顯示屏玻璃隱形切割鉆孔飛秒激光器設(shè)備價(jià)格
康寧大猩猩4玻璃切割鉆孔皮秒激光器隱形切割設(shè)備
上海飛秒激光器藍(lán)寶石玻璃切割鉆孔設(shè)備價(jià)格
上海玻璃和玻璃管鉆孔激光切割設(shè)備價(jià)格
上海飛秒激光器藍(lán)寶石玻璃切割激光鉆孔設(shè)備價(jià)格
上海玻璃管鉆孔激光切割設(shè)備價(jià)格
上海市藍(lán)寶石玻璃切割飛秒激光器鉆孔設(shè)備價(jià)格
玻璃管切割鉆孔激光打孔設(shè)備價(jià)格
藍(lán)寶石玻璃切割鉆孔飛秒激光器打孔價(jià)格
平板玻璃切割鉆孔激光打孔設(shè)備價(jià)格
下面為大家簡單介紹一下溫濕度振動(dòng)三綜合試驗(yàn)箱。
溫濕度振動(dòng)三綜合試驗(yàn)箱廣泛應(yīng)用在對電工電子、家用電器、汽摩配件、化工涂料、航天、航空、石油、化工、電子、通訊、及其它相關(guān)產(chǎn)品零部件及材料進(jìn)行高低溫、恒定、交變濕熱及振動(dòng)沖擊綜合試驗(yàn),并與單一因素作用相比更能真實(shí)地反映電工電子產(chǎn)品在運(yùn)輸和實(shí)際使用過程中對溫濕度及振動(dòng)復(fù)合環(huán)境變化的適應(yīng)性,暴露產(chǎn)品的缺點(diǎn),是新產(chǎn)品研制、樣機(jī)試驗(yàn)、產(chǎn)品合格鑒定試驗(yàn)全過程必不可少的重要試驗(yàn)手段。
三綜合試驗(yàn)是指綜合溫度、濕度、振動(dòng)三個(gè)環(huán)境應(yīng)力的試驗(yàn),具有極寬大的溫濕度控制范圍,可滿足用戶的各種需要采用獨(dú)特的平衡調(diào)溫調(diào)濕方式,可獲得安全、精確的溫濕度環(huán)境。同時(shí)可在三綜合試驗(yàn)箱內(nèi)將電振動(dòng)應(yīng)力按規(guī)定的周期施加到試品上,供用戶對整機(jī)(或部件)、電器、儀器、材料等作溫濕度、振動(dòng)綜合應(yīng)力篩選試驗(yàn),以便考核試品的適應(yīng)性或?qū)υ嚻返男袨樽鞒鲈u(píng)價(jià)。 工業(yè)烤箱的功能具體介紹。淮安工業(yè)烤箱報(bào)價(jià)
冷熱沖擊試驗(yàn)箱具有模擬大氣環(huán)境中溫度變化規(guī)律。主要針對于電工,電子產(chǎn)品,以及其元器件及其它材料在高溫,低溫綜合環(huán)境下運(yùn)輸,使用時(shí)的適應(yīng)性試驗(yàn)。用于產(chǎn)品設(shè)計(jì),改進(jìn),鑒定及檢驗(yàn)等環(huán)節(jié)。真萍科技作為冷熱沖擊試驗(yàn)箱設(shè)備制造廠商,在冷熱沖擊試驗(yàn)箱設(shè)備制造領(lǐng)域的專業(yè)性是不用多說的。下面讓真萍科技從溫度方面,帶您了解冷熱沖擊試驗(yàn)箱。一、溫度波動(dòng)度這個(gè)指標(biāo)也有叫溫度穩(wěn)定度,控制溫度穩(wěn)定后,在給定任意時(shí)間間隔內(nèi),工作空間內(nèi)任一點(diǎn)的較高和較低溫度之差。這里有個(gè)小小的區(qū)別“工作空間”并不是“工作室”,是大約工作室去掉離箱壁各自邊長的1/10的一個(gè)空間。這個(gè)指標(biāo)考核產(chǎn)品的控制技術(shù)。二、溫度范圍指產(chǎn)品工作室能耐受和(或)能達(dá)到的極限溫度。通常含有能控制恒定的概念,應(yīng)該是可以相對長時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行的極值。一般溫度范圍包括極限高溫和極限低溫。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為≤1℃或±0.5℃。三、溫度均勻度舊標(biāo)準(zhǔn)稱均勻度,新標(biāo)準(zhǔn)稱梯度。溫度穩(wěn)定后,在任意時(shí)間間隔內(nèi),工作空間內(nèi)任意兩點(diǎn)的溫度平均值之差的較大值。這個(gè)指標(biāo)比下面的溫度偏差指標(biāo)更可以考核產(chǎn)品的**技術(shù),因此好多公司的樣本及方案刻意隱藏此項(xiàng)。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為≤2℃?;幢惫I(yè)烤箱生產(chǎn)廠家工業(yè)烤箱的結(jié)構(gòu)如何組成?
溫濕度振動(dòng)三綜合試驗(yàn)箱簡介:廣泛應(yīng)用在對電工電子、家用電器、汽摩配件、化工涂料、航天、航空、石油、化工、電子、通訊、及其它相關(guān)產(chǎn)品零部件及材料進(jìn)行高低溫、恒定、交變濕熱及振動(dòng)沖擊綜合試驗(yàn),并與單一因素作用相比更能真實(shí)地反映電工電子產(chǎn)品在運(yùn)輸和實(shí)際使用過程中對溫濕度及振動(dòng)復(fù)合環(huán)境變化的適應(yīng)性,暴露產(chǎn)品的缺點(diǎn),是新產(chǎn)品研制、樣機(jī)試驗(yàn)、產(chǎn)品合格鑒定試驗(yàn)全過程必不可少的重要試驗(yàn)手段。
三綜合試驗(yàn)是指綜合溫度、濕度、振動(dòng)三個(gè)環(huán)境應(yīng)力的試驗(yàn),具有極寬大的溫濕度控制范圍,可滿足用戶的各種需要采用獨(dú)特的平衡調(diào)溫調(diào)濕方式,可獲得安全、精確的溫濕度環(huán)境。同時(shí)可在三綜合試驗(yàn)箱內(nèi)將電振動(dòng)應(yīng)力按規(guī)定的周期施加到試品上,供用戶對整機(jī)(或部件)、電器、儀器、材料等作溫濕度、振動(dòng)綜合應(yīng)力篩選試驗(yàn)。
特點(diǎn):1.試驗(yàn)室與制冷系統(tǒng)整體組合式結(jié)構(gòu),緊湊美觀,便于操作制冷壓縮機(jī)組及主要配件均為口。
2.進(jìn)口LCD彩色液晶觸摸屏,溫、濕度程序自動(dòng)控制,配有RS232通訊接口
3.可根據(jù)用戶要求選配不同制造商不同型號(hào)的振動(dòng)臺(tái),振動(dòng)臺(tái)接口接口可有多種形式選用,保證冷、熱、汽密封的同時(shí),振動(dòng)臺(tái)具有良好的力學(xué)傳遞性。
4.可根據(jù)用戶要求設(shè)計(jì)、制造不同規(guī)格
下面為大家介紹一下高溫?zé)o氧固化烘箱。無氧干燥箱應(yīng)用于航空、航天、石油、化工、、船舶、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位,主要作BPO膠/PI膠/BCB膠固化,模壓固烤、IC(晶圓、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指紋識(shí)別)、FPD、高精密電子元件、電子陶瓷材料無塵烘干,電工產(chǎn)品、材料、零備件等的高溫潔凈和無氧環(huán)境中干燥和老化試驗(yàn)。1、技術(shù)指標(biāo)與基本配置:1.1使用溫度:RT~260℃,極限溫度:300℃;1.2爐膛腔數(shù):2個(gè),上下布置;1.3爐膛材料:SUS304鏡面不銹鋼;加熱元件:不銹鋼加熱器;熱偶:K分度1.4溫度和氧含量記錄:無紙記錄儀;2、氧含量(配氧分析儀):2.1高溫狀態(tài)氧含量:≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態(tài)氧含量:≤20ppm+氣源氧含量2.2控溫穩(wěn)定度:±1℃;2.3溫度均勻度:±2%℃(260℃平臺(tái));工業(yè)烤箱在社會(huì)上的重要性。
下面為大家介紹一下石墨盤烤盤爐一.產(chǎn)品介紹真空烤盤爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體,爐內(nèi)抽真空,被處理工件放置在爐膛內(nèi),采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進(jìn)行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂層石墨盤或石英盤)上的氮化鎵和氮化鋁等,可達(dá)到有效清潔處理,提高制品質(zhì)量的目的。二、設(shè)計(jì)特點(diǎn)1、后門設(shè)計(jì)熱風(fēng)電機(jī)2、降溫時(shí)風(fēng)機(jī)開啟,同時(shí)兩端降溫封頭開啟,爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向3、通過氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進(jìn)行熱交換,達(dá)到快速降溫的目的三、技術(shù)指標(biāo)1、使用溫度:1450℃;比較高溫度:1500℃;2、絕熱材料:石墨纖維毯、石墨紙;4、加熱元件:石墨加熱棒;5、冷卻方式:氣冷+循環(huán)風(fēng)冷降溫;6、控溫穩(wěn)定度:±2℃,具有PID參數(shù)自整定功能;7、爐膛溫度均勻度:±5℃(恒溫1500℃);8、氣氛:可向爐膛內(nèi)通入干燥、潔凈、無油的高純度氮?dú)?純度≥99.999%;9、極限真空:10-3torr級(jí);10、抽氣速率:空載下,30min達(dá)到10-2torr11、升溫功率:170kW;12、升溫速率:15℃/min(空載);13、降溫速率:1450℃至80℃,240分鐘14、腔體尺寸:1000*1000*1000mm(寬*深*高)合肥真萍向您介紹工業(yè)烤箱的好處?;窗哺邷毓I(yè)烤箱
工業(yè)烤箱可以去哪里購買?淮安工業(yè)烤箱報(bào)價(jià)
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。  增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用?;窗补I(yè)烤箱報(bào)價(jià)