針對(duì)自研的太陽(yáng)光譜輻照度計(jì)入射光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)特征,分析了引入余弦誤差的因素,研究了直、漫射輻照度以及漫射-總輻射比的余弦校正方法,開展了實(shí)驗(yàn)室余弦響應(yīng)特性測(cè)量和多種儀器的敦煌外場(chǎng)比對(duì)試驗(yàn).結(jié)果顯示,余弦誤差與積分球入口黑色陽(yáng)極化內(nèi)壁及結(jié)構(gòu)有關(guān),在入射角為60°時(shí),440nm、500nm、670nm和870nm波段太陽(yáng)光譜輻照度計(jì)的余弦誤差為4.3%~9.1%;由太陽(yáng)光譜輻照度計(jì)獲取的直射輻照度反演得到的大氣光學(xué)厚度受到余弦誤差的嚴(yán)重影響,余弦校正前后與CE318太陽(yáng)光度計(jì)反演結(jié)果相比,偏差分別為0.11~0.13和小于0.012;基于天空輻亮度各向同性分布假設(shè),余弦校正后四個(gè)波段漫射輻照度數(shù)值提升6.8%~10%.基于天空輻亮度分布數(shù)據(jù),提出了一種漫射輻照度的精確校正方法,仿真結(jié)果顯示,余弦校正后的漫射輻照度與理論數(shù)據(jù)一致,初步驗(yàn)證了該方法的可行性.濺鍍制備低發(fā)射率膜：在第二真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材。北京生產(chǎn)太陽(yáng)光譜模擬銷量
根據(jù)拍攝時(shí)刻和所地理經(jīng)度，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽(yáng)時(shí)角。在本實(shí)施例一可行的方式中，可根據(jù)ω(x，t)＝(12-t)×15°-l(x)(5)計(jì)算太陽(yáng)時(shí)角，其中，t為拍攝時(shí)刻，ω(x，t)為坐標(biāo)為(x，y)的像素點(diǎn)在t時(shí)刻對(duì)應(yīng)的太陽(yáng)時(shí)角。s24，根據(jù)太陽(yáng)赤緯角、太陽(yáng)時(shí)角和地理緯度，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽(yáng)高度角。在本實(shí)施例一可行的方式中，可根據(jù)α(x，y，d，t)＝arcsin[sinb(y)×sinδ(d)+cosb(y)×cosδ(d)×cosω(x，t)](6)計(jì)算太陽(yáng)高度角α(x，y，d，t)。湖北銷售太陽(yáng)光譜模擬代理反應(yīng)性濺鍍制備緩沖膜：在第三真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材。
伴隨工作溫度的升高，如何抑制高溫下熱輻射損失顯得愈發(fā)重要。基于前期的研究基礎(chǔ)，研究組開發(fā)出另一種新型金屬陶瓷薄膜WTi-Al2O3。借助光學(xué)模擬設(shè)計(jì)，獲得太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層結(jié)構(gòu)參數(shù)的優(yōu)化范圍，構(gòu)建了WTi-Al2O3太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層。經(jīng)600℃長(zhǎng)時(shí)間（840 h）退火，WTi-Al2O3涂層仍保持較高的吸收率~93%，500℃下的熱發(fā)射率*有10.3%，遠(yuǎn)低于文獻(xiàn)報(bào)道值（>13%@500℃）。研究表明，WTi合金納米粒子內(nèi)金屬Ti的外擴(kuò)散、偏析及部分氧化可有效抑制W納米粒子的團(tuán)聚和長(zhǎng)大，從而提高涂層的熱穩(wěn)定性，實(shí)現(xiàn)對(duì)WTi-Al2O3太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層光學(xué)性能和熱穩(wěn)定性的雙重調(diào)控（Nano Energy 2017, 37, 232），
因此，對(duì)于地球靜止軌道光學(xué)遙感衛(wèi)星在不同日期、不同時(shí)間、不同地點(diǎn)拍攝圖像的太陽(yáng)光照補(bǔ)償值為δet＝et(x1，y1，z1，d1，t1)-et(x2，y2，z2，d2，t2)，(2)其中，下角標(biāo)1和2**兩個(gè)不同拍攝日期、和/或時(shí)間和/或位置。至此，通過獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻和拍攝位置高程，基于上述方法，實(shí)現(xiàn)對(duì)于不同日期、不同時(shí)間、不同地點(diǎn)拍攝的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽(yáng)光照補(bǔ)償值計(jì)算。圖3示意性示出了根據(jù)本發(fā)明一示例性實(shí)施例的太陽(yáng)光照補(bǔ)償值計(jì)算裝置的框圖，如圖3所示，該裝置300例如可以包括獲取模塊310、***計(jì)算模塊320、第二計(jì)算模塊330和第三計(jì)算模塊340。這一新設(shè)備利用了聚光光伏(CPV)電池板，利用透鏡將太陽(yáng)光集中到微小尺度的太陽(yáng)能電池上。
5)反應(yīng)性濺鍍制備吸收膜：在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過渡膜的外表面上形成吸收膜；6)反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅，反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中，步驟1)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的強(qiáng)化膜的厚度為30～120nm。本發(fā)明實(shí)施例的目的在于提供一種用于選擇性吸收太陽(yáng)光譜的膜層的制備方法。AM1.5太陽(yáng)光譜模擬公司
為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例。北京生產(chǎn)太陽(yáng)光譜模擬銷量
示意性示出了本發(fā)明實(shí)施例太陽(yáng)光照補(bǔ)償值計(jì)算方法的流程圖，如圖1所示，該方法例如可以包括操作s1～s1。s1，獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻和拍攝位置高程。該尺寸包括地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的長(zhǎng)或?qū)?，例如，獲取一幅大小為x×y的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像。地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻和拍攝位置高程例如可以從數(shù)據(jù)庫(kù)中獲取。s2，根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻和拍攝位置高程，計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像拍攝位置的太陽(yáng)直接輻射強(qiáng)度和太陽(yáng)散射輻射強(qiáng)度。北京生產(chǎn)太陽(yáng)光譜模擬銷量
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