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英寶碩:關(guān)于氣云成像的探測(cè)下限,你應(yīng)該知道...

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-03-17

氣云成像探測(cè)下限(Limit of Detection,LOD)的兩種表示方法

1.1氣體濃度測(cè)量檢出限大小用沿光軸積分的氣體濃度測(cè)量值表示,通常單位為ppm-m。它表征了紅外相機(jī)在像素水平上檢測(cè)氣體柱的能力。

1.2質(zhì)量泄漏率(或體積泄漏率)檢出限以質(zhì)量泄漏率(或體積泄漏率)測(cè)量,例如用克/小時(shí)(g/h)或者毫升/分鐘(ml/min)

影響氣云成像探測(cè)下限的主要因素

2.1、背景溫度與氣體溫度的差值ΔT

2.2氣體種類。一般來(lái)說(shuō),氣體分子式中含碳越多,氣體吸收系數(shù)越大。如上圖,在相同的溫差下,丙烷的檢測(cè)下限比甲烷低2/3以上。

2.3主機(jī)和泄漏氣體的距離。距離越遠(yuǎn),探測(cè)下限值越高,呈現(xiàn)與e指數(shù)相似的增長(zhǎng)趨勢(shì)。


2.4紅外相機(jī)設(shè)計(jì)類型。主要是制冷與非制冷探測(cè)器的選擇,帶通濾波器波段選擇和鏡頭設(shè)計(jì)等。在同等情況下,制冷型紅外探測(cè)器比非制冷紅外探測(cè)器的探測(cè)下限值約低兩個(gè)數(shù)量級(jí)。

2.5擴(kuò)散條件。在開(kāi)放條件下,風(fēng)速越大,探測(cè)下限值越高。

氣云成像的探測(cè)下限受多種因素影響,包括溫差、氣體種類、探測(cè)距離、探測(cè)器類型和大氣擴(kuò)散條件等。在產(chǎn)品選型時(shí)要綜合考慮檢測(cè)需求、技術(shù)性能、可靠性、穩(wěn)定性、成本和使用場(chǎng)景,根據(jù)具體的應(yīng)用需求,選擇合適的紅外氣云成像檢測(cè)設(shè)備。

【關(guān)于英寶碩】

英寶碩位于中國(guó)科技創(chuàng)新之都——深圳,是具有自主研發(fā)實(shí)力的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)和深圳市專精特新企業(yè)。秉承應(yīng)用驅(qū)動(dòng)創(chuàng)新的經(jīng)營(yíng)理念,公司始終專注于先進(jìn)氣體探測(cè)產(chǎn)品的研制、生產(chǎn)及推廣,為有安全、應(yīng)急及反恐需求的用戶提供一站式服務(wù)。

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