HN-9332儀器的寬波長覆蓋范圍允許在整個光譜的可見區(qū)域進行快速的“測量”光譜。然而，許多夫瑯和費譜線和大多數大氣譜線都比HN-9332儀器的分辨率窄。需要更高分辨率的光譜儀來詳細檢查太陽光譜的感興趣區(qū)域；例如HF-8989。02高分辨率太陽光譜下圖顯示了太陽光譜中一個特別有趣的區(qū)域。這個位于689nm附近的區(qū)域主要是由地球大氣中的氧氣引起的大地吸收。在這里，可以清楚地觀察到氧帶的R-和P-分支中的單個吸收線，較強的吸收線在線中心顯示~100%的吸收。左邊是一個高分辨率的太陽光譜，它是用629nm波段的HF-8989-3光譜儀拍攝的。通過降低成本和回收利用這些生長基底，未來類似的產品可能將被推向市場。新疆AM0太陽光譜模擬AM1.5
為使本發(fā)明的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚明白，以下結合具體實施例，并參照附圖，對本發(fā)明進一步詳細說明。本發(fā)明實施例提出一種用于地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像的太陽光照補償值方法，該方法通過地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像尺寸、地理經度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻及拍攝位置高程，計算拍攝時刻的太陽赤緯角、太陽時角、太陽高度角、太陽輻射強度、大氣光學質量、直射輻射大氣透明度系數、直接輻射強度、散射輻射大氣透明度系數、散射輻射強度、太陽總輻照強度，實現對于不同日期、不同時間、不同地點拍攝的地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像的太陽光照補償值計算。安徽高級太陽光譜模擬購買膜層包括6層，從下到上依次為氧化鉻材質的強化膜。
可選地，根據地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像尺寸、地理經度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻及拍攝位置高程，計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度，包括：根據地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像尺寸、地理經度區(qū)間、地理緯度區(qū)間，計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像中每個像素對應的地理經度和地理緯度；根據拍攝日期，計算拍攝日期對應的太陽赤緯角及大氣層上界垂直入射時的太陽輻射強度；根據拍攝時刻和地理經度，計算拍攝時刻的太陽時角；根據太陽赤緯角、太陽時角和地理緯度，計算拍攝時刻的太陽高度角；根據太陽高度角和拍攝位置高程，計算相對大氣光學質量；根據相對大氣光學質量，計算直射輻射大氣透明度系數，并根據直射輻射大氣透明度系數，計算散射輻射大氣透明度系數；根據大氣層上界垂直入射時的太陽輻射強度、直射輻射大氣透明度系數和太陽高度角，計算太陽直接輻射強度；根據散射輻射大氣透明度系數和太陽高度角，計算太陽散射輻射強度。
然而，對于大多數光譜儀而言，必須使用透鏡收集陽光，光纖的輸入端位于透鏡的焦點處。可以通過商用光纖準直器C將陽光耦合到光纖中。準直器可以安裝在穩(wěn)定的三腳架上，對準太陽，從而可以手動跟蹤太陽在天空中的運動?；蛘呃锰柾h鏡A,B，它們將能夠自動跟蹤太陽的軌跡。LightMachinery可以提供目鏡適配器D，將太陽光耦合到光纖中。01利用LightMachinery光譜儀測試太陽光譜一旦太陽光被成功地耦合到光譜儀中，一個條紋圖像將被相機傳感器捕獲。這些條紋中，白色條紋中的深**域對應于太陽吸收線。正是在這些窄波長區(qū)域，太陽的光強度被吸收而降低。在平板型太陽能集熱器的生產中，往往要在吸熱體(吸熱板)的基材的外表面鍍一層薄膜，以提高對太陽熱能的吸。
反應性濺鍍制備緩沖膜：在第三真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氮氣發(fā)生化學反應生成氮化鉻，反應生成的氮化鉻沉積在步驟2)制得的低發(fā)射率膜的外表面上形成緩沖膜；4)反應性濺鍍制備過渡膜：在第四真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮氣發(fā)生化學反應生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻，反應生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜；5)反應性濺鍍制備吸收膜：在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學反應生成氧化鉻，反應生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過渡膜的外表面上形成吸收膜；**優(yōu)于國家標準要求，太陽吸收比α(am1.5)達0.94，半球發(fā)射比εh(80℃)*為0.038。安徽高級太陽光譜模擬購買
這一新設備利用了聚光光伏(CPV)電池板，利用透鏡將太陽光集中到微小尺度的太陽能電池上。新疆AM0太陽光譜模擬AM1.5
表明了所能達到的效率上限。雖然所用的材料花費很大，但用于制造這種電池的技術很有前途。通過降低成本和回收利用這些生長基底，未來類似的產品可能將被推向市場。背景技術：在平板型太陽能集熱器的生產中，往往要在吸熱體(吸熱板)的基材的外表面鍍一層薄膜，以提高對太陽熱能的吸收，以往使用的化學鍍膜，對環(huán)境污染大，而且對太陽熱能的吸收不好。由于在濺鍍化合物薄膜時，若直接以化合物當作靶材，則所濺鍍出來的薄膜會與靶材成份有所差別，且因為不同物質被離子擊出的濺擊產額不同，因此不容易控制化合物的成份組成與性新疆AM0太陽光譜模擬AM1.5
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