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真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問題，解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜的過濾系統(tǒng)。1.EBM電子式EC馬達控制無塵室FFU。2.鏡面不銹鋼結構體。3.特殊導流風道設計，風壓平均，可有效提供風量，降低噪音。4.電路板控制模塊，提供安全保護裝置，運轉異常指示燈及控制干接點輸出。5.無段式風量調(diào)速器可任意調(diào)整風量大小。6.濾網(wǎng)ULPA，0.12μm，99.9995%以上的過濾效果。7.電力規(guī)格：單相220V50Hz0.95A，輸出功率150W。如何挑選網(wǎng)帶爐，敬請來電咨詢真萍科技！寧波干燥網(wǎng)帶爐批發(fā)

真萍科技潔凈烘箱是參照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技術條件及中國相關標準研究制造，廣泛應用于電子液晶顯示，LCD,CMOS,IC，醫(yī)藥實驗室等生產(chǎn)及科研部門。下面為大家介紹一下潔凈烘箱的的測控系統(tǒng)和控制系統(tǒng)。一、測控系統(tǒng)1.溫度控制裝置：日本進口溫控器，內(nèi)置PID自動整定，斜率設定功能2.溫度控制方式為SSR固態(tài)繼電器功率調(diào)整輸出，溫度采集探頭為特制鎧裝K型熱電偶3.溫度監(jiān)控裝置：采用日本六通道巡回檢測有紙記錄儀，可將烤箱內(nèi)實時環(huán)境溫度進行檢測打印。二、控制系統(tǒng)1.操作控制系統(tǒng)，采用精密電子儀器儀表結合電力拖動系統(tǒng)控制，更快速，更穩(wěn)定。2.防護措施：緊急停止，超溫保護,斷線報警，相序保護，過載保護，短路保護，漏電保護，及電磁門禁保護等。浙江烘銀網(wǎng)帶爐專賣網(wǎng)帶爐哪個性價比高？合肥真萍科技告訴您。

精密鼓風烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業(yè)對溫度均勻性要求比較嚴格的實驗。下面為大家介紹一下真萍科技精密鼓風烤箱的箱體結構。1.本設備由室體、加熱系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、送風系統(tǒng)、保護系統(tǒng)等組成。2.箱體采用先進設備制作、業(yè)內(nèi)優(yōu)良工藝制造流程、線條流暢，美觀大方。3.工作室材質為不銹鋼SUS304材質，外箱材質為優(yōu)良冷軋鋼板，產(chǎn)品外殼采用環(huán)保金屬漆噴制，整體設計美觀大方，適合實驗室的顏色搭配。4.工作室內(nèi)擱架可隨用戶的要求任意調(diào)節(jié)高度以及擱架的數(shù)量。5.工作室與外箱之間的保溫材料為優(yōu)良超細玻璃纖維保溫棉，保溫層厚度：＞70mm,隔溫效果好，高性能的絕緣結構。從里到外有內(nèi)腔、內(nèi)殼、超細玻璃纖維、鋁制反射鋁箔片、空氣夾層，內(nèi)膽熱量損失少。內(nèi)膽外箱及門膽結構獨特，極大減少了內(nèi)腔熱量的外傳。

超高真空烘箱被廣泛應用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環(huán)境適應性與可靠性試驗。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的降溫速率。1.升溫時間：①常壓時：90min（常溫～+260℃）②低氣壓0.0001pa時：180min（常溫～+260℃）2.降溫時間：3℃～10℃/min（260℃～120℃）,1℃～5℃/min（120℃～常溫℃）3.降溫方式：水冷降溫4.試驗箱承壓方式：采用內(nèi)承壓方式5.壓力范圍：常壓～0.0001Pa網(wǎng)帶爐的結構如何組成？

隧道爐適用于五金模具、航天航空、納米材料、精密陶瓷、粉末治金、鐵氟龍噴涂、五金、鋰電池、化工、運動器材、汽車零配件、電機、化工、工業(yè)之烘烤、干燥、預熱回火、退火、老化等的加工制作。下面為大家介紹一下真萍科技隧道爐的產(chǎn)品特點。1.雙邊配有鏈條傳動，解決傳送過程中跑偏的現(xiàn)象；2.烘箱分段式加熱，單獨的電箱控制，方便操作。結構主要由輸送機系統(tǒng)與烘干爐兩大部分組成，多段單獨的；3.PID溫度控制，爐內(nèi)溫度均勻；4.輸送速度變頻調(diào)速，調(diào)節(jié)自如，運行平穩(wěn)，產(chǎn)能高；5.每段單獨的箱體設置廢氣排放接口，可外接到車間外面，避免車間廢氣污染。歡迎致電合肥真萍科技咨詢網(wǎng)帶爐相關知識。浙江烘銀網(wǎng)帶爐專賣

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本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預處理系統(tǒng)的必要性：在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。寧波干燥網(wǎng)帶爐批發(fā)