江蘇太陽光譜模擬公司

來源: 發(fā)布時間:2023-03-12

獲取模塊310,用于獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像的尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程。***計算模塊320,用于根據(jù)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程,計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度。第二計算模塊330,用于根據(jù)太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度,計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像的太陽總輻照強度。第三計算模塊340,用于針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時間、和/或拍攝位置對應(yīng)的地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像,計算各自對應(yīng)的太陽總輻照強度相互之間的差值,得到各個地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像之間的太陽光照補償值。以往使用的化學鍍膜,對環(huán)境污染大,而且對太陽熱能的吸收不好。江蘇太陽光譜模擬公司

示意性示出了本發(fā)明實施例太陽光照補償值計算方法的流程圖,如圖1所示,該方法例如可以包括操作s1~s1。s1,獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程。該尺寸包括地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像的長或?qū)?,例如,獲取一幅大小為x×y的地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像。地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程例如可以從數(shù)據(jù)庫中獲取。s2,根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程,計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度。貴州代理太陽光譜模擬銷量制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜,完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。

為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚明白,以下結(jié)合具體實施例,并參照附圖,對本發(fā)明進一步詳細說明。本發(fā)明實施例提出一種用于地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像的太陽光照補償值方法,該方法通過地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻及拍攝位置高程,計算拍攝時刻的太陽赤緯角、太陽時角、太陽高度角、太陽輻射強度、大氣光學質(zhì)量、直射輻射大氣透明度系數(shù)、直接輻射強度、散射輻射大氣透明度系數(shù)、散射輻射強度、太陽總輻照強度,實現(xiàn)對于不同日期、不同時間、不同地點拍攝的地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像的太陽光照補償值計算。

et(d,α,z)=ed(d,α,z)+es(α,z),(12)其中,ed(d,α,z)與es(α,z)可從操作s102中得出。s104,針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時間、和/或拍攝位置對應(yīng)的所述地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像,計算各自對應(yīng)的太陽總輻照強度相互之間的差值,得到各個地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像之間的太陽光照補償值。從方程(12)可以看出,由于太陽高度角α(x,y,d,t)由遙感圖像中像素點坐標值(x,y)、圖像拍攝時間在一年中的第d天和拍攝時間t決定,因此太陽總輻照強度et(d,α,z)由遙感圖像中像素點坐標值(x,y)、(x,y)處的高程z,圖像拍攝時間在一年中的第d天和拍攝時間t決定,則et(x,y,z,d,t)≡et(d,α,z).(1)科學家們設(shè)計和建造了一種新型太陽能電池的原型,將多個電池堆疊到一個設(shè)備中。

本申請?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法,吸熱體由基材以及設(shè)置在基材的外表面上的膜層構(gòu)成,膜層包括6層,從下到上依次為氧化鉻材質(zhì)的強化膜、銅材質(zhì)的低發(fā)射率膜、氮化鉻材質(zhì)的緩沖膜、氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻的混合物材質(zhì)的過渡膜、氧化鉻材質(zhì)的吸收膜、二氧化硅材質(zhì)的抗反射膜,其中強化膜、緩沖膜、過渡膜、吸收膜以及抗反射膜均為通過反應(yīng)性濺就鍍制備得到,銅材質(zhì)的低發(fā)射率膜為通過直流濺鍍制備得到;我們的新設(shè)備能夠解鎖存儲在長波長光子中的能量,這些是傳統(tǒng)太陽能電池力所未逮之處。遼寧下打光太陽光譜模擬公司

由于其尺寸很小——小于1平方毫米,因此可以有效地開發(fā)具有更復(fù)雜材料的太陽能電池。江蘇太陽光譜模擬公司

4)反應(yīng)性濺鍍制備過渡膜:在第四真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮氣發(fā)生化學反應(yīng)生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻,反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜;步驟4)中,靶材為鉻靶,功率為15kw,電壓為510v,真空度為8.0e-6torr,鍍膜速度為6mm/s,氬氣流量為90sccm,氮氣流量為70sccm,氧氣流量為50sccm,制得的過渡膜的厚度為70nm;5)反應(yīng)性濺鍍制備吸收膜:在第五真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學反應(yīng)生成氧化鉻,反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過渡膜的外表面上形成吸收膜;江蘇太陽光譜模擬公司

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