光斑分析儀測量

Dimension-Labs 針對高功率激光檢測難題推出 BeamHere 大功率光束取樣系統(tǒng)，突破傳統(tǒng)面陣傳感器在 10μW/cm2 飽和閾值的限制，通過創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制實(shí)現(xiàn) 10W 級激光直接測量，配合可疊加的單次（DL-LBA-1）與雙次（DL-LBA-2）取樣配件形成多級衰減方案，衰減達(dá) 10??，可測功率超 1000W。該系統(tǒng)采用 45° 傾斜設(shè)計的單次取樣配件支持 4%-5% 取樣率，雙次配件內(nèi)置雙片透鏡實(shí)現(xiàn) 0.16%-0.25% 取樣率，均配備 C 口通用接口和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu)，支持任意角度入射光束檢測。其優(yōu)化設(shè)計的 68mm（單次）和 53mm（雙次）取樣光程確保聚焦光斑完整投射至傳感器，解決傳統(tǒng)外搭光路光程不足問題，緊湊結(jié)構(gòu)減少 70% 空間占用。系統(tǒng)覆蓋 190-2500nm 寬光譜范圍，通過 CE/FCC 認(rèn)證，可在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作，已成功應(yīng)用于工業(yè)激光加工（熱影響區(qū)≤30μm）、科研超快激光（皮秒脈沖分析）及醫(yī)療設(shè)備校準(zhǔn)（能量均勻性誤差＜2%），幫助客戶提升 3 倍檢測效率并降** 30% 檢測成本。發(fā)散較大，怎么測量光束質(zhì)量？光斑分析儀測量

Dimension-Labs 推出 Beamhere 光束質(zhì)量分析系統(tǒng)，針對激光加工、醫(yī)療設(shè)備等領(lǐng)域的光束質(zhì)量評估需求。該系列產(chǎn)品通過多維度檢測模塊，可對光束能量分布進(jìn)行實(shí)時可視化分析，同步獲取發(fā)散角、M2 因子等參數(shù)。支持光束整形效果驗(yàn)證、聚焦光斑優(yōu)化及準(zhǔn)直系統(tǒng)校準(zhǔn)三大典型應(yīng)用場景，所有測試結(jié)果均符合 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)?？蛇x配的 M2 測試模塊可實(shí)現(xiàn)光束傳播特性的全程分析，終由軟件自動生成量化評估報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢： 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。激光加工光斑分析儀價格多少光斑分析儀國產(chǎn)替代都有哪些廠家？

如何使用光斑分析儀 Step 1 準(zhǔn)備設(shè)備 將 BeamHere 光斑分析儀固定在光具座上，調(diào)整高度使激光束中心與 sensor 靶面重合。用 Type-C 線連接分析儀與電腦，打開 BeamHere 軟件等待設(shè)備識別。 Step 2 采集數(shù)據(jù) 開啟激光器預(yù)熱 10 分鐘，點(diǎn)擊軟件 "開始采集" 按鈕。實(shí)時觀察 2D 成像界面，確保光斑無過曝或欠曝，可通過轉(zhuǎn)輪調(diào)節(jié)衰減片至合適狀態(tài)。 Step 3 分析參數(shù) 在 "高級分析" 模塊勾選所需參數(shù)，軟件自動計算光斑尺寸（±0.5μm 精度）、能量均勻性（CV 值）及光束質(zhì)量因子。3D 視圖支持手勢縮放，便于觀察高階橫模分布。 Step 4 驗(yàn)證結(jié)果 切換至 "歷史記錄" 對比多次測量數(shù)據(jù)，使用 "統(tǒng)計分析" 功能生成標(biāo)準(zhǔn)差曲線。若發(fā)現(xiàn)異常，可調(diào)用 "單點(diǎn)測量" 工具檢查特定位置能量值。 Step 5 導(dǎo)出報告 在 "報告模板" 中選擇 "科研版" 或 "工業(yè)版"，自動生成帶水印的 PDF 報告，包含光斑圖像、參數(shù)表格、趨勢圖表及 QC 判定結(jié)果。

Dimension-Labs 維度光電相機(jī)式光斑分析儀系列覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍，實(shí)現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實(shí)時檢測。其優(yōu)勢包括： 動態(tài)分析能力 支持 2D 光斑實(shí)時成像與 3D 功率分布動態(tài)顯示，高幀率（100fps）連續(xù)測量模式可捕捉光斑瞬態(tài)變化，3D 視圖支持任意角度旋轉(zhuǎn)分析，為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器技術(shù)，可測量非高斯光束（如平頂、貝塞爾光束）及含高階橫模的復(fù)雜光斑，突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性。 功率調(diào)節(jié) 標(biāo)配 6 片不同衰減率的濾光片（0.1%-100%），通過轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)一鍵切換，可測功率達(dá) 10W/cm2，滿足從弱光器件到高功率激光的全量程需求。 科研級擴(kuò)展性 采用模塊化設(shè)計，相機(jī)與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用。拆卸后的相機(jī)兼容通用驅(qū)動軟件，支持科研成像、光譜分析等擴(kuò)展應(yīng)用，實(shí)現(xiàn)工業(yè)檢測與實(shí)驗(yàn)室的一機(jī)多用。掃描狹縫光斑分析儀有國產(chǎn)的嗎？

維度光電作為全球激光測量領(lǐng)域解決商，致力于打造 "三橫三縱" 產(chǎn)品矩陣： 橫向覆蓋： 光譜范圍：190-2700nm 全波段 光斑尺寸：0.1μm-10mm 全尺寸 功率等級：1μW-10W 全功率 縱向深度： 工業(yè)級：支持產(chǎn)線在線監(jiān)測與自動化對接 醫(yī)療級：符合 ISO 13485 認(rèn)證，保障臨床精度 科研級：開放 API 接口支持自定義算法 差異化優(yōu)勢： 同時提供雙技術(shù)方案的廠商（狹縫式 + 相機(jī)式） AI 算法庫支持光束質(zhì)量預(yù)測性維護(hù) 模塊化設(shè)計實(shí)現(xiàn)設(shè)備功能動態(tài)擴(kuò)展 適合各類激光應(yīng)用中激光光束質(zhì)量測量與分析。如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光光束的質(zhì)量？大功率光斑分析儀制造商

無干涉條紋的光斑質(zhì)量分析儀。光斑分析儀測量

選擇適合特定應(yīng)用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應(yīng)用場景及功能需求： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米級光斑（如半導(dǎo)體加工）優(yōu)先選擇狹縫式（支持 2.5μm 精度），毫米級光斑（如激光焊接）推薦相機(jī)式（覆蓋 10mm 量程）。 功率等級：高功率激光（如工業(yè)切割）應(yīng)選狹縫式（直接測量近 10W），微瓦級弱光（如科研實(shí)驗(yàn)）可采用相機(jī)式（通過 6 片衰減片適配）。 光束形態(tài)：高斯或規(guī)則光斑兩者均可（狹縫式更經(jīng)濟(jì)），非高斯光束（如貝塞爾光束）需相機(jī)式保留細(xì)節(jié)。 脈沖特性：單脈沖分析選相機(jī)式（觸發(fā)同步），連續(xù)或高頻脈沖適配狹縫式（需匹配掃描頻率）。 2. 應(yīng)用場景適配 工業(yè)制造：高功率加工（>1W）選狹縫式，動態(tài)監(jiān)測與大光斑校準(zhǔn)選相機(jī)式，組合方案可覆蓋全流程需求。 醫(yī)療設(shè)備：眼科準(zhǔn)分子激光需相機(jī)式實(shí)時監(jiān)測能量分布，脈沖激光適配觸發(fā)模式，確保手術(shù)精度。 ：超短脈沖測量、復(fù)雜光束分析（如 M2 因子）依賴相機(jī)式，材料加工優(yōu)化可結(jié)合狹縫式高精度掃描。 光通信：光纖端面檢測選相機(jī)式分析光斑形態(tài)，激光器表征適配狹縫式高靈敏度測量。光斑分析儀測量