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電子管需要在真空中發(fā)射電子束
電阻（Resistance，通常用“R”表示）是一個(gè)物理量，在物理學(xué)中表示導(dǎo)體對(duì)電流阻礙作用的大小。導(dǎo)體的電阻越大，表示導(dǎo)體對(duì)電流的阻礙作用越大。不同的導(dǎo)體，電阻一般不同，電阻是導(dǎo)體本身的一種性質(zhì)。導(dǎo)體的電阻通常這樣一來(lái)就必須先搞出一個(gè)真空腔體，然后是得有一定距離以承受高壓，這些都是機(jī)械加工的尺寸限制而不像晶體管那樣是光刻的尺度理論上用MEMS也可以做非常小的電子管，然而對(duì)材料的限制很高，而且有這技術(shù)早就能做晶體管。是指電流通過(guò)導(dǎo)體時(shí)遇到的阻礙力,其大小受到導(dǎo)體材料、導(dǎo)體長(zhǎng)度、導(dǎo)體橫截面積等因素的影響。電阻產(chǎn)生的原因主要有兩個(gè)方面：
電子管需要在真空中發(fā)射電子束，中間還需要極板，這樣一來(lái)就必須先搞出一個(gè)真空腔體，然后是得有一定距離以承受高壓，這些都是機(jī)械加工的尺寸限制而不像晶體管那樣是光刻的尺度理論上用MEMS也可以做非常小的電子管，然而對(duì)材料的限制很高，而且有這技術(shù)早就能做晶體管。
是指電流通過(guò)導(dǎo)體時(shí)遇到的阻礙力,其大小受到導(dǎo)體材料、導(dǎo)體長(zhǎng)度、導(dǎo)體橫截面積等因素的影響。電阻產(chǎn)生的原因主要有兩個(gè)方面: 1.導(dǎo)體內(nèi)部的原子相互作。
導(dǎo)體對(duì)電流的阻礙作用就叫該導(dǎo)體的電阻。電阻（Resistance，通常用“R”表示）是一個(gè)物理量，在物理學(xué)中表示導(dǎo)體對(duì)電流阻礙作用的大小。導(dǎo)體的電阻越大，表示導(dǎo)體對(duì)電流的阻礙作用越大。不同的導(dǎo)體，電阻一般不同，電阻是導(dǎo)體本身的一種性質(zhì)。導(dǎo)體的電阻通常這樣一來(lái)就必須先搞出一個(gè)真空腔體，然后是得有一定距離以承受高壓，這些都是機(jī)械加工的尺寸限制而不像晶體管那樣是光刻的尺度理論上用MEMS也可以做非常小的電子管，然而對(duì)材料的限制很高，而且有這技術(shù)早就能做晶體管。是指電流通過(guò)導(dǎo)體時(shí)遇到的阻礙力,其大小受到導(dǎo)體材料、導(dǎo)體長(zhǎng)度、導(dǎo)體橫截面積等因素的影響。電阻產(chǎn)生的原因主要有兩個(gè)方面: 1.導(dǎo)體內(nèi)部的原子相互作。
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