南京拓展科技有限公司2025-04-05
可以采用高精密的環(huán)境控制設(shè)備來對環(huán)境進(jìn)行控制,達(dá)到精密溫控的效果。如蝕刻、涂層、光刻等工藝,這些工藝都需要在特定的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。潔凈室內(nèi)的溫度波動可能會導(dǎo)致晶圓材料的物理性質(zhì)發(fā)生變化,影響生產(chǎn)精度。例如,光刻工藝中,微小的溫度波動會導(dǎo)致曝光位置的漂移,進(jìn)而影響線路的精確度。此外,晶圓在高溫環(huán)境下可能會因?yàn)闊崤蛎浂l(fā)生變形,影響成品率。因此,半導(dǎo)體潔凈室中通常溫度需要嚴(yán)格控制在20°C至25°C范圍內(nèi),且溫度波動不能超過±1°C(部分要求較高的工藝如光刻工藝,溫度波動不能超過±0.1°C)。所以我們可以采用極測(南京)高精密環(huán)境控制設(shè)備,該設(shè)備內(nèi)部通過風(fēng)機(jī)引導(dǎo)氣流以一定的方向循環(huán),控制系統(tǒng)對循環(huán)氣流的每個環(huán)節(jié)進(jìn)行處理,從而使柜內(nèi)的溫濕度達(dá)到超高的控制精度,可達(dá)到±0.002攝氏度。
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