【真空鍍膜設(shè)備的維修及保養(yǎng)方法】1.真空鍍膜設(shè)備每完成200個(gè)鍍膜程序以上，應(yīng)清潔工作室一次。方法：用燒堿（NaOH）飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁，（注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷）目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內(nèi)的污垢。2.當(dāng)粗抽泵（滑閥泵，旋片泵）連續(xù)工作一個(gè)月（雨季減半），需更換新油。方法：擰開(kāi)放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動(dòng)數(shù)秒，使泵內(nèi)的舊油完全排放出來(lái)。擰回放油螺栓，加入新油至額定量（油視鏡觀察）。連續(xù)使用半年以上，換油時(shí)應(yīng)將油蓋打開(kāi)，用布擦干凈箱內(nèi)污垢。3.在重新開(kāi)機(jī)前，要注意檢漏。方法：?jiǎn)?dòng)維持泵，關(guān)好da門(mén)，數(shù)分鐘后，觀察擴(kuò)散泵部分真空度是否達(dá)到6X10帕，否則要進(jìn)行檢漏。檢查聯(lián)接處是否裝密封膠圈，或壓壞密封圈。排除漏氣隱患后方可加熱，否則擴(kuò)散泵油會(huì)燒環(huán)，真空鍍膜設(shè)備無(wú)法進(jìn)入工作狀態(tài)。射頻離子源可用于航空航天領(lǐng)域，如推進(jìn)系統(tǒng)、導(dǎo)航系統(tǒng)等。廣東射頻離子源價(jià)格
【真空鍍膜機(jī)之卷繞機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)中應(yīng)考慮的問(wèn)題】①提高卷繞速度的問(wèn)題。卷繞速度即是帶狀基材運(yùn)動(dòng)的線速度，它是卷繞機(jī)構(gòu)的一個(gè)主要技術(shù)指櫟。國(guó)內(nèi)早期鍍膜機(jī)卷繞速度只有10m/min，現(xiàn)在也只有80m/min～120m/min，在國(guó)外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達(dá)到300m/min，德國(guó)L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機(jī)已達(dá)到600m/min，可見(jiàn)隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展，卷繞速度有待提高。②帶狀基材的線速恒定問(wèn)題。這一問(wèn)題也很重要，因?yàn)橹挥芯砝@機(jī)構(gòu)保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點(diǎn)對(duì)制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。③帶狀基材的跑偏和起褶問(wèn)題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過(guò)程中，起褶和發(fā)生偏斜，嚴(yán)重時(shí)會(huì)造成基材的斷裂，使生產(chǎn)中斷，既影響生產(chǎn)效率，又浪費(fèi)材料。因此，在卷繞機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)中應(yīng)充分考慮這一問(wèn)題。福建離子束刻蝕射頻離子源價(jià)格射頻離子源可用于環(huán)保領(lǐng)域，如廢水處理、空氣凈化等。
【真空鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)檢漏法之真空計(jì)檢漏法】常用的真空計(jì)檢漏法主要是熱傳導(dǎo)真空計(jì)法與電離真空計(jì)法。以熱傳導(dǎo)真空計(jì)法為例，它是利用低壓下不同氣體種類(lèi)的熱傳導(dǎo)能力差異與壓力的關(guān)系來(lái)分析真空系統(tǒng)泄漏情況。使用時(shí)，要保證被檢系統(tǒng)處于一個(gè)壓力不變的動(dòng)態(tài)平衡狀態(tài)，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機(jī)溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會(huì)通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢系統(tǒng)，因?yàn)槭韭怏w的熱傳導(dǎo)能力與原系統(tǒng)的氣體成分差異da，會(huì)引起明顯的熱傳導(dǎo)性質(zhì)變化，熱傳導(dǎo)真空計(jì)的儀表讀數(shù)在原有的平衡基礎(chǔ)上就會(huì)發(fā)生波動(dòng)變化，根據(jù)這些確定漏孔位置并根據(jù)讀數(shù)變化換算漏率da小。相應(yīng)地，電離真空計(jì)法利用的即是示漏氣體進(jìn)入后導(dǎo)致的離子流變化來(lái)進(jìn)行換算。真空系統(tǒng)檢漏中應(yīng)用真空計(jì)檢漏法要考慮示漏氣體種類(lèi)與真空計(jì)的特性的配合，選擇示漏氣體對(duì)應(yīng)的特性差異要明顯有別于原有氣體成分，如熱傳導(dǎo)真空計(jì)的熱傳導(dǎo)能力、電離真空計(jì)的電離電位。其次為便于準(zhǔn)確地觀察前后數(shù)據(jù)變化，要保證被檢前被檢系統(tǒng)壓力處于穩(wěn)定的平衡狀態(tài)，測(cè)量的真空計(jì)規(guī)管也要處于穩(wěn)定的狀態(tài)，防止虛假數(shù)據(jù)誤導(dǎo)。同時(shí)真空計(jì)規(guī)管存在惰性，需要觀察足夠的時(shí)間。
【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理：是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機(jī)械、物理和化學(xué)性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿足產(chǎn)品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是，機(jī)械打磨，化學(xué)處理，表面熱處理，噴涂表面，表面處理就是對(duì)工件表面進(jìn)行清潔、清掃、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面處理的工藝有：真空電鍍、電鍍工藝、陽(yáng)極氧化、電解拋光、移印工藝、鍍鋅工藝、粉末噴涂、水轉(zhuǎn)印、絲網(wǎng)印刷、電泳等。真空鍍膜機(jī)公司的排名。
【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之真空加熱清洗】將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來(lái)達(dá)到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時(shí)間的長(zhǎng)短、加熱溫度、污染物的類(lèi)型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳?xì)浠衔锓肿拥慕馕饔迷鰪?qiáng)。解吸增強(qiáng)的程度與溫度有關(guān)。在超高真空下，為了得到原子級(jí)清潔表面，加熱溫度必高于450度才行．加熱清洗方法特別有效。但有時(shí)，這種處理方法也會(huì)產(chǎn)生副作用。由于加熱的結(jié)果，可能發(fā)生某些碳?xì)浠衔锞酆铣奢^da的團(tuán)粒，并同時(shí)分解成碳渣。射頻離子源采用高頻電場(chǎng)來(lái)加速和離子化氣體分子，產(chǎn)生高能離子束。吉林射頻離子源廠家
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【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源，在其相對(duì)于待清洗的表面加負(fù)偏壓可以實(shí)現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳?xì)浠衔锏娜コ?。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量，從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當(dāng)分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣)，可以利用兩個(gè)適當(dāng)?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來(lái)達(dá)到清洗的目的。該方法中，惰性氣體被離化并轟擊真空室內(nèi)壁、真空室內(nèi)的其它結(jié)構(gòu)件及被鍍基片，它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣，對(duì)某些碳?xì)浠衔锟梢垣@得更好的清洗效果。因?yàn)檠鯕饪梢允鼓承┨細(xì)浠衔镅趸梢讚]發(fā)性氣體而容易被真空系統(tǒng)排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳?xì)浠衔铩V東射頻離子源價(jià)格