四氟化碳亦稱全氟化碳、四氟甲烷、全氟化碳，為非腐蝕性氣體，所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等金屬材料都可以使用，但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫，一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長的次序由小到大地排列則如下：因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀。
四氟化碳一般認為是惰性低毒物質(zhì)，在高濃度下是窒息劑，其毒性不及四氯化碳。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量的等離子燭刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。上海市節(jié)能四氟化碳推薦企業(yè)
運輸成本方面，以林德集團為例，作為全球工業(yè)氣體**，林德在國內(nèi)的空分裝置點有11 個，相比較之下，特種氣體工廠* 2 個?？紤]到林德集團在國內(nèi)的特種氣體工廠較少，因此大量的特種氣體需從海外運輸，而從歐洲、美國運至國內(nèi)耗時約 30 天，運輸費用預計不低于國內(nèi)的長途運輸，運輸成本將更高。隨著國內(nèi)半導體晶圓廠從華東、華較高的運輸和現(xiàn)場維護成本造就本地化配套優(yōu)勢。多品少量是電子特氣的特點，因此相比現(xiàn)場制氣的空分氣體，采用零售方式進體銷售更為普遍，但零售氣體對于國外企業(yè)來講，需要付出更高的運輸和維護成本。上海節(jié)能四氟化碳銷售價格四氟化碳是現(xiàn)階段電子光學制造業(yè)中使用量較大的低溫等離子蝕刻工藝汽體。
四氟化碳和氧氣瓶在高溫下不反映，四氟化碳是現(xiàn)階段電子光學制造業(yè)中使用量較大的低溫等離子蝕刻工藝汽體，其高純度氣及四氟化碳高純度氣配高純氧氣的混合體，可市場應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢塑料薄膜原材料的蝕刻工藝。針對硅和二氧化硅管理體系，選用CF4-H2反映正離子刻蝕時，根據(jù)調(diào)整二種汽體的占比，能夠得到45：1的可選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅塑料薄膜時很有效。不良影響簡述危險因素類型：GB2.2類不燃氣體入侵方式：吸進身心健康傷害：吸進高濃的四氟化碳出現(xiàn)呼吸不暢、嘔吐等室息病癥。
工業(yè)上把常溫常壓下呈氣態(tài)的產(chǎn)品統(tǒng)稱為工業(yè)氣體產(chǎn)品，工業(yè)氣體是現(xiàn)代工業(yè)的基礎(chǔ)原材料，在國民經(jīng)濟中有著重要的地位和作用。根據(jù)制備方式和應用領(lǐng)域的不同，可分為大宗氣體和特種氣體，大宗氣體主要包括氧、氮、氬等空分氣體及乙炔、二氧化碳等合成氣體，對氣體純度要求并不高，主要用于冶金、石化、煤化工、鋼鐵，而特種氣體品種較多，主要包括高純氣體、混合氣體等，主要用于電子、光伏、醫(yī)療等新興領(lǐng)域，制作半導體所用的電子氣體就屬于特種氣體。
與可燃性氣體一起燃燒時，發(fā)生分解，產(chǎn)生的氧化物。
半導體電子特氣行業(yè)具有較高的技術(shù)壁壘。半導體電子特種氣體在生產(chǎn)過程中涉及合成、純化、混合氣配制、充裝、分析檢測、氣瓶處理等多項工藝技術(shù)，每一步均有嚴格的技術(shù)參數(shù)要求和質(zhì)量控制措施。為了保證半導體器件的質(zhì)量與成品率，特種氣體產(chǎn)品要同時滿足“超純”和“超凈”的要求，“超純”要求氣體純度達到 4.5N、5N 甚至 6N、7N（N 是 Nine 的簡寫，幾個 N 就有幾個 9“超凈”即要求嚴格控制粒子與金屬雜質(zhì)的含量。作為特種氣體的參數(shù)，純度每提升一個 N，粒子、金屬雜質(zhì)含量濃度每降低一個數(shù)量級，都將帶來工藝復雜度和難度的提升。 .由碳與氟反應，或一氧化碳與氟反應，或碳化硅與氟反應。無錫優(yōu)良四氟化碳廠家價格
供氟速率和反應爐冷卻控制反應溫度。上海市節(jié)能四氟化碳推薦企業(yè)
四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)，印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。同時，由于四氟化碳的化學穩(wěn)定性，四氟化碳可用于金屬冶煉，例如：銅、不銹鋼，碳鋼、鋁、蒙乃爾等；還可用于塑料行業(yè)；如：合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。上海市節(jié)能四氟化碳推薦企業(yè)