河北太陽光譜模擬購買

為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合具體實(shí)施例，并參照附圖，對本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說明。本發(fā)明實(shí)施例提出一種用于地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽光照補(bǔ)償值方法，該方法通過地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻及拍攝位置高程，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽赤緯角、太陽時(shí)角、太陽高度角、太陽輻射強(qiáng)度、大氣光學(xué)質(zhì)量、直射輻射大氣透明度系數(shù)、直接輻射強(qiáng)度、散射輻射大氣透明度系數(shù)、散射輻射強(qiáng)度、太陽總輻照強(qiáng)度，實(shí)現(xiàn)對于不同日期、不同時(shí)間、不同地點(diǎn)拍攝的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽光照補(bǔ)償值計(jì)算。相互反應(yīng)生成所需的化合物沉積在基材上，此種濺鍍系統(tǒng)稱為反應(yīng)性濺鍍。河北太陽光譜模擬購買

這發(fā)生在太陽大氣層的外層（夫瑯和費(fèi)線），或通過地球大氣層內(nèi)的吸收（由水蒸氣或氧氣等氣體引起的大氣吸收譜線）。每個(gè)單獨(dú)的條紋由標(biāo)準(zhǔn)具或VIPA的一個(gè)FSR隔開。標(biāo)準(zhǔn)具FSR由其制造工藝精確確定，這意味著將原始條紋圖像與現(xiàn)有文獻(xiàn)中的太陽光譜進(jìn)行比較，即可得到相應(yīng)的太陽光譜。HN-9332光譜儀在518nm附近記錄的太陽極光光譜顯示了太陽外層的Mg三重態(tài)吸收(除了所示的Mg線和Fe線之外，在太陽光譜的這個(gè)區(qū)域也有一些Ni吸收線）。比較LightMachineryHF-8989-2e光譜儀記錄的太陽光譜（紅色數(shù)據(jù)）和參考光譜（藍(lán)色數(shù)據(jù)）四川高級太陽光譜模擬AM0這種新型的基于銻化鎵的太陽能電池被組裝成堆棧式結(jié)構(gòu)。

在本申請的一個(gè)實(shí)施例中，步驟2)中，靶材為銅靶，氬氣流量為50～500sccm，制得的低發(fā)射率膜的厚度為180～220nm。在本申請的一個(gè)實(shí)施例中，步驟3)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～300sccm，氮?dú)饬髁繛?0～100sccm，制得的緩沖膜的厚度為30～150nm。在本申請的一個(gè)實(shí)施例中，步驟4)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～500sccm，氮?dú)饬髁繛?0～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的過渡膜的厚度為30～100nm。在本申請的一個(gè)實(shí)施例中，步驟5)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～300sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的吸收膜的厚度為30～120nm。

膠態(tài)量子點(diǎn)具有兩大優(yōu)勢。首先是更廉價(jià)，因?yàn)樗鼈兘档土嗣客唠娏Ξa(chǎn)生的成本，但更主要的優(yōu)勢在于，只需簡單改變量子點(diǎn)的大小，就能改變吸收光譜。大小容易改變且可調(diào)諧是等離子材料的屬性：通過改變等離子粒子的大小，研究人員就能將這兩種重要納米粒子的吸收和散射光譜重疊起來。   薩金特研究小組通過將金納米殼直接嵌入量子點(diǎn)吸收膜提高了太陽能電池的效率，他們下一步將尋找利用更廉價(jià)的金屬來達(dá)成相同的目標(biāo)。美國加州大學(xué)納米系統(tǒng)研究所所長保羅·維斯認(rèn)為，該項(xiàng)研究的重要性在于展示了通過調(diào)節(jié)納米粒子特性以提高太陽能電池效率的潛力。本申請?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法，包括以下依次進(jìn)行的步驟。

為了得到高質(zhì)量的化合物薄膜，通常在濺鍍金屬靶時(shí)，通入與被濺射出的物質(zhì)反應(yīng)的氣體，相互反應(yīng)生成所需的化合物沉積在基材上，此種濺鍍系統(tǒng)稱為反應(yīng)性濺鍍。如果所通入的氣體含量剛好足夠與濺射出的原子進(jìn)行反應(yīng)，使得在靶材表面甚少形成化合物，則有利濺射的進(jìn)行。相反地，如果通入過量的氣體，則不僅在基材上與濺射出的原子進(jìn)行反應(yīng)，也會(huì)在靶面上與靶材反應(yīng)生成化合物。因此，如何提高吸熱體的基材的外表面上的薄膜對太陽熱能的吸收，提高光熱轉(zhuǎn)換的效率，是本領(lǐng)域技術(shù)人員急需解決的技術(shù)問題。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本申請制備的膜層的發(fā)射率為3％～5％，比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的發(fā)射率降低了3％～12％。內(nèi)蒙古下打光太陽光譜模擬AM0

由于其尺寸很小——小于1平方毫米，因此可以有效地開發(fā)具有更復(fù)雜材料的太陽能電池。河北太陽光譜模擬購買

本申請?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法，吸熱體由基材以及設(shè)置在基材的外表面上的膜層構(gòu)成，膜層包括6層，從下到上依次為氧化鉻材質(zhì)的強(qiáng)化膜、銅材質(zhì)的低發(fā)射率膜、氮化鉻材質(zhì)的緩沖膜、氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻的混合物材質(zhì)的過渡膜、氧化鉻材質(zhì)的吸收膜、二氧化硅材質(zhì)的抗反射膜，其中強(qiáng)化膜、緩沖膜、過渡膜、吸收膜以及抗反射膜均為通過反應(yīng)性濺就鍍制備得到，銅材質(zhì)的低發(fā)射率膜為通過直流濺鍍制備得到；河北太陽光譜模擬購買

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