)過(guò)發(fā)散透鏡的聲壓場(chǎng)測(cè)試結(jié)果,(d)為高斯聲波經(jīng)過(guò)偏折透鏡的聲壓場(chǎng)測(cè)試結(jié)果,(e)為高斯聲波經(jīng)過(guò)高透射透鏡的聲壓場(chǎng)測(cè)試結(jié)果。具體實(shí)施方式下面結(jié)合實(shí)施例和說(shuō)明書附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明。以下實(shí)施例*是本實(shí)用新型的推薦實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出:對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下,還可以做出若干改進(jìn)和等同替換。廣州負(fù)菲涅爾透鏡后菲涅爾透鏡生產(chǎn)廠家電話多少?

一個(gè)或多個(gè)***vcsel和一個(gè)或多個(gè)第二vcsel被配置為發(fā)射紅外輻射。示例14包括示例10至13中任一項(xiàng)的主題,其中,一個(gè)或多個(gè)***vcsel中的每個(gè)***vcsel被配置為發(fā)射具有兩個(gè)或更多個(gè)橫向模式的輻射。示例15包括示例14的主題,其中,一個(gè)或多個(gè)第二vcsel中的每個(gè)第二vcsel被配置為發(fā)射具有單個(gè)橫向模式的輻射。示例16包括示例10至15中任一項(xiàng)的主題,其中,激光源還包括在襯底的表面上的一個(gè)或多個(gè)第三垂直腔面發(fā)射激光器(vcsel)結(jié)構(gòu),每個(gè)第三vcsel結(jié)構(gòu)具有不同于***孔徑寬度和第二孔徑寬度的第三孔徑寬度并且單獨(dú)地在襯底的表面上方延伸。示例17包括一種降低來(lái)自激光源的斑點(diǎn)噪聲的方法。該方法包括:從布置在襯底上的一個(gè)或多個(gè)***vcsel結(jié)構(gòu)發(fā)射具有***波長(zhǎng)的輻射;以及從布置在襯底上的一個(gè)或多個(gè)第二vcsel結(jié)構(gòu)發(fā)射具有第二波長(zhǎng)的輻射,其中,第二波長(zhǎng)不同于***波長(zhǎng)。具有***波長(zhǎng)的輻射包括***數(shù)目的橫向模式,具有第二波長(zhǎng)的輻射包括第二數(shù)目的橫向模式,第二數(shù)目的橫向模式不同于***數(shù)目的橫向模式。示例18包括示例17的主題,其中,發(fā)射具有***波長(zhǎng)的輻射包括發(fā)射紅外輻射,并且其中,發(fā)射具有第二波長(zhǎng)的輻射包括發(fā)射紅外輻射。示例19包括示例17或18的主題,其中。

該計(jì)算機(jī)或計(jì)算系統(tǒng)或類似電子計(jì)算設(shè)備將被表示為計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的寄存器和/或存儲(chǔ)器單元內(nèi)的物理量(例如,電子的)的數(shù)據(jù)操縱和/或變換為被類似地表示為寄存器、存儲(chǔ)器單元、或者計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的其他這種信息存儲(chǔ)傳輸或顯示器中的物理量的其他數(shù)據(jù)。實(shí)施例不限于本上下文。本文中的任意實(shí)施例中使用的術(shù)語(yǔ)“電路”或“電子電路”可以包括例如,單獨(dú)或組合的硬連線電路、諸如包括一個(gè)或多個(gè)個(gè)體指令處理核的計(jì)算機(jī)處理器的可編程電路、狀態(tài)機(jī)電路、和/或存儲(chǔ)由可編程電路執(zhí)行的指令的固件。電子電路可以包括被配置為執(zhí)行一個(gè)或多個(gè)指令以執(zhí)行本文描述的一個(gè)或多個(gè)操作的處理器和/或控制器。指令可以被具體化為例如,被配置為促使電子電路執(zhí)行任意前述操作的應(yīng)用、軟件、固件等。軟件可以被具體化為軟件包、代碼、指令、指令集、和/或記錄在計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)設(shè)備上的數(shù)據(jù)。在層級(jí)方式中,軟件可以被具體化或?qū)崿F(xiàn)為包括任意數(shù)目的過(guò)程,并且這些過(guò)程又可以被具體化或?qū)崿F(xiàn)為包括任意數(shù)目的線程等。固件可以被具體化為硬編碼(例如,非易失性)在存儲(chǔ)器設(shè)備中的代碼、指令或指令集、和/或數(shù)據(jù)。電子電路可以統(tǒng)一或分別被具體化為形成更大的系統(tǒng)的一部分的電路,該更大的系統(tǒng)是例如。菲涅爾透鏡螺距代理價(jià)格。

人們初次使用菲涅爾透鏡是在18世紀(jì)初,當(dāng)時(shí)它被用在燈塔的探照燈上,聚焦射出來(lái)的光束。當(dāng)人們需要一面又薄又輕的透鏡時(shí),塑料菲涅爾透鏡便派上了用場(chǎng)。盡管成像質(zhì)量不如玻璃透鏡,但是在很多應(yīng)用中我們并不需要完美的圖像質(zhì)量。菲涅爾透鏡的原理基于菲涅爾波帶片,菲涅爾波帶片具有類似透鏡的作用,它可以使入射光匯聚起來(lái),產(chǎn)生極大的光強(qiáng)。菲涅爾透鏡的分類:a)正菲涅爾透鏡:光線從一側(cè)進(jìn)入,經(jīng)過(guò)菲涅爾透鏡在另一側(cè)出來(lái)聚焦成一點(diǎn)或以平行光射出。焦點(diǎn)在光線的另一側(cè),并且是有限共軛。這類透鏡通常設(shè)計(jì)為準(zhǔn)直鏡(如投影用菲涅爾透鏡,放大鏡)以及聚光鏡(如太陽(yáng)能用聚光聚熱用菲涅爾透鏡。b)負(fù)菲涅爾透鏡:和正焦菲涅爾透鏡剛好相反。球面菲涅爾透鏡常見(jiàn)問(wèn)題有哪些?東莞菲涅爾透鏡 vr

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殼材806可以具有小于10nm、小于5nm、小于1nm的厚度或單層原子。圖9a至9c示出了根據(jù)一些實(shí)施例的圖案化在vcsel結(jié)構(gòu)的頂層802上的元原子的不同示例。圖9a示出了***元結(jié)構(gòu)902,其中,殼材806圍繞用于每個(gè)元原子的芯材804,但是不覆蓋頂層802在每個(gè)元原子之間的區(qū)域。在蝕刻工藝期間,使用例如光刻膠或硬掩模來(lái)保護(hù)殼材806的圍繞芯材804的部分,以移除殼材806在頂層802的表面上的暴露部分。圖9b示出了第二元結(jié)構(gòu)904,其中,殼材906共形地覆蓋包括芯材804的所有表面和頂層802的表面。圖9c示出了第三元結(jié)構(gòu)906,其中,殼材806*覆蓋芯材804的一個(gè)或多個(gè)側(cè)壁。在沉積殼材806后,可以執(zhí)行包層各向異性干法蝕刻工藝,以移除殼材806的所有水平平面部分,*留下芯材804的側(cè)壁上的那些部分。圖10示出了根據(jù)實(shí)施例的包括不止一種類型的元原子的元結(jié)構(gòu)1000(這里稱為“元分子(metamolecule)”)的另一示例。根據(jù)實(shí)施例,***元原子1002包括具有基部1006和頂部1008的芯材?;?006可以比頂部1008更寬或更窄。第二元原子1004包括芯材1010,并且***元原子1002和第二元原子1004二者被殼材1012環(huán)繞。汕頭菲涅爾透鏡 zemax

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