北京下打光太陽光譜模擬公司

例如，獲取模塊310、***計(jì)算模塊320、第二計(jì)算模塊330和第三計(jì)算模塊340中的任意多個(gè)可以合并在一個(gè)模塊中實(shí)現(xiàn)，或者其中的任意一個(gè)模塊可以被拆分成多個(gè)模塊?；蛘撸@些模塊中的一個(gè)或多個(gè)模塊的至少部分功能可以與其他模塊的至少部分功能相結(jié)合，并在一個(gè)模塊中實(shí)現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，獲取模塊310、***計(jì)算模塊320、第二計(jì)算模塊330及第三計(jì)算模塊340中的至少一個(gè)可以至少被部分地實(shí)現(xiàn)為硬件電路，例如現(xiàn)場可編程門陣列(fpga)、可編程邏輯陣列(pla)、片上系統(tǒng)、基板上的系統(tǒng)、封裝上的系統(tǒng)、**集成電路(asic)，或可以通過對(duì)電路進(jìn)行集成或封裝的任何其他的合理方式等硬件或固件來實(shí)現(xiàn)，或以軟件、硬件以及固件三種實(shí)現(xiàn)方式中任意一種或以其中任意幾種的適當(dāng)組合來實(shí)現(xiàn)。或者，獲取模塊310、***計(jì)算模塊320、第二計(jì)算模塊330及第三計(jì)算模塊340中的至少一個(gè)可以至少被部分地實(shí)現(xiàn)為計(jì)算機(jī)程序模塊，當(dāng)該計(jì)算機(jī)程序模塊被運(yùn)行時(shí)，可以執(zhí)行相應(yīng)的功能。此外，堆疊過程使用了一種名為轉(zhuǎn)印的技術(shù)，這一技術(shù)能以高精度三維組裝這些微小的設(shè)備。北京下打光太陽光譜模擬公司

4)反應(yīng)性濺鍍制備過渡膜：在第四真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮?dú)獍l(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻，反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜；步驟4)中，靶材為鉻靶，功率為15kw，電壓為510v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為90sccm，氮?dú)饬髁繛?0sccm，氧氣流量為50sccm，制得的過渡膜的厚度為70nm；5)反應(yīng)性濺鍍制備吸收膜：在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過渡膜的外表面上形成吸收膜；福建銷售太陽光譜模擬濾光片在平板型太陽能集熱器的生產(chǎn)中，往往要在吸熱體(吸熱板)的基材的外表面鍍一層薄膜，以提高對(duì)太陽熱能的吸。

本發(fā)明涉及圖像處理領(lǐng)域，尤其涉及一種太陽光照補(bǔ)償值計(jì)算方法。背景技術(shù)：地球靜止軌道光學(xué)遙感衛(wèi)星的軌道周期與地球自轉(zhuǎn)周期相同，與地球保持相對(duì)靜止，擁有較大的成像幅寬，可對(duì)某一大面積指定感興趣區(qū)域進(jìn)行連續(xù)觀測，具有時(shí)間分辨率高、數(shù)據(jù)時(shí)效性好等優(yōu)點(diǎn)。然而，由于地球自轉(zhuǎn)和圍繞太陽公轉(zhuǎn)，導(dǎo)致地球上同一位置的光照強(qiáng)度每天都是不同的。此外，由于地球本身是圓形的，因此即使同一時(shí)刻，不同經(jīng)度和緯度的光照強(qiáng)度也是不一樣的，這就導(dǎo)致靜止軌道光學(xué)遙感衛(wèi)星在不同日期、不同時(shí)間、不同地點(diǎn)拍攝的圖像的亮度有很大差別，這對(duì)遙感圖像后續(xù)處理和應(yīng)用造成很大困難。因此，如何對(duì)在不同日期、不同時(shí)間、不同地點(diǎn)拍攝的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像進(jìn)行太陽光照補(bǔ)償值計(jì)算是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的問題。

如圖4所示，在本實(shí)施例以可行的方式中，***計(jì)算模塊320例如可以包括：***計(jì)算單元321，用于根據(jù)尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間，計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像中每個(gè)像素對(duì)應(yīng)的地理經(jīng)度和地理緯度。第二計(jì)算單元322，用于根據(jù)拍攝日期，計(jì)算拍攝日期對(duì)應(yīng)的太陽赤緯角和大氣層上界垂直入射時(shí)的太陽輻射強(qiáng)度。第三計(jì)算單元323，用于根據(jù)拍攝時(shí)刻和地理經(jīng)度，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽時(shí)角。第四計(jì)算單元324，用于根據(jù)太陽赤緯角、太陽時(shí)角和地理緯度，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽高度角。雖然所用的材料花費(fèi)很大，但用于制造這種電池的技術(shù)很有前途。

步驟5)中，靶材為鉻靶，功率為11kw，電壓為500v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為110sccm，氧氣流量為90sccm，制得的吸收膜的厚度為80nm；6)反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅，反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層；步驟6)中，靶材為硅靶，功率為6kw，電壓為560v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為220sccm，氧氣流量為30sccm，制得的抗反射膜的厚度為120nm。以往使用的化學(xué)鍍膜，對(duì)環(huán)境污染大，而且對(duì)太陽熱能的吸收不好。山東AM1太陽光譜模擬

比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的光熱轉(zhuǎn)換的效率提高了6％～10％。北京下打光太陽光譜模擬公司

以AgAl-Al2O3金屬陶瓷薄膜作為吸收層，成功構(gòu)建了AgAl-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層。在氮?dú)鈿夥障陆?jīng)500℃退火1002 h，其太陽光譜吸收率穩(wěn)定在95%左右，400℃紅外發(fā)射率約在10-11%，如圖1所示（Advanced Materials Interfaces 2016, 3, 1600248）。   目前國內(nèi)外研究人員積極開發(fā)基于熔融鹽（如60% KNO3+40% NaNO3）熱工質(zhì)的高溫太陽能熱發(fā)電系統(tǒng)，其工作溫度常在550℃以上，客觀上對(duì)太陽光譜選擇性吸收涂層提出了更為苛刻的要求，如何獲得600℃下具備優(yōu)異熱穩(wěn)定性的太陽光譜選擇性吸收涂層是亟需攻克的難題之一。此外，北京下打光太陽光譜模擬公司

昊躍光學(xué)科技（蘇州）有限公司在天文觀察濾光片，太陽光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠(yuǎn)鏡一直在同行業(yè)中處于較強(qiáng)地位，無論是產(chǎn)品還是服務(wù)，其高水平的能力始終貫穿于其中。公司位于若水路388號(hào)蘇州納米技術(shù)國家大學(xué)科技園B棟10樓1005，成立于2020-01-16，迄今已經(jīng)成長為電子元器件行業(yè)內(nèi)同類型企業(yè)的佼佼者。公司主要提供光學(xué)鏡頭、天文望遠(yuǎn)鏡及配件的研發(fā)、組裝、銷售及相關(guān)技術(shù)服務(wù)；戶外用品的開發(fā)及銷售。（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)）許可項(xiàng)目：貨物進(jìn)出口；進(jìn)出口代理；技術(shù)進(jìn)出口（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)，具體經(jīng)營項(xiàng)目以審批結(jié)果為準(zhǔn)）一般項(xiàng)目：光學(xué)玻璃銷售；照相機(jī)及器材銷售；教學(xué)儀器銷售；光學(xué)儀器銷售；玻璃儀器銷售；燈具銷售；半導(dǎo)體照明器件銷售（除依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目外，憑營業(yè)執(zhí)照依法自主開展經(jīng)營活動(dòng)）等領(lǐng)域內(nèi)的業(yè)務(wù)，產(chǎn)品滿意，服務(wù)可高，能夠滿足多方位人群或公司的需要。多年來，已經(jīng)為我國電子元器件行業(yè)生產(chǎn)、經(jīng)濟(jì)等的發(fā)展做出了重要貢獻(xiàn)。