以AgAl-Al2O3金屬陶瓷薄膜作為吸收層，成功構建了AgAl-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層。在氮氣氣氛下經500℃退火1002 h，其太陽光譜吸收率穩(wěn)定在95%左右，400℃紅外發(fā)射率約在10-11%，如圖1所示（Advanced Materials Interfaces 2016, 3, 1600248）。 目前國內外研究人員積極開發(fā)基于熔融鹽（如60% KNO3+40% NaNO3）熱工質的高溫太陽能熱發(fā)電系統(tǒng)，其工作溫度常在550℃以上，客觀上對太陽光譜選擇性吸收涂層提出了更為苛刻的要求，如何獲得600℃下具備優(yōu)異熱穩(wěn)定性的太陽光譜選擇性吸收涂層是亟需攻克的難題之一。此外，基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例。西藏上打光太陽光譜模擬價格
這發(fā)生在太陽大氣層的外層（夫瑯和費線），或通過地球大氣層內的吸收（由水蒸氣或氧氣等氣體引起的大氣吸收譜線）。每個單獨的條紋由標準具或VIPA的一個FSR隔開。標準具FSR由其制造工藝精確確定，這意味著將原始條紋圖像與現(xiàn)有文獻中的太陽光譜進行比較，即可得到相應的太陽光譜。HN-9332光譜儀在518nm附近記錄的太陽極光光譜顯示了太陽外層的Mg三重態(tài)吸收(除了所示的Mg線和Fe線之外，在太陽光譜的這個區(qū)域也有一些Ni吸收線）。比較LightMachineryHF-8989-2e光譜儀記錄的太陽光譜（紅色數(shù)據）和參考光譜（藍色數(shù)據）重慶生產太陽光譜模擬濾光片相反地，如果通入過量的氣體，則不僅在基材上與濺射出的原子進行反應，也會在靶面上與靶材反應生成化合物。
2)濺鍍制備低發(fā)射率膜：在第二真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的銅離子沉積在步驟1)制得的強化膜的外表面上形成低發(fā)射率膜；3)反應性濺鍍制備緩沖膜：在第三真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氮氣發(fā)生化學反應生成氮化鉻，反應生成的氮化鉻沉積在步驟2)制得的低發(fā)射率膜的外表面上形成緩沖膜；4)反應性濺鍍制備過渡膜：在第四真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮氣發(fā)生化學反應生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻，反應生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜；
WTi-Al2O3金屬陶瓷基太陽光譜選擇性吸收涂層在600℃退火前后反射光譜變化圖、微結構和熱強化機理示意圖 金屬納米粒子嵌入到陶瓷基體中組成的金屬陶瓷薄膜是太陽光譜選擇性吸收涂層的**工作層，其熱穩(wěn)定性和綜合光學性能直接決定著整個涂層的光熱轉換效率。高溫下，金屬陶瓷膜內金屬納米粒子的團聚、長大、氧化及涂層內層間原子的擴散遷徙，往往會導致成分和微結構的變化，從而誘發(fā)涂層光學性能的衰減 (不可逆性)。如何解決上述問題，構建熱穩(wěn)定性優(yōu)異、熱發(fā)射率低且吸收率高的太陽光譜選擇性吸收涂層，是光熱技術應用所面臨的重要材料基礎問題。 我們的新設備能夠解鎖存儲在長波長光子中的能量，這些是傳統(tǒng)太陽能電池力所未逮之處。
經檢測，本實施例1制備的膜層的吸收率為94％，比現(xiàn)有技術中膜層的吸收率提高了3％～9％；本申請制備的膜層的發(fā)射率為4％，比現(xiàn)有技術中膜層的發(fā)射率降低了3％～12％；膜層的附著力根據標準要求測試，結果為1級；采用本申請制備的膜層的太陽能集熱器的熱效率為80.4％，比采用現(xiàn)有技術中膜層的太陽能集熱器的熱效率提高了6％～8.4％。本發(fā)明未詳盡描述的方法和裝置均為現(xiàn)有技術，不再贅述。本文中應用了具體實施例對本發(fā)明的原理及實施方式進行了闡述，以上實施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其**思想。應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以對本發(fā)明進行若干改進和修飾，這些改進和修飾也落入本發(fā)明權利要求的保護范圍內。一種用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法，包括以下依次進行的步驟。湖南代理太陽光譜模擬AM0
在***真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學反應生成氧化鉻。西藏上打光太陽光譜模擬價格
伴隨工作溫度的升高，如何抑制高溫下熱輻射損失顯得愈發(fā)重要。基于前期的研究基礎，研究組開發(fā)出另一種新型金屬陶瓷薄膜WTi-Al2O3。借助光學模擬設計，獲得太陽光譜選擇性吸收涂層結構參數(shù)的優(yōu)化范圍，構建了WTi-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層。經600℃長時間（840 h）退火，WTi-Al2O3涂層仍保持較高的吸收率~93%，500℃下的熱發(fā)射率*有10.3%，遠低于文獻報道值（>13%@500℃）。研究表明，WTi合金納米粒子內金屬Ti的外擴散、偏析及部分氧化可有效抑制W納米粒子的團聚和長大，從而提高涂層的熱穩(wěn)定性，實現(xiàn)對WTi-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層光學性能和熱穩(wěn)定性的雙重調控（Nano Energy 2017, 37, 232），西藏上打光太陽光譜模擬價格
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