本篇介紹專業(yè)全自動(dòng)HMDS真空烤箱,首先簡(jiǎn)單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。合肥真萍科技網(wǎng)帶爐專業(yè)值得信賴。網(wǎng)帶爐標(biāo)準(zhǔn)
一、熱工系統(tǒng)1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區(qū)個(gè)數(shù)1個(gè)7.控溫點(diǎn)數(shù)2點(diǎn)8.熱偶K分度9.控溫穩(wěn)定度±1℃(恒溫平臺(tái))10.爐膛溫度均勻度±6℃(恒溫800℃,1h)二、冷卻系統(tǒng)1.冷卻結(jié)構(gòu)無(wú)2.產(chǎn)品降溫隨爐降溫3.安全保護(hù)4.報(bào)警指示超溫、斷偶、停水、停氣等聲光報(bào)警保護(hù)5.設(shè)備安全升溫速率≤5℃/min,在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。小型網(wǎng)帶爐保養(yǎng)網(wǎng)帶爐怎樣使用?合肥真萍告訴您。
中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類似產(chǎn)品的高溫?zé)Y(jié)、熱處理,下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統(tǒng)配置。一、熱工系統(tǒng)1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區(qū)個(gè)數(shù)1個(gè)7.控溫點(diǎn)數(shù)2點(diǎn)8.熱偶K分度9.控溫穩(wěn)定度±1℃(恒溫平臺(tái))10.爐膛溫度均勻度±6℃(恒溫800℃,1h)二、氣氛系統(tǒng)1.爐膛氣氛2路氮?dú)猓髁坑?jì)量程為2~20L/min;每路流量可調(diào)節(jié)2.排氣系統(tǒng)在爐膛頂部設(shè)置一個(gè)排氣囪,用于廢氣排放,廢氣3.經(jīng)過水封清洗后進(jìn)入大氣中,減少對(duì)環(huán)境污染4.氧含量配氧含量分析儀分析氧含量:5.高溫狀態(tài)氧含量≤10ppm+氣源氧含量6.低溫狀態(tài)氧含量≤50ppm+氣源氧含量
真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤裰饕獞?yīng)用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞,解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線,解決液晶的受潮問題,解決線路板受潮問題。下面為大家簡(jiǎn)單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤竦倪^濾系統(tǒng)。1.EBM電子式EC馬達(dá)控制無(wú)塵室FFU。2.鏡面不銹鋼結(jié)構(gòu)體。3.特殊導(dǎo)流風(fēng)道設(shè)計(jì),風(fēng)壓平均,可有效提供風(fēng)量,降低噪音。4.電路板控制模塊,提供安全保護(hù)裝置,運(yùn)轉(zhuǎn)異常指示燈及控制干接點(diǎn)輸出。5.無(wú)段式風(fēng)量調(diào)速器可任意調(diào)整風(fēng)量大小。6.濾網(wǎng)ULPA,0.12μm,99.9995%以上的過濾效果。7.電力規(guī)格:?jiǎn)蜗?20V50Hz0.95A,輸出功率150W。真萍科技為您提供定制各種尺寸網(wǎng)帶爐。
超高真空烘箱廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項(xiàng)或同時(shí)作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的降溫速率。1.升溫時(shí)間:①常壓時(shí):90min(常溫~+260℃)②低氣壓0.0001pa時(shí):180min(常溫~+260℃)2.降溫時(shí)間:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常溫℃)3.降溫方式:水冷降溫4.試驗(yàn)箱承壓方式:采用內(nèi)承壓方式5.壓力范圍:常壓~0.0001Pa合肥真萍科技網(wǎng)帶爐誠(chéng)信經(jīng)營(yíng)。燒結(jié)網(wǎng)帶爐標(biāo)準(zhǔn)
網(wǎng)帶爐的功能具體介紹。網(wǎng)帶爐標(biāo)準(zhǔn)
超高真空烘箱被廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位,用于確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項(xiàng)或同時(shí)作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的降溫速率。1.升溫時(shí)間:①常壓時(shí):90min(常溫~+260℃)②低氣壓0.0001pa時(shí):180min(常溫~+260℃)2.降溫時(shí)間:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常溫℃)3.降溫方式:水冷降溫4.試驗(yàn)箱承壓方式:采用內(nèi)承壓方式5.壓力范圍:常壓~0.0001Pa網(wǎng)帶爐標(biāo)準(zhǔn)