云南真空鍍膜設(shè)備技術(shù)

來源: 發(fā)布時間:2021-09-17

【真空鍍膜設(shè)備之渦輪分子泵】: 渦輪分子泵:渦輪分子泵是利用高速旋轉(zhuǎn)的動葉輪將動量傳給氣體分子,使氣體產(chǎn)生定向流動而抽氣的真空泵。主要用于高真空或超高真空,屬于干泵,極限真空10&7~10&8Torr,烘烤后可到10&10Torr,抽速可從50L/S~3500L/S。分子泵是靠高速轉(zhuǎn)動的渦輪轉(zhuǎn)子攜帶氣體分子而獲得高真空、超高真空的一種機械真空泵。泵的轉(zhuǎn)速為10000轉(zhuǎn)/分到50000轉(zhuǎn)/分,這種泵的抽速范圍很寬,但不能直接對大氣排氣,需要配置前級泵。分子泵抽速與被抽氣體的種類有關(guān),如對氫的抽速比對空氣的抽速大20%。 真空鍍膜設(shè)備主要用途?云南真空鍍膜設(shè)備技術(shù)

【光譜分光不良的補救(補色)之停電】: 分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確,補救成功率比較高。 中斷的原因形式之停電: 對于停電這種情況,比較好處理,只要確認(rèn)前面鍍的沒錯,程序沒有用錯,就可以繼續(xù)原來的程序,要注意的是:如果某一層鍍了一部分繼續(xù)鍍下去時,交接處要減少一些膜厚(根據(jù)膜料、蒸發(fā)速率決定減少多少,一般時0.2~1nm左右),如果該層剩下的膜厚不足15~20秒蒸鍍時,要考慮降低蒸發(fā)速率或干脆不讀,通過后續(xù)層調(diào)整膜厚解決。 山東真空鍍膜設(shè)備自動控制系統(tǒng)真空鍍膜設(shè)備使用時,需要注意哪些問題?

【濺射鍍膜定義】: 定義:所謂濺射,就是這充滿腔室的工藝氣體在高電壓的作用下,形成氣體等離子體(輝光放電),其中的陽離子在電場力作用下高速向靶材沖擊,陽離子和靶材進行能量交換,使靶材原子獲得足夠的能量從靶材表面逸出(其中逸出的還可能包含靶材離子)。這一整個的動力學(xué)過程,就叫做濺射。入射離子轟擊靶面時,將其部分能量傳輸給表層晶格原子,引起靶材中原子的運動。有的原子獲得能量后從晶格處移位,并克服了表面勢壘直接發(fā)生濺射;有的不能脫離晶格的束縛,只能在原位做振動并波及周圍原子,結(jié)果使靶的溫度升高;而有的原子獲得足夠大的能量后產(chǎn)生一次反沖,將其臨近的原子碰撞移位,反沖繼續(xù)下去產(chǎn)生高次反沖,這一過程稱為級聯(lián)碰撞。級聯(lián)碰撞的結(jié)果是部分原子達到表面,克服勢壘逸出,這就形成了級聯(lián)濺射,這就是濺射機理。當(dāng)級聯(lián)碰撞范圍內(nèi)反沖原子密度不高時,動態(tài)反沖原子彼此間的碰撞可以忽略,這就是線性級聯(lián)碰撞。

【真空鍍膜機概述】: 真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發(fā),電子搶加熱蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 真空鍍膜機構(gòu)造的五大系統(tǒng):排氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、蒸鍍系統(tǒng)、監(jiān)控系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)。 真空鍍膜三要素:真空度、抽氣時間、溫度;任何鍍膜工藝都需要為這三個要素設(shè)定目標(biāo)值;因此,只有當(dāng)三個條件同時滿足時,自動化程序才會自動運行。 真空鍍膜機需要做定期定期保養(yǎng),目的在于:讓鍍膜機能長時間地正常運轉(zhuǎn);降低故障時間,避免影響產(chǎn)能,減少損失;提高機器精度,穩(wěn)定品質(zhì);加快抽氣速度,提升機器利用率等。國產(chǎn)真空鍍膜設(shè)備哪家好?

【真空鍍膜電阻加熱蒸發(fā)法】: 電阻加熱蒸發(fā)法就是采用鎢、鉬等高熔點金屬,做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源,其上裝入待蒸發(fā)材料,讓電流通過,對蒸發(fā)材料進行直接加熱蒸發(fā),或者把待蒸發(fā)材料放入坩鍋中進行間接加熱蒸發(fā)。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜設(shè)備構(gòu)造簡單、造價便宜、使用可靠,可用于熔點不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜,尤其適用于對膜層質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中。目前在鍍鋁制品的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。電阻加熱方式的缺點是:加熱所能達到的Zui高溫度有限,加熱器的壽命也較短。近年來,為了提高加熱器的壽命,國內(nèi)外已采用壽命較長的氮化硼合成的導(dǎo)電陶瓷材料作為加熱器。 真空鍍膜設(shè)備抽真空步驟。山東真空鍍膜設(shè)備自動控制系統(tǒng)

真空鍍膜設(shè)備產(chǎn)業(yè)集群。云南真空鍍膜設(shè)備技術(shù)

【光譜分光不良的補救(補色)之其他情況】: 分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確,補救成功率比較高。 中斷的原因形式之其他情況: 對于用錯程序,錯誤操作(預(yù)熔未關(guān)閉擋板等)人為中斷需要補救的;以及反光膜、濾光膜鍍后需要補救的情況處理方案: 模擬:將實測分光數(shù)據(jù)輸入計算機膜系設(shè)計程序的優(yōu)化目標(biāo)值。通過計算機模擬(一般是Zui后一層的膜厚確認(rèn)),找到與實現(xiàn)測試值結(jié)果相應(yīng)的膜系數(shù)據(jù)。 優(yōu)化:根據(jù)模擬得到的膜系數(shù)據(jù),輸入產(chǎn)品要求的優(yōu)化目標(biāo)值,通過加層、優(yōu)化后續(xù)膜層的方法,重新優(yōu)化設(shè)計一個補救膜系。 試鍍:確認(rèn)、完善補救膜系效果 補救鍍:完成補救工作 云南真空鍍膜設(shè)備技術(shù)

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