青海AM0太陽(yáng)光譜模擬低價(jià)

4)反應(yīng)性濺鍍制備過(guò)渡膜：在第四真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氧氣與氮?dú)獍l(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻，反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過(guò)渡膜；步驟4)中，靶材為鉻靶，功率為15kw，電壓為510v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為90sccm，氮?dú)饬髁繛?0sccm，氧氣流量為50sccm，制得的過(guò)渡膜的厚度為70nm；5)反應(yīng)性濺鍍制備吸收膜：在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過(guò)渡膜的外表面上形成吸收膜；這種新型的基于銻化鎵的太陽(yáng)能電池被組裝成堆棧式結(jié)構(gòu)。青海AM0太陽(yáng)光譜模擬低價(jià)

科學(xué)家們?cè)O(shè)計(jì)和建造了一種新型太陽(yáng)能電池的原型，將多個(gè)電池堆疊到一個(gè)設(shè)備中，能捕捉太陽(yáng)光譜中幾乎所有能量。這一新設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)換太陽(yáng)光為電力的效率是44.5%，有望成為世界上效率的太陽(yáng)能電池。這一方法不同于一般在房頂或者田野中看到的那種太陽(yáng)能電池板。這一新設(shè)備利用了聚光光伏(CPV)電池板，利用透鏡將太陽(yáng)光集中到微小尺度的太陽(yáng)能電池上。由于其尺寸很小——小于1平方毫米，因此可以有效地開(kāi)發(fā)具有更復(fù)雜材料的太陽(yáng)能電池。 堆棧式電池就像是太陽(yáng)光篩子，每層的特制材料吸收特定波長(zhǎng)**的能量。等到陽(yáng)光透過(guò)整個(gè)堆棧之時(shí)，近一半的可用能量都被轉(zhuǎn)換為了電力。相對(duì)的，目前大部分常見(jiàn)太陽(yáng)能電池只能將25%的可用能量轉(zhuǎn)換為電力。上海銷(xiāo)售太陽(yáng)光譜模擬購(gòu)買(mǎi)相對(duì)的，目前大部分常見(jiàn)太陽(yáng)能電池只能將25%的可用能量轉(zhuǎn)換為電力。

可選地，根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻及拍攝位置高程，計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像拍攝位置的太陽(yáng)直接輻射強(qiáng)度和太陽(yáng)散射輻射強(qiáng)度，包括：根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間，計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像中每個(gè)像素對(duì)應(yīng)的地理經(jīng)度和地理緯度；根據(jù)拍攝日期，計(jì)算拍攝日期對(duì)應(yīng)的太陽(yáng)赤緯角及大氣層上界垂直入射時(shí)的太陽(yáng)輻射強(qiáng)度；根據(jù)拍攝時(shí)刻和地理經(jīng)度，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽(yáng)時(shí)角；根據(jù)太陽(yáng)赤緯角、太陽(yáng)時(shí)角和地理緯度，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽(yáng)高度角；根據(jù)太陽(yáng)高度角和拍攝位置高程，計(jì)算相對(duì)大氣光學(xué)質(zhì)量；根據(jù)相對(duì)大氣光學(xué)質(zhì)量，計(jì)算直射輻射大氣透明度系數(shù)，并根據(jù)直射輻射大氣透明度系數(shù)，計(jì)算散射輻射大氣透明度系數(shù)；根據(jù)大氣層上界垂直入射時(shí)的太陽(yáng)輻射強(qiáng)度、直射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽(yáng)高度角，計(jì)算太陽(yáng)直接輻射強(qiáng)度；根據(jù)散射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽(yáng)高度角，計(jì)算太陽(yáng)散射輻射強(qiáng)度。

5)反應(yīng)性濺鍍制備吸收膜：在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過(guò)渡膜的外表面上形成吸收膜；6)反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅，反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中，步驟1)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的強(qiáng)化膜的厚度為30～120nm。在***真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻。

可選地，根據(jù)尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間，計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像中每個(gè)像素對(duì)應(yīng)的地理經(jīng)度和地理緯度，包括：以地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像中的一預(yù)設(shè)點(diǎn)建立直角坐標(biāo)系，根據(jù)遙感圖像尺寸，得到每個(gè)像素點(diǎn)在直角坐標(biāo)系中的坐標(biāo)(x，y)；獲取每個(gè)像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的地理坐標(biāo)(by-1，lx-1)；根據(jù)計(jì)算坐標(biāo)為(x，y)的像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的地理經(jīng)度l(x)；根據(jù)計(jì)算坐標(biāo)為(x，y)的像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的地理緯度b(y)；其中，(b0，l0)為坐標(biāo)值(0，0)為的像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的地理坐標(biāo)，x×y為尺寸?？蛇x地，根據(jù)拍攝日期，計(jì)算拍攝日期對(duì)應(yīng)的太陽(yáng)赤緯角和大氣層上界垂直入射時(shí)的太陽(yáng)輻射強(qiáng)度，包括：根據(jù)計(jì)算太陽(yáng)赤緯角；根據(jù)計(jì)算太陽(yáng)輻射強(qiáng)度；其中，d表示計(jì)算拍攝日期在一年中所處的天數(shù)，δ(d)為太陽(yáng)赤緯角，e(d)為太陽(yáng)輻射強(qiáng)度。如何提高吸熱體的基材的外表面上的薄膜對(duì)太陽(yáng)熱能的吸收，提高光熱轉(zhuǎn)換的效率。湖北購(gòu)買(mǎi)太陽(yáng)光譜模擬AM0

本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽(yáng)光譜的膜層的制備方法，吸熱體由基材及設(shè)置在基材的外表面上膜層構(gòu)成。青海AM0太陽(yáng)光譜模擬低價(jià)

為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合具體實(shí)施例，并參照附圖，對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。本發(fā)明實(shí)施例提出一種用于地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽(yáng)光照補(bǔ)償值方法，該方法通過(guò)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻及拍攝位置高程，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽(yáng)赤緯角、太陽(yáng)時(shí)角、太陽(yáng)高度角、太陽(yáng)輻射強(qiáng)度、大氣光學(xué)質(zhì)量、直射輻射大氣透明度系數(shù)、直接輻射強(qiáng)度、散射輻射大氣透明度系數(shù)、散射輻射強(qiáng)度、太陽(yáng)總輻照強(qiáng)度，實(shí)現(xiàn)對(duì)于不同日期、不同時(shí)間、不同地點(diǎn)拍攝的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽(yáng)光照補(bǔ)償值計(jì)算。青海AM0太陽(yáng)光譜模擬低價(jià)

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