維度光電自研光斑分析儀優(yōu)勢

維度光電-BeamHere光斑分析儀通過測量光束質量參數，為激光技術在多領域的高效應用提供支撐。工業(yè)加工中，其亞微米級光斑校準能力幫助優(yōu)化切割、焊接與打標工藝，確保光束輪廓一致性，保障加工質量。醫(yī)療領域用于眼科準分子激光手術設備校準，實時監(jiān)測光束能量分布，確保手術安全性?？蒲袌鼍爸兄С制っ爰壝}沖激光測量，為物理與材料提供高精度數據，推動新型激光器件。光通信領域可實現光纖端面光斑形態(tài)分析，保障光信號傳輸穩(wěn)定性。農業(yè)與生命中，通過分析激光誘變育種光束參數，優(yōu)化植物生長調控效率。全系產品覆蓋200-2600nm寬光譜，支持千萬級功率測量，結合M2因子測試模塊與AI分析軟件，為各行業(yè)提供從光斑形態(tài)到傳播特性的全鏈路檢測方案，助力客戶提升產品性能與生產效率。多光斑光束質量測量系統。維度光電自研光斑分析儀優(yōu)勢

Dimension-Labs 推出 Beamhere 光束質量分析系統，針對激光加工、醫(yī)療設備等領域的光束質量評估需求。該系列產品通過多維度檢測模塊，可對光束能量分布進行實時可視化分析，同步獲取發(fā)散角、M2 因子等參數。支持光束整形效果驗證、聚焦光斑優(yōu)化及準直系統校準三大典型應用場景，所有測試結果均符合 ISO11146 標準。可選配的 M2 測試模塊可實現光束傳播特性的全程分析，終由軟件自動生成量化評估報告。 產品優(yōu)勢： 滿足測試需求的全系列產品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。脈沖激光光斑分析儀光斑測試國產的 M2 因子測量模塊哪家強？

維度光電提供光束質量測量解決方案，適用于工業(yè)、醫(yī)療、科研等多個領域。在工業(yè)制造中，用于激光切割和焊接的狹縫式分析儀能實時監(jiān)測激光束能量分布，優(yōu)化加工精度；半導體加工中，超高分辨率檢測技術支持晶圓劃片工藝優(yōu)化。醫(yī)療健康方面，相機式分析儀用于眼科手術中激光參數優(yōu)化，保障手術安全；M2因子模塊用于醫(yī)療激光設備校準。領域，雙技術組合用于解析飛秒激光特性，支持非線性光學。光通信領域，相機式分析儀優(yōu)化光器件耦合效率，狹縫式分析儀確保激光器性能一致性。新興領域如光鑷系統和激光育種也受益于該方案。方案特點包括全場景適配、智能分析軟件和模塊化擴展，以滿足不同需求和長期升級。

維度光電Dimension-Labs BeamHere 系列作為全光譜光束分析解決方案，致力于為激光技術應用提供 "一站式" 質量管控工具。產品矩陣覆蓋 190-2700nm 超寬光譜，融合掃描狹縫式（2.5μm-10mm 光斑）與相機式（400-1700nm 成像）兩大技術平臺，形成從亞微米級高功率檢測到毫米級動態(tài)監(jiān)測的立體覆蓋。通過 ISO 11146 認證的 M2 因子測試模塊，結合 AI 算法，實現光束質量的量化評估與預測。模塊化設計支持設備功能動態(tài)擴展，適配激光加工、醫(yī)療、科研等多場景需求，助力客戶構建智能化光束檢測體系。如何評判激光質量的好壞？

Dimension-Labs 推出的相機式光斑分析儀系列包含兩個型號，覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍，實現可見光與近紅外波段光斑的實時顯示與分析。其優(yōu)勢如下： 寬光譜覆蓋與動態(tài)分析 單臺設備即可滿足 400-1700nm 全波段測量需求，支持 2D 光斑實時成像與 3D 功率分布動態(tài)分析。高幀率連續(xù)測量模式下，可實時捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖，為光學系統調試、動態(tài)測試及時間監(jiān)控提供直觀數據支持。 復雜光斑適應性 基于面陣傳感器的成像原理，可測量非高斯分布光束（如平頂、貝塞爾光束）及含高階橫模的復雜光斑，突破傳統掃描式設備的局限性。 功率調節(jié)系統 標配 6 片不同衰減率的濾光片，通過獨特的轉輪結構實現功率范圍擴展，可測功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設計簡化操作流程，兼顧寬量程與高精度需求。 科研級功能拓展 采用模塊化可拆卸設計，光斑分析相機與濾光片轉輪可分離使用。拆卸后的相機兼容通用驅動軟件，支持科研成像、光譜分析等擴展應用，實現工業(yè)檢測與實驗室的一機多用。掃描和狹縫光斑分析儀怎么選？Dimension-labs光斑分析儀原廠

用于準直器生產的光斑質量分析儀。維度光電自研光斑分析儀優(yōu)勢

維度光電光束質量測量解決方案基于兩大技術平臺： 掃描狹縫式系統：采用正交狹縫轉動輪結構，通過 ±90° 旋轉實現 XY 軸同步掃描，結合刀口 / 狹縫雙模式切換，突破亞微米級光斑檢測極限。光學系統集成高靈敏度光電探測器，配合高斯擬合算法，實現 0.1μm 分辨率與 ±0.8% 測量重復性。 相機式成像系統：搭載背照式 CMOS 傳感器（量子效率 95%@500-1000nm），結合非球面透鏡組消除畸變，支持皮秒級觸發(fā)同步與全局快門技術，捕捉單脈沖光斑形態(tài)。算法通過二階矩法計算 M2 因子，測量精度達 ±0.3%。 創(chuàng)新突破： 狹縫物理衰減機制實現 10W 級激光直接測量 面陣傳感器動態(tài)范圍擴展技術支持 1μW-1W 寬功率檢測 AI 缺陷診斷模型自動識別光斑異常（率 97.2%）維度光電自研光斑分析儀優(yōu)勢