新疆AM1.5太陽光譜模擬公司

陽光是一種**度、易獲得的光源，包括數(shù)千個“內(nèi)置”的校準(zhǔn)光譜特征。許多研究都需要用到這種質(zhì)量的光源，例如日光誘導(dǎo)葉綠素?zé)晒猓恢脖?，作物和礦物的地物光譜，高光譜，以及多光譜測試；地球大氣層研究等等。LightMachinery的高分辨率光譜儀，不但可以用來測試太陽光譜，也可以利用其高分辨率測試的夫朗和費線反演太陽自轉(zhuǎn)，大氣水汽等等。顯示太陽光譜**直接的方法是將直射陽光耦合到連接到光譜儀輸入端口的光纖中。某些型號的LightMachinery光譜儀提供了必要的光通量和靈敏度來記錄太陽光譜，只需將光纖端部大致對準(zhǔn)太陽的方向即可。這種新型的基于銻化鎵的太陽能電池被組裝成堆棧式結(jié)構(gòu)。新疆AM1.5太陽光譜模擬公司

步驟5)中，靶材為鉻靶，功率為11kw，電壓為500v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為110sccm，氧氣流量為90sccm，制得的吸收膜的厚度為80nm；6)反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅，反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層；步驟6)中，靶材為硅靶，功率為6kw，電壓為560v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為220sccm，氧氣流量為30sccm，制得的抗反射膜的厚度為120nm。天津AM0太陽光譜模擬報價在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻。

伴隨工作溫度的升高，如何抑制高溫下熱輻射損失顯得愈發(fā)重要。基于前期的研究基礎(chǔ)，研究組開發(fā)出另一種新型金屬陶瓷薄膜WTi-Al2O3。借助光學(xué)模擬設(shè)計，獲得太陽光譜選擇性吸收涂層結(jié)構(gòu)參數(shù)的優(yōu)化范圍，構(gòu)建了WTi-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層。經(jīng)600℃長時間（840 h）退火，WTi-Al2O3涂層仍保持較高的吸收率~93%，500℃下的熱發(fā)射率*有10.3%，遠(yuǎn)低于文獻報道值（>13%@500℃）。研究表明，WTi合金納米粒子內(nèi)金屬Ti的外擴散、偏析及部分氧化可有效抑制W納米粒子的團聚和長大，從而提高涂層的熱穩(wěn)定性，實現(xiàn)對WTi-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層光學(xué)性能和熱穩(wěn)定性的雙重調(diào)控（Nano Energy 2017, 37, 232），

示意性示出了本發(fā)明實施例太陽光照補償值計算方法的流程圖，如圖1所示，該方法例如可以包括操作s1～s1。s1，獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程。該尺寸包括地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的長或?qū)?，例如，獲取一幅大小為x×y的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像。地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程例如可以從數(shù)據(jù)庫中獲取。s2，根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程，計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度。此外，堆疊過程使用了一種名為轉(zhuǎn)印的技術(shù)，這一技術(shù)能以高精度三維組裝這些微小的設(shè)備。

例如，獲取模塊310、***計算模塊320、第二計算模塊330和第三計算模塊340中的任意多個可以合并在一個模塊中實現(xiàn)，或者其中的任意一個模塊可以被拆分成多個模塊。或者，這些模塊中的一個或多個模塊的至少部分功能可以與其他模塊的至少部分功能相結(jié)合，并在一個模塊中實現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明的實施例，獲取模塊310、***計算模塊320、第二計算模塊330及第三計算模塊340中的至少一個可以至少被部分地實現(xiàn)為硬件電路，例如現(xiàn)場可編程門陣列(fpga)、可編程邏輯陣列(pla)、片上系統(tǒng)、基板上的系統(tǒng)、封裝上的系統(tǒng)、**集成電路(asic)，或可以通過對電路進行集成或封裝的任何其他的合理方式等硬件或固件來實現(xiàn)，或以軟件、硬件以及固件三種實現(xiàn)方式中任意一種或以其中任意幾種的適當(dāng)組合來實現(xiàn)。或者，獲取模塊310、***計算模塊320、第二計算模塊330及第三計算模塊340中的至少一個可以至少被部分地實現(xiàn)為計算機程序模塊，當(dāng)該計算機程序模塊被運行時，可以執(zhí)行相應(yīng)的功能。反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜。天津AM0太陽光譜模擬AM1.5

對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明的一部分實施例。新疆AM1.5太陽光譜模擬公司

本申請?zhí)岣吡四拥墓鉄徂D(zhuǎn)換的效率，其中的工作原理是：純銅、黃銅的低發(fā)射率在金屬中比較低，*為0.03～0.05，因此本申請濺鍍制備了銅離子膜，作為低發(fā)射率膜，以降低膜層的發(fā)射率；抗反射膜是利用材料表面的反射能力與其折射率有關(guān)這一特性，通過降低材料表面的折射率，減少材料對太陽輻射的反射，在金屬表面做多孔的二氧化硅膜層，其折射率較低，可使太陽反射比**降低；氧化鉻等氧化物具有高吸收率，經(jīng)檢測，本申請制備的膜層的太陽吸收率為93％～97％。實施例1一種用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法，包括以下依次進行的步驟：新疆AM1.5太陽光譜模擬公司

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