光刻膠是集成電路領域微加工的關鍵性材料，為推動光刻膠等半導體材料行業(yè)的發(fā)展，近年來，我國發(fā)布了多項利好政策支持光刻膠產業(yè)發(fā)展，同時國內企業(yè)也積極研發(fā)產品，主動尋求光刻膠及其他材料國產化。現(xiàn)階段，我國光刻膠企業(yè)有晶瑞電材、彤程新材、華懋科技、南大光電等，在國產替代大契機下，國內光刻膠企業(yè)將迎來發(fā)展良機。國內產業(yè)鏈下游企業(yè)逐漸意識到材料國產化的重要性，國內廠商也在積極研發(fā)產品、加速客戶和產品導入、擴建相關產能，在探索中砥礪前行，從而抓住國產化的契機。目前已有少數(shù)企業(yè)已開始嶄露頭角，實現(xiàn)從0到1的突破。光刻膠發(fā)展至今已有百年歷史，現(xiàn)已用于集成電路、顯示、PCB 等領域，是光刻工藝的重要材料。普陀TFT-LCD正性光刻膠印刷電路板
光刻膠的產業(yè)鏈中游：為光刻膠制造環(huán)節(jié)，當前全球光刻膠生產制造商主要被日本JSR、信越化學、住友化學、東京應化、美國陶氏化學等制造商所壟斷，中國本土企業(yè)在光刻膠市場的份額較低，與國外光刻膠制造商相比仍存明顯差距。
光刻膠的產業(yè)鏈下游：主要涉及半導體、平板顯示器、PCB等領域。伴隨消費升級、應用終端產品更新迭代速度加快，下游應用領域企業(yè)對半導體、平板顯示和PCB制造提出愈加精細化的要求，將帶動光刻膠行業(yè)持續(xù)發(fā)展。 昆山負性光刻膠顯影經過多年技術積累，國內已形成一定光刻膠用電子化學品產能，國內公司市場份額逐步提升，國產替代正在進行。
從90年代后半期開始，光刻光源就開始采用248nm的KrF激光；而從2000年代開始，光刻就進一步轉向使用193nm波長的ArF準分子激光作為光源。在那之后一直到目前的約20年里，193nm波長的ArF準分子激光一直是半導體制程領域性能可靠，使用較多的光刻光源。一般而言，KrF（248nm）光刻膠使用聚對羥基苯乙烯及其衍生物作為成膜樹脂，使用磺酸碘鎓鹽和硫鎓鹽作為光致酸劑；而ArF（193nm）光刻膠則多使用聚甲基丙烯酸酯衍生物，環(huán)烯烴-馬來酸酐共聚物，環(huán)形聚合物等作為成膜樹脂；由于化學結構上的原因，Arf(193nm)光刻膠需要比KrF（248nm）光刻膠更加敏感的光致酸劑。
浸沒光刻：在與浸沒光刻相對的干法光刻中，光刻透鏡與光刻膠之間是空氣。光刻膠直接吸收光源發(fā)出的紫外輻射并發(fā)生光化學反應。在浸沒光刻中，光刻鏡頭與光刻膠之間是特定液體。這些液體可以是純水也可以是別的化合物液體。光刻光源發(fā)出的輻射經過這些液體的時候發(fā)生了折射，波長變短。這樣，在不改變光源的前提條件下，更短波長的紫外光被投影光刻膠上，提高了光刻加工的分辨率。雙重光刻：雙重光刻的意思是通過兩次光刻使得加工分辨率翻倍。實現(xiàn)這個目的的一種方法是在開始光刻過后平移同一個光罩進行第二次光刻，以提高加工分辨率。下圖右展示了這樣一個過程。下圖右中雙重光刻子進行了兩次涂膠，兩次光刻和兩次刻蝕。隨著光刻膠技術的進步，只需要一次涂膠，兩次光刻和一次刻蝕的雙重光刻工藝也成為可能。彩色光刻膠及黑色光刻膠市場也呈現(xiàn)日韓企業(yè)主導的格局，國內企業(yè)有雅克科技、飛凱材料、彤程新材等。
按顯示效果分類；光刻膠可分為正性光刻膠和負性光刻膠。負性光刻膠顯影時形成的圖形與光罩（掩膜版）相反；正性光刻膠形成的圖形與掩膜版相同。兩者的生產工藝流程基本一致，區(qū)別在于主要原材料不同。
按照化學結構分類；光刻膠可以分為光聚合型，光分解型，光交聯(lián)型和化學放大型。光聚合型光刻膠采用烯類單體，在光作用下生成自由基，進一步引發(fā)單體聚合，生成聚合物；光分解型光刻膠，采用含有重氮醌類化合物(DQN)材料作為感光劑，其經光照后,發(fā)生光分解反應，可以制成正性光刻膠；光交聯(lián)型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料，在光的作用下，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結構，而起到抗蝕作用，可以制成負性光刻膠。 光刻膠的組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。浙江半導體光刻膠顯影
金屬氧化物光刻膠使用金屬離子及有機配體構建其主體結構，借助光敏基團實現(xiàn)光刻膠所需的性能。普陀TFT-LCD正性光刻膠印刷電路板
包括光刻膠在內的微電子化學品有技術要求高、功能性強、產品更新快等特點，其產品品質對下游電子產品的質量和效率有非常大的影響。因此，下游企業(yè)對微電子化學品供應商的質量和供貨能力十分重視，常采用認證采購的模式，需要通過送樣檢驗、技術研討、信息回饋、技術改進、小批試做、大批量供貨、售后服務評價等嚴格的篩選流程。認證時間久，要求嚴苛；一般產品得到下游客戶的認證需要較長的時間周期。顯示面板行業(yè)通常為1-2年，集成電路行業(yè)由于要求較高，認證周期能達到2-3年時間；認證階段內，光刻膠供應商沒有該客戶的收入，這需要供應收有足夠的資金實力。光刻膠供應商與客戶粘性大；一般情況下，為了保持光刻膠供應和效果的穩(wěn)定，下游客戶與光刻膠供應商一旦建立供應關系后，不會輕易更換。通過建立反饋機制，滿足個性化需求，光刻膠供應商與客戶的粘性不斷增加。后來者想要加入到供應商行列，往往需要滿足比現(xiàn)有供應商更高的要求。所以光刻膠行業(yè)對新進入者壁壘較高。普陀TFT-LCD正性光刻膠印刷電路板
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