北京高級太陽光譜模擬報價

針對自研的太陽光譜輻照度計入射光學系統(tǒng)的結構特征,分析了引入余弦誤差的因素,研究了直、漫射輻照度以及漫射-總輻射比的余弦校正方法,開展了實驗室余弦響應特性測量和多種儀器的敦煌外場比對試驗.結果顯示,余弦誤差與積分球入口黑色陽極化內(nèi)壁及結構有關,在入射角為60°時,440nm、500nm、670nm和870nm波段太陽光譜輻照度計的余弦誤差為4.3%~9.1%;由太陽光譜輻照度計獲取的直射輻照度反演得到的大氣光學厚度受到余弦誤差的嚴重影響,余弦校正前后與CE318太陽光度計反演結果相比,偏差分別為0.11~0.13和小于0.012;基于天空輻亮度各向同性分布假設,余弦校正后四個波段漫射輻照度數(shù)值提升6.8%~10%.基于天空輻亮度分布數(shù)據(jù),提出了一種漫射輻照度的精確校正方法,仿真結果顯示,余弦校正后的漫射輻照度與理論數(shù)據(jù)一致,初步驗證了該方法的可行性.本申請制備的膜層的發(fā)射率為3％～5％，比現(xiàn)有技術中膜層的發(fā)射率降低了3％～12％。北京高級太陽光譜模擬報價

用于比較光譜儀分辨能力的兩條氧氣譜線用箭頭標識(實驗數(shù)據(jù)以紅色顯示，并與文獻中的參考光譜進行了比較。右側顯示629.216nm處氧線的放大視圖，以及紅色He-Ne激光器（632.816nm處的單頻源）的光譜的插圖。03測量太陽自轉(zhuǎn)引起的多普勒頻移由于太陽吸收線和大氣氧線在太陽光譜的某些區(qū)域非常接近，這種接近可以通過測量太陽吸收線相對于固定氧線的多普勒頻移來確定太陽的旋轉(zhuǎn)速度，從而確定地球和太陽之間的當前距離。進行這項實驗所需的***設備是高頻光譜儀和太陽望遠鏡。當太陽相對于地球自轉(zhuǎn)時，太陽圓盤的一個分支朝著地球移動，而另一個分支后退。生產(chǎn)太陽光譜模擬工廠相互反應生成所需的化合物沉積在基材上，此種濺鍍系統(tǒng)稱為反應性濺鍍。

HN-9332儀器的寬波長覆蓋范圍允許在整個光譜的可見區(qū)域進行快速的“測量”光譜。然而，許多夫瑯和費譜線和大多數(shù)大氣譜線都比HN-9332儀器的分辨率窄。需要更高分辨率的光譜儀來詳細檢查太陽光譜的感興趣區(qū)域；例如HF-8989。02高分辨率太陽光譜下圖顯示了太陽光譜中一個特別有趣的區(qū)域。這個位于689nm附近的區(qū)域主要是由地球大氣中的氧氣引起的大地吸收。在這里，可以清楚地觀察到氧帶的R-和P-分支中的單個吸收線，較強的吸收線在線中心顯示~100%的吸收。左邊是一個高分辨率的太陽光譜，它是用629nm波段的HF-8989-3光譜儀拍攝的。

根據(jù)本發(fā)明的實施例的模塊、單元中的任意多個、或其中任意多個的至少部分功能可以在一個模塊中實現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明實施例的模塊、單元中的任意一個或多個可以被拆分成多個模塊來實現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明實施例的模塊、單元中的任意一個或多個可以至少被部分地實現(xiàn)為硬件電路，例如現(xiàn)場可編程門陣列(fpga)、可編程邏輯陣列(pla)、片上系統(tǒng)、基板上的系統(tǒng)、封裝上的系統(tǒng)、**集成電路(asic)，或可以通過對電路進行集成或封裝的任何其他的合理方式的硬件或固件來實現(xiàn)，或以軟件、硬件以及固件三種實現(xiàn)方式中任意一種或以其中任意幾種的適當組合來實現(xiàn)。或者，根據(jù)本發(fā)明實施例的模塊、單元中的一個或多個可以至少被部分地實現(xiàn)為計算機程序模塊，當該計算機程序模塊被運行時，可以執(zhí)行相應的功能。撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學反應生成氧化鉻。

在本申請的一個實施例中，步驟6)中，靶材為硅靶，氬氣流量為50～500sccm，氧氣流量為50～200sccm，制得的抗反射膜的厚度為60～200nm。在本申請的一個實施例中，步驟1)中，吸熱體的基材為不銹鋼片、鋁板或銅板。本申請中，sccm為體積流量單位，意義為標況毫升/分鐘。本申請?zhí)峁┑哪幽軌蜻x擇性吸收太陽光譜，其中的原理是：太陽輻射到地球上的絕大部分能量，來源于0.20～3.0μm波長范圍的紫外線、可見光和紅外線，這個波長范圍內(nèi)的能量占地球外太陽輻射總能量的98.07％；而熱輻射的波長范圍主要集中在2.5～30μm。光譜選擇性吸收涂層是應用在吸熱體上的，它就是利用太陽輻射的波長范圍(主要集中在0.20～3.0μm)與熱輻射的波長范圍不相同這一特性，可以增強吸熱體對太陽輻射吸收的同時，減少吸熱體向環(huán)境的熱輻射損失。選擇性涂層材料的比較大特點在于，它們對不同光譜區(qū)的輻射具有不同的熱輻射性質(zhì)。膜層包括6層，從下到上依次為氧化鉻材質(zhì)的強化膜。海南購買太陽光譜模擬價格

為使本發(fā)明實施例的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結合本發(fā)明實施例。北京高級太陽光譜模擬報價

第五計算單元325，用于根據(jù)太陽高度角和所述拍攝位置高程，計算相對大氣光學質(zhì)量；第六計算單元326，用于根據(jù)相對大氣光學質(zhì)量，計算直射輻射大氣透明度系數(shù)，并根據(jù)直射輻射大氣透明度系數(shù)，計算散射輻射大氣透明度系數(shù)；第七計算單元327，用于根據(jù)大氣層上界垂直入射時的太陽輻射強度、所述直射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角，計算所述太陽直接輻射強度；第八計算單元328，用于根據(jù)散射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角，計算太陽散射輻射強度。需要說明的是，裝置部分的實施例方式與方法部分的實施例方式對應類似，具體細節(jié)請參照方法實施例部分，在此不再贅述。北京高級太陽光譜模擬報價

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