河南太陽(yáng)光譜模擬銷(xiāo)量

如圖4所示，在本實(shí)施例以可行的方式中，***計(jì)算模塊320例如可以包括：***計(jì)算單元321，用于根據(jù)尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間，計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像中每個(gè)像素對(duì)應(yīng)的地理經(jīng)度和地理緯度。第二計(jì)算單元322，用于根據(jù)拍攝日期，計(jì)算拍攝日期對(duì)應(yīng)的太陽(yáng)赤緯角和大氣層上界垂直入射時(shí)的太陽(yáng)輻射強(qiáng)度。第三計(jì)算單元323，用于根據(jù)拍攝時(shí)刻和地理經(jīng)度，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽(yáng)時(shí)角。第四計(jì)算單元324，用于根據(jù)太陽(yáng)赤緯角、太陽(yáng)時(shí)角和地理緯度，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽(yáng)高度角。反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材。河南太陽(yáng)光譜模擬銷(xiāo)量

4)反應(yīng)性濺鍍制備過(guò)渡膜：在第四真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氧氣與氮?dú)獍l(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻，反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過(guò)渡膜；步驟4)中，靶材為鉻靶，功率為15kw，電壓為510v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為90sccm，氮?dú)饬髁繛?0sccm，氧氣流量為50sccm，制得的過(guò)渡膜的厚度為70nm；5)反應(yīng)性濺鍍制備吸收膜：在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過(guò)渡膜的外表面上形成吸收膜；廣西銷(xiāo)售太陽(yáng)光譜模擬低價(jià)基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例。

本發(fā)明涉及圖像處理領(lǐng)域，尤其涉及一種太陽(yáng)光照補(bǔ)償值計(jì)算方法。背景技術(shù)：地球靜止軌道光學(xué)遙感衛(wèi)星的軌道周期與地球自轉(zhuǎn)周期相同，與地球保持相對(duì)靜止，擁有較大的成像幅寬，可對(duì)某一大面積指定感興趣區(qū)域進(jìn)行連續(xù)觀(guān)測(cè)，具有時(shí)間分辨率高、數(shù)據(jù)時(shí)效性好等優(yōu)點(diǎn)。然而，由于地球自轉(zhuǎn)和圍繞太陽(yáng)公轉(zhuǎn)，導(dǎo)致地球上同一位置的光照強(qiáng)度每天都是不同的。此外，由于地球本身是圓形的，因此即使同一時(shí)刻，不同經(jīng)度和緯度的光照強(qiáng)度也是不一樣的，這就導(dǎo)致靜止軌道光學(xué)遙感衛(wèi)星在不同日期、不同時(shí)間、不同地點(diǎn)拍攝的圖像的亮度有很大差別，這對(duì)遙感圖像后續(xù)處理和應(yīng)用造成很大困難。因此，如何對(duì)在不同日期、不同時(shí)間、不同地點(diǎn)拍攝的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像進(jìn)行太陽(yáng)光照補(bǔ)償值計(jì)算是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的問(wèn)題。

s25，根據(jù)太陽(yáng)高度角和拍攝位置高程，計(jì)算相對(duì)大氣光學(xué)質(zhì)量。在本實(shí)施例一可行的方式中，根據(jù)其中，z表示地理位置(l(x)，b(y))處的海拔高度，r(α，z)為相對(duì)大氣光學(xué)質(zhì)量。s26，根據(jù)相對(duì)大氣光學(xué)質(zhì)量，計(jì)算直射輻射大氣透明度系數(shù)，并根據(jù)直射輻射大氣透明度系數(shù)，計(jì)算散射輻射大氣透明度系數(shù)。在本實(shí)施例一可行的方式中，根據(jù)τd(α，z)＝0.56×(e-0.56r(α，z)+e-0.096r(α，z))×k1(8)計(jì)算晴天無(wú)云條件下的直射輻射大氣透明度系數(shù)，其中，τd(α，z)為所述直射輻射大氣透明度系數(shù)，k1為常系數(shù)，根據(jù)大氣質(zhì)量渾濁程度，取值范圍例如可以為0.8≤k1≤0.9。撞擊出來(lái)的銅離子沉積在步驟1)制得的強(qiáng)化膜的外表面上形成低發(fā)射率膜。

1)反應(yīng)性濺鍍制備強(qiáng)化膜：在***真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在吸熱體的基材的外表面上形成強(qiáng)化膜；步驟1)中，吸熱體的基材為不銹鋼片；步驟1)中，靶材為鉻靶，功率為9kw，電壓為500v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為120sccm，氧氣流量為80sccm，制得的強(qiáng)化膜的厚度為70nm；膜厚是根據(jù)工藝要求可調(diào)整的；2)濺鍍制備低發(fā)射率膜：在第二真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的銅離子沉積在步驟1)制得的強(qiáng)化膜的外表面上形成低發(fā)射率膜；通過(guò)降低成本和回收利用這些生長(zhǎng)基底，未來(lái)類(lèi)似的產(chǎn)品可能將被推向市場(chǎng)。河南上打光太陽(yáng)光譜模擬代理

我們的新設(shè)備能夠解鎖存儲(chǔ)在長(zhǎng)波長(zhǎng)光子中的能量，這些是傳統(tǒng)太陽(yáng)能電池力所未逮之處。河南太陽(yáng)光譜模擬銷(xiāo)量

根據(jù)拍攝時(shí)刻和所地理經(jīng)度，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽(yáng)時(shí)角。在本實(shí)施例一可行的方式中，可根據(jù)ω(x，t)＝(12-t)×15°-l(x)(5)計(jì)算太陽(yáng)時(shí)角，其中，t為拍攝時(shí)刻，ω(x，t)為坐標(biāo)為(x，y)的像素點(diǎn)在t時(shí)刻對(duì)應(yīng)的太陽(yáng)時(shí)角。s24，根據(jù)太陽(yáng)赤緯角、太陽(yáng)時(shí)角和地理緯度，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽(yáng)高度角。在本實(shí)施例一可行的方式中，可根據(jù)α(x，y，d，t)＝arcsin[sinb(y)×sinδ(d)+cosb(y)×cosδ(d)×cosω(x，t)](6)計(jì)算太陽(yáng)高度角α(x，y，d，t)。河南太陽(yáng)光譜模擬銷(xiāo)量

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