臺(tái)州氣氛爐推薦廠家

無(wú)氧干燥箱應(yīng)用于航空、航天、石油、化工、船舶、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位，主要作BPO膠/PI膠/BCB膠固化，模壓固烤、IC（晶圓、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指紋識(shí)別）、FPD、高精密電子元件、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干，電工產(chǎn)品、材料、零備件等的高溫潔凈和無(wú)氧環(huán)境中干燥和老化試驗(yàn)。下面為大家簡(jiǎn)單介紹一下無(wú)氧干燥箱。1.技術(shù)指標(biāo)與基本配置：1.1使用溫度：RT～260℃，極限溫度：300℃；1.2爐膛腔數(shù):2個(gè),上下布置；1.3爐膛材料：SUS304鏡面不銹鋼；加熱元件：不銹鋼加熱器；熱偶：K分度1.4溫度和氧含量記錄:無(wú)紙記錄儀；2.氧含量（配氧分析儀）：2.1高溫狀態(tài)氧含量：≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態(tài)氧含量：≤20ppm+氣源氧含量2.2控溫穩(wěn)定度：1℃；2.3溫度均勻度：2%℃（260℃平臺(tái)）；氣氛爐的制作方法難嗎？合肥真萍科技告訴您。臺(tái)州氣氛爐推薦廠家

下面為大家介紹一下高溫鐘罩爐的結(jié)構(gòu)系統(tǒng)。一、爐體配置爐膛結(jié)構(gòu)：采用多晶莫來(lái)石材料砌筑而成有效尺寸：φ300×320mm（D×H）設(shè)備重量：約1200Kg外觀顏色：掛板采用高溫噴塑，顏色為江淮藍(lán)外形尺寸：W1300×H2200×D1510(mm)，不含(囪、指示燈）二、熱工系統(tǒng)1.額定溫度：1550℃2.限制溫度：1600℃3.加熱元件：U型硅鉬棒4.加熱功率：16kW5.空爐保溫功率≤8kW6.溫區(qū)個(gè)數(shù)：1個(gè)7.控溫點(diǎn)數(shù)：1點(diǎn)8.熱偶:B分度9.程序**精度：±2℃（大于600℃,升溫速率≤3℃/min）10.控溫穩(wěn)定度：±1℃(恒溫平臺(tái))11.爐膛溫度均勻度：±4℃（恒溫1500℃,2h）鎮(zhèn)江氣氛爐報(bào)價(jià)如有需要各種氣氛爐，歡迎致電合肥真萍科技咨詢。

中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類(lèi)似產(chǎn)品的高溫?zé)Y(jié)、熱處理，下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統(tǒng)配置。一、冷卻系統(tǒng)1.冷卻結(jié)構(gòu)無(wú)2.產(chǎn)品降溫隨爐降溫3.安全保護(hù)4.報(bào)警指示超溫、斷偶、停水、停氣等聲光報(bào)警保護(hù)5.設(shè)備安全升溫速率≤5℃/min二、溫度控制系統(tǒng)1.溫度測(cè)量采用K分度熱偶測(cè)量2.控制儀表采用進(jìn)口智能調(diào)節(jié)儀控制。具有PID參數(shù)自整定、高溫3.上限報(bào)警、熱電偶失效指示等多項(xiàng)報(bào)警保護(hù)功能4.控制方式固態(tài)繼電器過(guò)零控制5.超溫處理⑴.當(dāng)測(cè)量溫度超過(guò)設(shè)定的安全值時(shí)，斷加熱，并報(bào)警。⑵.當(dāng)測(cè)量溫度超過(guò)目標(biāo)溫度達(dá)到安全偏差值時(shí)，報(bào)警。

真萍科技潔凈烘箱是參照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技術(shù)條件及中國(guó)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)研究制造，廣泛應(yīng)用于電子液晶顯示，LCD,CMOS,IC，醫(yī)藥實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。下面為大家介紹一下潔凈烘箱的的測(cè)控系統(tǒng)和控制系統(tǒng)。一、測(cè)控系統(tǒng)1.溫度控制裝置：日本進(jìn)口溫控器，內(nèi)置PID自動(dòng)整定，斜率設(shè)定功能2.溫度控制方式為SSR固態(tài)繼電器功率調(diào)整輸出，溫度采集探頭為特制鎧裝K型熱電偶3.溫度監(jiān)控裝置：采用日本六通道巡回檢測(cè)有紙記錄儀，可將烤箱內(nèi)實(shí)時(shí)環(huán)境溫度進(jìn)行檢測(cè)打印。二、控制系統(tǒng)1.操作控制系統(tǒng)，采用精密電子儀器儀表結(jié)合電力拖動(dòng)系統(tǒng)控制，更快速，更穩(wěn)定。2.防護(hù)措施：緊急停止，超溫保護(hù),斷線報(bào)警，相序保護(hù)，過(guò)載保護(hù)，短路保護(hù)，漏電保護(hù)，及電磁門(mén)禁保護(hù)等。氣氛爐給社會(huì)帶來(lái)了什么好處？

1、可控氣氛爐所使用的液化氣體，是以壓縮液體狀態(tài)儲(chǔ)存于氣瓶?jī)?nèi)的，氣瓶環(huán)境溫度不允許超過(guò)45℃。2、使用時(shí)必須保證液化氣管路的氣密性，以防發(fā)生火災(zāi)和事故。3、由于無(wú)氧化加熱的吸熱式氣體中一氧化碳的含量較高，因此使用時(shí)要特別注意保證室內(nèi)通風(fēng)良好，并經(jīng)常檢查管路的密封。4、當(dāng)爐溫低于760℃或可燃?xì)怏w與空氣達(dá)到一定的混合比時(shí)，就有的可能，為此在啟動(dòng)與停爐時(shí)更應(yīng)注意安全操作，可靠的辦法是在通風(fēng)及停爐前用惰性氣體及非可燃?xì)怏w氮?dú)饣蚨趸即祾郀t膛及爐前室。5、爐芯位置確定要準(zhǔn)確，反應(yīng)箱必須垂直吊放，高度適中，放置端正，兩排箱體之間保持等距，定保爐芯寬度尺寸精確無(wú)誤。反應(yīng)箱四角與端墻縫隙處，用紙?zhí)顚?shí)。合肥真萍與您分享氣氛爐發(fā)揮的重要作用。常州氣氛爐非標(biāo)定制

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本篇介紹專業(yè)全自動(dòng)HMDS真空烤箱，首先簡(jiǎn)單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。臺(tái)州氣氛爐推薦廠家