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通過(guò)數(shù)顯儀表與溫感器的連接來(lái)控制溫度,采用熱風(fēng)循環(huán)送風(fēng)方式,熱風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)分為水平式和垂直式。均經(jīng)精確計(jì)算,風(fēng)源是由送風(fēng)馬達(dá)運(yùn)轉(zhuǎn)帶動(dòng)風(fēng)輪經(jīng)由電熱器,將熱風(fēng)送至風(fēng)道后進(jìn)入烘箱工作室,且將使用后的空氣吸入風(fēng)道成為風(fēng)源再度循環(huán)加熱運(yùn)用,如此可有效提高溫度均勻性。如箱門使用中被開關(guān),可借此送風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)迅速恢復(fù)操作狀態(tài)溫度值。工業(yè)烤箱的熱風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)由送風(fēng)馬達(dá)、風(fēng)輪和電熱器組成,送風(fēng)馬達(dá)帶動(dòng)風(fēng)輪送出冷風(fēng),冷風(fēng)經(jīng)過(guò)電熱設(shè)備加熱攜帶熱能后經(jīng)風(fēng)道進(jìn)入工業(yè)烤箱的烘箱工作室。合肥真萍與您分享工業(yè)烤箱發(fā)揮的重要作用。無(wú)塵工業(yè)烤箱電烘箱接線.
下面為大家簡(jiǎn)單介紹一下六腔體無(wú)塵烤箱產(chǎn)品介紹:本產(chǎn)品是參照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技術(shù)條件及中國(guó)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)研究制造,廣泛應(yīng)用于電子液晶顯示,LCD,CMOS,IC,醫(yī)藥實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。技術(shù)指標(biāo):1無(wú)塵等級(jí):Class100:(符合FED-STD209E標(biāo)準(zhǔn):0.3um≤300個(gè)0.5≤100個(gè))2溫度范圍:+60℃~+250℃(極限溫度350℃)3溫度均勻性:±2℃(空箱測(cè)試)4溫度精確度:±1℃(空箱測(cè)試)5設(shè)備型號(hào)規(guī)格:450*450*450;450*600*450;600*800*600;600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;無(wú)塵工業(yè)烤箱電烘箱接線.合肥真萍與您分享工業(yè)烤箱對(duì)如今市場(chǎng)的影響。
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。  增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
石墨盤烤盤爐
一.產(chǎn)品介紹
真空烤盤爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體,爐內(nèi)抽真空,被處理工件放置在爐膛內(nèi),采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進(jìn)行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂層石墨盤或石英盤)上的氮化鎵和氮化鋁等,可達(dá)到有效清潔處理,提高制品質(zhì)量的目的。
二、設(shè)計(jì)特點(diǎn)
1、后門設(shè)計(jì)熱風(fēng)電機(jī)
2、降溫時(shí)風(fēng)機(jī)開啟,同時(shí)兩端降溫封頭開啟,爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向
3、通過(guò)氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進(jìn)行熱交換,達(dá)到快速降溫的目的
三、技術(shù)指標(biāo)
1、使用溫度:1450℃;比較高溫度:1500℃;
2、絕熱材料:石墨纖維毯、石墨紙;
4、加熱元件:石墨加熱棒;
5、冷卻方式:氣冷 + 循環(huán)風(fēng)冷降溫;
6、控溫穩(wěn)定度:±2℃,具有PID參數(shù)自整定功能;
7、爐膛溫度均勻度:±5℃(恒溫1500℃);
8、氣氛: 可向爐膛內(nèi)通入干燥、潔凈、無(wú)油的高純度氮?dú)?純度≥99.999%;
9、極限真空: 10-3torr級(jí);
10、抽氣速率:空載下,30min達(dá)到10-2torr
11、升溫功率:170kW;
12、升溫速率:15℃/min(空載);
13、降溫速率:1450℃至80℃,240分鐘
14、腔體尺寸:1000*1000*1000mm(寬*深*高) 工業(yè)烤箱使用時(shí)的注意事項(xiàng)。
工業(yè)烤箱為內(nèi)外雙層結(jié)構(gòu),殼體為角鋼薄鋼板,內(nèi)外雙層殼體之間填充有纖維物質(zhì)。工業(yè)烤箱使用的纖維物質(zhì)多為硅酸鋁,它能起到保溫的作用,形成可靠的保溫層。工業(yè)烤箱配置有熱風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)及溫度測(cè)量與控制系統(tǒng)。工業(yè)烤箱在工作時(shí),操作人員通過(guò)儀表和感溫器來(lái)獲得工業(yè)烤箱內(nèi)部的溫度值,在通過(guò)控制系統(tǒng)進(jìn)行操作。工業(yè)烤箱的熱風(fēng)循環(huán)加熱方式,與普通的散熱加熱方式相比,有著更好的氣體流動(dòng)性,能加快工業(yè)烤箱內(nèi)物料的干燥速度。業(yè)烤箱配置有熱風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)及溫度測(cè)量與控制系統(tǒng)。使用工業(yè)烤箱前的檢查步驟。無(wú)塵工業(yè)烤箱電烘箱接線.
工業(yè)烤箱的基本結(jié)構(gòu)級(jí)應(yīng)用!無(wú)塵工業(yè)烤箱電烘箱接線.
用途介紹:無(wú)氧干燥箱應(yīng)用于航空、航天、石油、化工、、船舶、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位,主要作BPO膠/PI膠/BCB膠固化,模壓固烤、IC(晶圓、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指紋識(shí)別)、FPD、高精密電子元件、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干,電工產(chǎn)品、材料、零備件等的高溫潔凈和無(wú)氧環(huán)境中干燥和老化試驗(yàn)。1、技術(shù)指標(biāo)與基本配置:1.1使用溫度:RT~260℃,極限溫度:300℃;1.2爐膛腔數(shù):2個(gè),上下布置;1.3爐膛材料:SUS304鏡面不銹鋼;加熱元件:不銹鋼加熱器;熱偶:K分度1.4溫度和氧含量記錄:無(wú)紙記錄儀;2、氧含量(配氧分析儀):2.1高溫狀態(tài)氧含量:≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態(tài)氧含量:≤20ppm+氣源氧含量2.2控溫穩(wěn)定度:±1℃;2.3溫度均勻度:±2%℃(260℃平臺(tái));無(wú)塵工業(yè)烤箱電烘箱接線.