物性數(shù)據(jù)1.性狀:白色粉末。2.密度(g/mL,25℃):9.683.相對蒸汽密度(g/mL,空氣=1):未確定4.熔點(oC):21825.沸點(oC,常壓):未確定6.沸點(oC,1mmHg):未確定7.折射率:未確定8.閃點(oC):未確定9.比旋光度(o):未確定10.自燃點或引燃溫度(oC):未確定11.蒸氣壓(20oC):未確定12.飽和蒸氣壓(kPa,60oC):未確定13.燃燒熱(KJ/mol):未確定14.臨界溫度(oC):未確定15.臨界壓力(KPa):未確定16.油水(辛醇/水)分配系數(shù)的對數(shù)值:未確定17.上限(%,V/V):未確定18.下限(%,V/V):未確定19.溶解性:未確定氧化鉿的化學性質有哪些?云南氧化鉿多少錢
產(chǎn)品特性與用途二氧化鉿(HfO2)是一種具有較高介電常數(shù)的氧化物。作為一種介電材料,因其較高的介電常數(shù)值(~20),較大的禁帶寬度(~5.5eV),以及在硅基底上良好的穩(wěn)定性,HfO2被認為是替代場效應晶體管中傳統(tǒng)SiO2介電層的理想材料。如果互補金屬氧化物半導體器件尺寸低于1μm,以二氧化硅為傳統(tǒng)柵介質的技術會帶來芯片的發(fā)熱量增加、多晶硅損耗等一系列問題,隨著晶體管的尺寸縮小,二氧化硅介質要求必須越來Chemicalbook越薄,但是漏電流的數(shù)值會因為量子效應的影響隨著二氧化硅介質厚度的較小而急劇升高,所以急需一種更可行的物質來取代二氧化硅作為柵介質。二氧化鉿是一種具有寬帶隙和高介電常數(shù)的陶瓷材料,近來在工業(yè)界特別是微電子領域被引起極度的關注,由于它很可能替代目前硅基集成電路的**器件金屬氧化物半導體場效應管(MOSFET)的柵極絕緣層二氧化硅(SiO2),以解決目前MOSFET中傳統(tǒng)SiO2/Si結構的發(fā)展的尺寸極限問題。生產(chǎn)方法當加熱到高溫時鉿與氧直接化合生成氧化鉿。也可通過其硫酸鹽或草酸鹽經(jīng)灼燒而得。西隴氧化鉿銷售價格氧化鉿的危險性描述?
氧化鉿為白色立方晶體,比重9.68。熔點2,758±25℃。沸點約5,400℃。單斜晶系的二氧化鉿在1,475~1,600℃足量氧氣氛中轉化為四方晶系。不溶于水和一般無機酸,但在氫氟酸中緩慢溶解。化學反應與熱的濃硫酸或酸式硫酸鹽作用形成硫酸鉿Chemicalbook[Hf(SO4)2],與碳混合后加熱通氯生成四氯化鉿(HfCl4),與氟硅酸鉀作用生成氟鉿酸鉀(K2HfF6),與碳在1,500℃以上作用形成碳化鉿HfC。制備氧化鉿可由鉿的碳化物、四氯化物、硫化物、硼化物、氮化物或水合氧化物直接高溫灼燒制取。
應用領域氧化鉿(HfO2)為鋯鉿分離的產(chǎn)物,目前只有美、法等國家在生產(chǎn)核級鋯時產(chǎn)生有氧化鉿。中國早期就已經(jīng)具備生產(chǎn)核級Zr,并生產(chǎn)少量氧化鉿的能力。但是產(chǎn)品數(shù)量稀少,價格昂貴。作為鉿的主要化學產(chǎn)品,通常用作光學鍍膜材料,很少量開始試用于高效集成電路,氧化鉿在**領域的應用尚待開發(fā)。氧化鉿在光學鍍膜領域的應用HfO2的熔點比較高、同時鉿原子的吸收截面較大Chemicalbook,捕獲中子的能力強,化學性質特別穩(wěn)定,因此在原子能工業(yè)中具有非常大應用的價值。自上世紀以來,光學鍍膜得到了很快的發(fā)展,HfO2在光學方面的特性已經(jīng)越來越適應光學鍍膜技術的要求,所以HfO2在鍍膜領域的應用也越來越***,特別是它對光有比較寬的透明波段,在光透過氧化鉿薄膜時,對光的吸收少,大部分通過折射透過薄膜,因此HfO2在光學鍍膜領域的應用越來越被重視。氧化鉿的化學式是多少?
基本信息IUPAC名稱:dioxohafnium元素含量比重:O(oxygen)15.2%、Hf(hafnium)84.8%密度:9.68g/cm3熔點:2758℃摩爾質量:210.49g/molCAS號:12055-23-1蒸發(fā)壓力:在2678℃時1Pa;在2875℃時10Pa線膨脹系數(shù):5.6×10-6/K溶解度:不溶解于水純度:99.99薄膜特性:透光范圍~220~12000nm;折射率(250nm)~2.15(500nm)~2蒸發(fā)條件:用電子***,氧分壓~1~2×10-2Pa。蒸發(fā)溫度~2600~2800℃,基片溫度~250℃,蒸發(fā)速率2nm/s應用領域:UV增透膜,干涉膜氧化鉿的應用領域有那些?西隴氧化鉿銷售
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氧化鉿MSDS1.1產(chǎn)品標識符:Hafnium(IV)oxide化學品俗名或商品名1.2鑒別的其他方法無數(shù)據(jù)資料1.3有關的確定了的物質或混合物的用途和建議不適合的用途*供科研用途,不作為藥物、家庭備用藥或其它用途。模塊2.危險性概述2.1GHS分類根據(jù)全球協(xié)調系統(tǒng)(GHS)的規(guī)定,不是危險物質或混合物。2.3其它危害物-無模塊3.成分/組成信息3.1物質:HfO2分子式:210.49g/mol分子量成分濃度Hafniumdioxide-化學文摘編號(CASNo.)12055-23-1EC-編號235-013-2模塊4.急救措施4.1必要的急救措施描述如果吸入如果吸入,請將患者移到新鮮空氣處。如果停止了呼吸,給于人工呼吸。在皮膚接觸的情況下用肥皂和大量的水沖洗。在眼睛接觸的情況下用水沖洗眼睛作為預防措施。如果誤服切勿給失去知覺者從嘴里喂食任何東西。用水漱口。4.2**重要的癥狀和影響,急性的和滯后的據(jù)我們所知,此化學,物理和毒性性質尚未經(jīng)完整的研究。4.3及時的醫(yī)療處理和所需的特殊處理的說明和指示無數(shù)據(jù)資料模塊5.消防措施5.1滅火介質滅火方法及滅火劑用水霧,耐醇泡沫,干粉或二氧化碳滅火。5.2源于此物質或混合物的特別的危害二氧化鉿5.3救火人員的預防如必要的話,戴自給式呼吸器去救火。5.4進一步的信息云南氧化鉿多少錢